JP4093574B2 - インプリントスタンパの製造方法、および磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、磁気記録媒体の製造に供するインプリントスタンパ、その製造方法、磁気記録媒体およびその製造方法に関する。

近年、パソコンなど情報機器の飛躍的な機能向上により、記録密度の高い情報記録再生装置に対する期待は高まるばかりである。記録密度を向上させるためには、記録媒体において記録の書き込み単位である１つの記録セルや記録マークなどの記録材料の大きさを微小化することが必要である。

一般的に、ハードディスクなどの磁気記録媒体（メディア）の記録層には、単結晶の粒度分布の広い多結晶体を用いている。これらの単結晶には熱揺らぎが生じるため、粒の小さい単結晶程、熱揺らぎの影響を大きく受けて記録が不安定となる。このため、小さい記録セルでは、記録が不安定になり、ノイズが増大する。これは、記録セルに含まれる結晶粒の数が少なくなることと、記録セル間の相互作用が相対的に大きくなることに起因する。

これらの問題を回避するため、磁気記録の分野においては、あらかじめ記録材料を非記録材料により分断し、単一の記録材料粒子を単一の記録セルとして記録再生を行うパターンドメディアが提案されている（例えば、非特許文献１参照。）。

このパターンドメディアの作成方法には、光や電子線を用いた人工的描画法やジブロックポリマーや微粒子等の自己組織材料により記録材料を作成する方法が挙げられる。前者は高精度高密度のメディアを作成できるが、後者より時間がかかる。一方、後者は高密度のメディアを短時間で作成することができるが、前者より精度は落ちる（例えば、特許文献１参照。）。

一方、パターンドメディアを記録再生する時は、記録ヘッドと再生ヘッドを備えた記録再生ヘッドがメディア上を走行する。記録再生ヘッドの位置決めは、メディア上のサーボ領域に記録された位置決め信号を用いて行われる。この位置決めによって、記録再生ヘッドがメディア上の各記録ドットに対して正しくアクセスし、記録再生を行う。
Ｓ．Ｙ．Ｃｈｏｕ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，７６（１９９４）ｐｐ６６７３ 特開２００１-８２４３６公報

高密度のデータ領域を持つ磁気記録媒体は高精度のサーボ領域を必要とする。上述した自己組織材料によるパターンドメディアの作成方法においては、想定される記録媒体の記録密度は約200Gbpsi以上、記録ドットの直径は約100nm以下となる。すると、約10nm以下の位置決め精度が必要となる。

しかし、サーボ領域の位置決め信号のような微細なパターンを描くのに、ドット形状（粒形状）の記録材料は適さない。また、サーボ領域を描く際に、データ領域の記録材料と同じ大きさの材料を用いて、記録材料より高い位置決め精度を達成することも困難である。さらに、自己組織材料を用いると、材料自身の揺らぎやアニール時の揺らぎに起因する
ドットの位置ずれ、サイズずれが生じる。この位置ずれやサイズずれのため、現状の自己組織材料は、高精度を必要とするサーボ領域の位置決め信号には適さない。従って、サーボ領域の位置決め信号は、人工的描画法を用いて作成されることが望ましい。

このような状況を鑑みて、発明者らは一枚の基板に両方の手法を混在させることを試みたが、以下のような問題を発見した。

つまり、現在の自己組織材料によるパターンドメディアの作成方法は、メディア全面にパターンを作成することは可能だが、メディアの一部のみ、特に細かな区間に区切られた領域にパターンを作成するのは難しい。従って、サーボ領域の位置決め信号を描いた後に自己組織材料を塗布すると、人工的描画により作成したいサーボ領域まで自己組織材料によるパターンで覆ってしまう。このため、不要なドットがサーボ領域にも生じてしまい、サーボ領域の位置決め信号の精度が下がってしまう。

一方、自己組織材料によるパターンを先に形成させた後にサーボ領域の位置決め信号を作成しようとすると、基板上のサーボ領域部分の材料は自己組織化過程のアニ−ル時の高温に耐える材料でなければならないため、その後の人工的描画に適さない。

