JP2008034412A5 - - Google Patents

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  1. パターンを有する構造体の製造方法であって、
    被加工層のパターン形成領域に、表面に凹凸構造を有するスタンパをプレスし、第1のパターンを形成する第1のパターン形成工程と、
    前記第1のパターンを形成した際のパターン形成領域とスタンパとの相対的な位置を移動させ、前記スタンパを前記パターン形成領域の少なくとも一部にプレスし、第2のパターンを形成する第2のパターン形成工程と、
    を有することを特徴とするパターンを有する構造体の製造方法。
  2. 前記スタンパは、前記表面の凹凸構造が四角格子状に配列された構造を備え、
    前記第2のパターンが、前記スタンパにより形成された第1のパターンの四角格子配列のユニットセルを成す四角形の重心点の位置に形成されることを特徴とする請求項1に記載のパターンを有する構造体の製造方法。
  3. 前記スタンパは、前記表面の凹凸構造が三角格子状に配列された構造を備え、
    前記第2のパターンが、前記スタンパにより形成された第1のパターンの三角格子配列のユニットセルを成す三角形の重心点の位置に形成され、
    更に、第3のパターンが、前記第1のパターンの前記三角形における前記第2のパターンが形成されていない重心点の位置に形成されることを特徴とする請求項1に記載のパターンを有する構造体の製造方法。
  4. 前記被加工層が、熱可塑性材料で形成されることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のパターンを有する構造体の製造方法。
  5. 前記第2のパターン形成工程において、熱可塑性材料によって形成された被加工層に熱転写で前記第2のパターンを形成するに際し、
    前記第2のパターンの形成条件を、前記第1のパターン形成工程での第1のパターンの形成条件と異なる形成条件とし、
    前記第2のパターンの形状が前記第1のパターン形成工程で形成された第1のパターン形状と等しくなるように、前記第2のパターンを形成することを特徴とする請求項4に記載のパターンを有する構造体の製造方法。
  6. 前記第2のパターンの形成条件が、
    前記被加工層と前記スタンパとの加熱温度の調整、前記加熱温度とプレス圧力の調整、前記加熱温度と前記プレス圧力とプレス時間の調整、のいずれかの選択によることを特徴とする請求項5に記載のパターンを有する構造体の製造方法。
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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5294565B2 (ja) * 2006-03-17 2013-09-18 キヤノン株式会社 発光素子及び発光素子の製造方法
EP2086745A4 (en) * 2006-10-25 2013-04-03 Agency Science Tech & Res MODIFYING PROPERTIES OF ANCHORING THE SURFACE OF A SUBSTRATE
EP2171538A4 (en) * 2007-06-27 2011-08-17 Agency Science Tech & Res METHOD FOR MANUFACTURING SECONDARY PRINTING ON PRINTED POLYMER
JP2009238777A (ja) * 2008-03-25 2009-10-15 Toshiba Corp 半導体装置の製造方法
JP5376930B2 (ja) * 2008-12-19 2013-12-25 キヤノン株式会社 液体吐出ヘッドの製造方法
NL2003875A (en) 2009-02-04 2010-08-05 Asml Netherlands Bv Imprint lithography method and apparatus.
CN102566258B (zh) * 2010-12-29 2013-09-18 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 双压印方法
CN103826829B (zh) * 2011-07-11 2015-12-23 Scivax股份有限公司 具有用于加压部的固定工具的流体压印装置
EP3108629B1 (en) * 2014-02-18 2020-10-28 Qualcomm Incorporated Antenna selection in lte/lte-a networks with unlicensed spectrum
CN110299284B (zh) * 2018-03-23 2020-11-03 联华电子股份有限公司 图案化方法以及图案化结构

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0521310A (ja) 1991-07-11 1993-01-29 Canon Inc 微細パタン形成方法
US6309580B1 (en) 1995-11-15 2001-10-30 Regents Of The University Of Minnesota Release surfaces, particularly for use in nanoimprint lithography
US6482742B1 (en) 2000-07-18 2002-11-19 Stephen Y. Chou Fluid pressure imprint lithography
US5772905A (en) 1995-11-15 1998-06-30 Regents Of The University Of Minnesota Nanoimprint lithography
US20040137734A1 (en) 1995-11-15 2004-07-15 Princeton University Compositions and processes for nanoimprinting
US6518189B1 (en) 1995-11-15 2003-02-11 Regents Of The University Of Minnesota Method and apparatus for high density nanostructures
US6602620B1 (en) 1998-12-28 2003-08-05 Kabushiki Kaisha Toshiba Magnetic recording apparatus, magnetic recording medium and manufacturing method thereof
KR100335070B1 (ko) * 1999-04-21 2002-05-03 백승준 압축 성형 기법을 이용한 미세 패턴 형성 방법
US6498640B1 (en) * 1999-12-30 2002-12-24 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method to measure alignment using latent image grating structures
US7322287B2 (en) 2000-07-18 2008-01-29 Nanonex Corporation Apparatus for fluid pressure imprint lithography
US7211214B2 (en) 2000-07-18 2007-05-01 Princeton University Laser assisted direct imprint lithography
JP2003068618A (ja) 2001-08-28 2003-03-07 Canon Inc 露光装置、デバイス製造方法、半導体製造工場および露光装置の保守方法
JP3830386B2 (ja) 2001-12-20 2006-10-04 英夫 吉田 陽極酸化法およびその処理装置
US6999156B2 (en) 2002-09-30 2006-02-14 Chou Stephen Y Tunable subwavelength resonant grating filter
CN1726433B (zh) 2002-11-12 2010-12-15 普林斯顿大学 用于纳米压印的组合物和方法
JP2004296780A (ja) 2003-03-27 2004-10-21 Canon Inc X線露光装置
DE10330456B9 (de) * 2003-07-05 2007-11-08 Erich Thallner Vorrichtung zum Erstellen einer Oberflächenstruktur auf einem Wafer
JP4093574B2 (ja) * 2003-09-22 2008-06-04 株式会社東芝 インプリントスタンパの製造方法、および磁気記録媒体の製造方法
JP2005101201A (ja) 2003-09-24 2005-04-14 Canon Inc ナノインプリント装置
JP4937500B2 (ja) * 2004-06-15 2012-05-23 大日本印刷株式会社 インプリント方法
US7686970B2 (en) * 2004-12-30 2010-03-30 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
US7490547B2 (en) * 2004-12-30 2009-02-17 Asml Netherlands B.V. Imprint lithography
US7209217B2 (en) * 2005-04-08 2007-04-24 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing plural patterning devices
JP5213335B2 (ja) * 2006-02-01 2013-06-19 キヤノン株式会社 インプリント用モールド、該モールドによる構造体の製造方法

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