従って、現状の技術では、高密度のデータ領域と高精度のサーボ領域を備える磁気記録媒体を製造することは困難であった。

本発明は、このような事情に鑑み、自己組織材料によるパターンドメディアを用いて作成した高記録密度のデータ領域と、高精度のサーボ領域とを備える磁気記録媒体とその製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、このような磁気記録媒体を簡便な方法にて提供する磁気記録媒体製造用インプリントスタンパとその製造方法を提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、第一の発明の磁気記録媒体製造用インプリントスタンパの製造方法は、人工的描画法により、スタンパ材のサーボ領域に対応した第一の転写領域に矩形状の鋳型パターンを形成し、データ領域に位置整合した第一の非転写領域に平坦な表面を形成し、セクタサーボ方式の磁気記録媒体に対応するサーボ領域用原盤インプリントスタンパを作成する工程と、基板上に形成したレジスト膜において、磁気記録媒体のデータ領域に位置整合する領域に窪み部を形成する工程と、基板表面の窪み部に自己組織材料を埋め込む工程と、基板において、自己組織化材料を相分離構造化する工程と、基板表面の窪み部の相分離構造を元に、基板表面を加工することにより六方格子状に配列した複数のドット状の鋳物パターンを形成する工程と、鋳物パターンをスタンパ材に転写することにより、磁気記録媒体のデータ領域に対応した第二の転写領域に六方格子状に配列した複数のドット状の鋳型パターンを備えるデータ領域用原盤インプリントスタンパを作成する工程と、互いに対となるサーボ領域用原盤インプリントスタンパとデータ領域用原盤インプリントスタンパの鋳型パターンを原盤用基板に順次転写することにより、表面に鋳物パターンを備える原盤を作成する工程と、原盤の鋳物パターンをスタンパ材に転写することにより、鋳型パターンを備える複合型媒体インプリントスタンパを作成する工程と、を特徴とする。

また、第二の発明の磁気記録媒体の製造方法は、人工的描画法により、スタンパ材のサーボ領域に対応した第一の転写領域に矩形状の鋳型パターンを形成し、データ領域の位置に整合した第一の非転写領域に平坦な表面を形成し、セクタサーボ方式の磁気記録媒体に対応するサーボ領域用原盤インプリントスタンパを作成する工程と、基板上に形成したレジスト膜において、磁気記録媒体のデータ領域の位置に整合する領域に窪み部を形成する工程と、基板表面の窪み部に自己組織材料を埋め込む工程と、基板において、自己組織化材料を相分離構造化する工程と、基板表面の窪み部の相分離構造を元に、基板表面を加工することにより六方格子状に配列した複数のドット状の鋳物パターンを形成する工程と、鋳物パターンをスタンパ材に転写することにより、磁気記録媒体のデータ領域に対応した
第二の転写領域に六方格子状に配列した複数のドット状の鋳型パターンを備えるデータ領域用原盤インプリントスタンパを作成する工程と、互いに対となるサーボ領域用原盤インプリントスタンパとデータ領域用原盤インプリントスタンパの鋳型パターンを原盤用基板に順次転写することにより、複数の矩形状のパターンが形成された領域と六方格子状に配列した複数のドット形状のパターンが形成された領域を表面に備える鋳物パターンを備える原盤を作成する工程と、原盤の鋳物パターンをスタンパ材に転写することにより、鋳型パターンを備える複合型媒体インプリントスタンパを作成する工程と、複合型媒体インプリントスタンパの鋳型パターンを、磁気記録媒体用基板に転写することにより、鋳物パターンに並んだ磁性記録材料を備える磁気記録媒体を作成する工程と、を備えることを特徴
とする。

また、第三の発明の磁気記録媒体の製造方法は、人工的描画法により、スタンパ材のサーボ領域に対応した第一の転写領域に矩形状の鋳型パターンを形成し、データ領域の位置に整合した第一の非転写領域に平坦な表面を形成し、セクタサーボ方式の磁気記録媒体に対応するサーボ領域用媒体インプリントスタンパを作成する工程と、基板上に形成したレジスト膜において、磁気記録媒体のデータ領域に対応する領域に窪み部を形成する工程と、基板表面の窪み部に自己組織材料を埋め込む工程と、基板において、自己組織化材料を相分離構造化する工程と、基板表面の窪み部の相分離構造を元に、基板表面を加工することにより六方格子状に配列した複数のドット状の鋳物パターンを形成する工程と、鋳物パターンをスタンパ材に転写することにより、磁気記録媒体のデータ領域に対応した第二の
転写領域に六方格子状に配列した複数のドット状の鋳型パターンを備えるデータ領域用媒体インプリントスタンパを作成する工程と、互いに対となるサーボ領域用媒体インプリントスタンパとデータ領域用媒体インプリントスタンパの鋳型パターンを磁気記録媒体用基板に順次転写することにより、複数の矩形状のパターンが形成された領域と六方格子状に配列した複数のドット形状のパターンが形成された領域を表面に備える磁気記録媒体を作成する工程と、を備えることを特徴とする。

次に、上記各発明において、使用した言葉について説明する。

本発明における「矩形」とは、矩形における短辺の１／２以下の曲率半径を持った曲線と直線により形成される。この矩形における角近傍の曲線の曲率半径は、矩形を描く描画装置の分解能に基づく。

「サーボ領域用インプリントスタンパ」とは、磁気記録媒体のサーボ領域の形成に供するものである。そのうち、原盤作成工程において使用するものを「サーボ領域用原盤インプリントスタンパ」と称し、磁気記録媒体作成工程において直接使用するものを「サーボ領域用媒体インプリントスタンパ」と称する。両者は、その用途が異なるのみであって、その実体は、「サーボ領域用インプリントスタンパ」となんら変わるところはない。

同様に、「データ領域用インプリントスタンパ」とは、磁気記録媒体のデータ領域の形成に供するものである。そのうち、原盤作成工程において使用するものを「データ領域用原盤インプリントスタンパ」と称し、磁気記録媒体作成工程において直接使用するものを「データ領域用媒体インプリントスタンパ」と称する。両者は、その用途が異なるのみであって、その実体は、「データ領域用インプリントスタンパ」となんら変わるところはない。

さらに、「複合型インプリントスタンパ」とは、磁気記録媒体のサーボ領域とデータ領域の形成に供するものである。そのうち、磁気記録媒体作成工程において直接使用するものを「複合型媒体インプリントスタンパ」と称する。

「非転写領域」とは、磁気記録媒体製造におけるインプリントスタンパを転写する工程において、被転写体と接触もしくは非接触の状態にあって、転写後の被転写体に凹凸構造を形成しない領域をさす。

「鋳物パターン」とは、磁気記録媒体製造におけるインプリントスタンパを転写する工程において、磁気記録媒体用基板の表面に生じる一部もしくは全体の凹凸構造を示すものである。「鋳型パターン」は、「鋳物パターン」の凹凸構造を形成するための型であり、一方の凹部は他方の凸部に対応する。従って、「鋳型パターン」とは、インプリントスタンパ表面の一部もしくは全体の凹凸構造を示すものである。

一般に、鋳物とは、溶かした金属を鋳型に流し込んで器物を作ることをいい、鋳型とは、鋳物を鋳造するときに、溶かした金属を流し込む型のことをいう。しかし、ここで行われる鋳造とみなす転写は、表面パターンの転写を主眼とするものであり、全体形状をかたどるものではない。また、鋳物とみなす磁気記録媒体基板の素材も金属に限定されるものではなく、後述する材料等を用いることができる。

また、これらの用語は、最終製作物である磁気記録媒体を「鋳物」であると見なして、表面の凹凸構造を規定している。従って、一般には、「鋳物」から「鋳型」を作成することはできないが、この発明においては、原盤の「鋳物パターン」を転写して複合型媒体インプリントスタンパの「鋳型パターン」を作成することもできる。

第一の発明の磁気記録媒体製造用インプリントスタンパによれば、磁気記録媒体のサーボ領域に対応する第一の転写領域は、サーボ領域に適した矩形状のパターンを有し、不要なドットは存在しない。従って、互いに対となるサーボ領域用インプリントスタンパおよびデータ領域用インプリントスタンパを用いれば、従来の自己組織材料を用いた磁気記録媒体に比べ、より高精度のサーボ領域を持つ磁気記録媒体を作成することが可能である。

第二の発明の磁気記録媒体製造用インプリントスタンパによれば、サーボ領域に好適なパターンとデータ領域に好適なパターンを磁気記録媒体に一括転写することが可能である。従って、複合型インプリントスタンパを用いて、より効率的に磁気記録媒体を製造することが可能である。

第三の発明の磁気記録媒体製造用インプリントスタンパの製造方法によれば、サーボ領域用原盤インプリントスタンパとデータ領域用原盤インプリントスタンパにより原盤を作成し、この原盤を用いて複合型媒体インプリントスタンパを作成した。これより、従来の人工的描画法により作成する場合に比べ、第六の発明の磁気記録媒体と同等の記録密度と精度を具有する磁気記録媒体用の原盤の作成時間を大幅に短縮することが可能である。

第四の発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、複合型媒体インプリントスタンパを用いて一括転写することにより、サーボ領域に対応する第一の転写領域とデータ領域に対応する第二の転写領域を同時に転写することが可能となる。同一の原盤から得られる磁気記録媒体については、第一の転写領域と第二の転写領域との相対的な位置情報は同じであるため、磁気記録媒体の製造時間を短縮できる等の効果を有する。

第五の発明の磁気記録媒体の製造方法によれば、サーボ領域用媒体インプリントスタンパとデータ領域用媒体インプリントスタンパを用いて磁気記録媒体を製造する。これにより、複数の異なる種類のサーボ領域とデータ領域がある場合には、個々の磁気記録媒体毎に適した第一の転写領域のパターンと第二の転写領域のパターンを選択して磁気記録媒体を製造できる等の効果を有する。

第六の発明のセクタサーボ方式の磁気記録媒体によれば、高記録密度のデータ領域と高精度のサーボ領域を備える磁気記録媒体を提供することができる。

以下に、本発明の各実施の形態について図面を参照しながら説明する。尚、実施の形態を通して共通の構成には同一の符号を付すものとし、重複する説明は省略する。また、各図は発明の説明とその理解を促すための模式図であり、その形状や寸法、比などは実際の装置と異なる個所があるが、これらは以下の説明と公知の技術を参酌して適宜、設計変更することができる。
（第一の実施の形態）
以下に、第一の発明の磁気記録媒体製造用インプリントスタンパに関わる第一の実施の形態を、図１（ａ）、図１（ｂ）、図２（ａ）および図２（ｂ）を参照して説明する。

図１（ａ）は、サーボ領域用インプリントスタンパ１ａの転写面を示す表面模式図である。図１（ｂ）は、図１（ａ）のサーボ領域用インプリントスタンパ１ａと対をなすデータ領域用インプリントスタンパ１ｂの転写面を示す表面模式図である。また、図２（ａ）および（ｂ）は、鋳型パターンにおける記録ドットに対応する部位がドット状の凹部５ｂ１であるときのインプリントスタンパを示す断面模式図である。図２（ａ）は、サーボ領域用インプリントスタンパ１ａの実線２ａで示す部分の断面模式図、図２（ｂ）は、データ領域用インプリントスタンパ１ｂの実線２ｂで示す部分の断面模式図である。

本実施の形態のインプリントスタンパは、円盤状であって、セクタサーボ方式の磁気記録媒体を製造するためのものである。従って、この磁気記録媒体は、データ領域の記録トラックは磁気記録媒体の表面に同心円状に並び、各記録トラックの位置情報（プリアンブル信号、アドレス信号、バースト信号等）を具備するサーボ領域は対応する複数のトラックを縦断するように軸側から外縁に向かって形成される。このサーボ領域は磁気記録媒体
に１以上形成される。

図１（ａ）に示すように、磁気記録媒体のサーボ領域に対応するサーボ領域用インプリントスタンパ１ａの第一の転写領域３ａは軸から外縁に向かう放射状の領域であり、同様の領域が磁気記録媒体上に６箇所形成されている。磁気記録媒体のデータ領域に位置整合するサーボ領域用インプリントスタンパ１ａの第一の非転写領域５ａは、第一の転写領域３ａ以外の領域であり、軸から外縁に向かう放射状の領域となる。

また、図１（ａ）および図１（ｂ）に示すように、データ領域用インプリントスタンパ１ｂの第二の非転写領域３ｂと第二の転写領域５ｂの位置関係は、サーボ領域用インプリントスタンパの第一の転写領域３ａと第一の非転写領域５ａの位置関係と同様である。

サーボ領域用インプリントスタンパ１ａは、図１（ａ）に示すように、磁気記録媒体のサーボ領域に対応する第一の転写領域３ａと、磁気記録媒体のデータ領域に位置整合する領域５ａを備える。また、データ領域用インプリントスタンパ１ｂは、図１（ｂ）に示すように、磁気記録媒体のデータ領域に対応する第二の転写領域５ｂと磁気記録媒体のサーボ領域に位置整合する領域３ｂを備える。

つまり、サーボ領域用インプリントスタンパ１ａの第一の転写領域３ａとデータ領域用インプリントスタンパ１ｂの第二の非転写領域３ｂは位置整合し、これらに位置整合する磁気記録媒体用基板等の部分表面には、第一の転写領域３ａによる鋳型パターンが転写されることになる。この第一の転写領域３ａの鋳型パターンは、磁気記録媒体におけるサーボ領域の磁性記録材料の鋳物パターン形成に供する。

同様に、サーボ領域用インプリントスタンパ１ａの第一の非転写領域５ａとデータ領域用インプリントスタンパ１ｂの第二の転写領域５ｂとは位置整合し、これらに位置整合する磁気記録媒体用基板の部分表面には、第二の転写領域５ｂによる鋳型パターンが転写されることになる。この第二の転写領域の鋳型パターンは、磁気記録媒体におけるデータ領域の磁性記録材料の鋳物パターン形成に供する。

次に、サーボ領域用インプリントスタンパ１ａの各領域について説明する。

第一の転写領域３ａのパターンは、サーボ領域に好適な人工的描画法により形成できる。第一の転写領域３ａには、夫々の底面が矩形状をなす複数の凹部により構成された鋳型パターンを備える。図２(a)に示すように、これらの凹部の深さは約50ｎｍである。凹部の底面の矩形は、例えば、バースト信号に対応する底面では、約25×43ｎｍ²、角の曲率半径12nmを想定している。

なお、図２（ａ）に示す第一の転写領域３ａには便宜上、一つの凹部のみ示すが、実際の第一の転写領域３ａには、この凹部が多数存在して鋳型パターンを形成している（図２に対応する図である、図３、図５、図６、図７、図８、図９および図１０についても同様）。

サーボ領域用インプリントスタンパ１ａの第一の非転写領域５ａは、凹凸構造のない、平坦な表面を備える。この特徴により、第一の非転写領域５ａは、被転写体に、後述するデータ領域用インプリントスタンパ１ｂの第二の転写領域５ｂによる良好な転写を助ける。

次に、データ領域用インプリントスタンパ１ｂの各領域について説明する。

第二の転写領域５ｂのパターンは、データ領域に好適な自己組織化材料を用いたパターン形成方法により形成できる。第二の転写領域５ｂには、記録ドットに対応する、六方格子状に配列した複数のドット状の凹部５ｂ１により構成された鋳型パターンを備える。この実施の形態においては、図２（ｂ）に示すように、ドット状の凹部５ｂ１の上面から見た直径は約10ｎｍであり、その深さは約50ｎｍを想定している。隣接する記録ドット２５との中心間の距離は約25ｎｍである。なお、ドット状の凹部５ｂ１は上面から見たときに円形であればよい。従って、ドット状の凹部５ｂ１は、図２（ｂ）においては円柱状であるが、半球状等の形状でもよい。

データ領域用インプリントスタンパ１ｂの第二の非転写領域３ｂは、凹凸構造のない、平坦な表面を備える。この特徴により、第二の非転写領域３ｂは、被転写体に、サーボ領域用インプリントスタンパ１ａの第一の転写領域３ａによる良好な転写を助ける。

なお、現状の直径約６．５ｃｍの磁気記録媒体用インプリントスタンパの表面は、完全な平面ではなく、高さ約１μｍまでの誤差を持つなだらかな曲面を持つことがある。従って、転写の際には、この曲面に沿って被転写体が密着する。この曲面の高さは、第一の転写領域３ａおよび第二の転写領域５ｂにおけるパターンの凹部の深さ約50ｎｍより数十倍の大きさではあるが、曲面の高さの変化は緩やかであるために、凹凸構造の転写には大きな影響を与えない。また、第一の非転写領域５ａおよび第二の非転写領域３ｂの「平坦な表面」も完全な表面ではなく、上述した曲面を持つ可能性が高い。

次に、サーボ領域用インプリントスタンパ１ａおよびデータ領域用インプリントスタンパ１ｂの材料について説明する。

サーボ領域用原盤インプリントスタンパ１ａおよびデータ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂの材料には、次の条件が求められる。すなわち、第三の実施の形態に記載するインプリントスタンパ製造方法におけるエッチング工程が可能な材料であること、第四の実施の形態に記載する磁気記録媒体製造方法における原盤用基板上に形成されたレジスト膜８よりも硬いことである。具体的には、金属、合金、金属酸化物、セラミック材料、ガラス等の無機材料や半導体、もしくはこれらの混合物などが挙げられる。特に、ニッケル（Ni）、アルミニウム（Al）、シリコン（Si）、シリコンカーバイド（SiC）、ガラス、石英、ダイヤモンド等が好ましい。

サーボ領域用媒体インプリントスタンパ１ａおよびデータ領域用媒体インプリントスタンパ１ｂの材料には、次の条件が求められる。すなわち、第三の実施の形態に記載するインプリントスタンパ製造方法におけるエッチング工程が可能な材料であること、第五の実施の形態に記載する磁気記録媒体製造方法における磁気記録媒体用基板上に形成されたレジスト膜９よりも硬いことである。具体的な材料は、原盤作成工程において使用する、サーボ領域用原盤インプリントスタンパ１ａおよびデータ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂと同様である。

以下に、第一の実施の形態の変形例を示す。

本実施の形態に関わるインプリントスタンパについて、インプリントスタンパの鋳型パターンの記録ドットに対応する部位が凸部であるときの変形例を図３（ａ）および図３（ｂ）を参照して説明する。

図３（ａ）および（ｂ）は、鋳型パターンにおける記録ドットに対応する部位がドット状の凹部５ｂ１であるときのインプリントスタンパを示す断面模式図である。図３（ａ）は、サーボ領域用インプリントスタンパ１ａの実線２ａで示す部分の断面模式図、図３（
ｂ）は、データ領域用インプリントスタンパ１ｂの実線２ｂで示す部分の断面模式図である。

この変形例は、サーボ領域用インプリントスタンパ１ａの第一の転写領域３ａおよびデータ領域用インプリントスタンパ１ｂの第二の転写領域５ｂの凹部が凸部になる他は、上述したものと同様である。以下に、異なる点を中心に説明する。

図３（ａ）に示すように、サーボ領域用インプリントスタンパ１ａ'の第一の転写領域３ａ'は、夫々の頭部は矩形状をなす複数の凸部により構成された鋳型パターンを備え、その高さは約50ｎｍである。また、図３（ｂ）に示すように、データ領域用インプリントスタンパ１ｂ'の第二の転写領域５ｂ'は、記録ドットに対応する、六方格子状に配列した複数のドット状の凸部５ｂ１'により構成された鋳型パターンを備える。この実施の形態においては、ドット状の凸部５ｂ１'の上面から見た直径は約10ｎｍであり、その高さは約50ｎｍを想定している。また、隣接する記録ドット２５との中心間の距離は約25ｎｍである。なお、ドット状の凸部５ｂ１'は上面から見たときに円形であればよい。従って、ドット状の凸部５ｂ１'は、図３（ｂ）においては円柱状であるが、半球状等の形状でもよい。

このように、磁気記録媒体のサーボ領域に対応する第一の転写領域３ａ、３ａ'と、磁気記録媒体のデータ領域に対応する第二の転写領域５ｂ，５ｂ'を異なるインプリントスタンパによって作成した。この実施の形態によれば、サーボ領域用インプリントスタンパの第一の転写領域３ａ，３ａ'において、従来生じていた不要なドットは存在しない。従って、互いに対となるサーボ領域用インプリントスタンパ１ａ，１ｂ'およびデータ領域用インプリントスタンパ１ｂ，１ｂ'を用いれば、より精度の高いサーボ領域を持つ磁気記録媒体を作成することが可能である。
（第二の実施の形態）
以下に、第二の発明の磁気記録媒体製造用インプリントスタンパに関わる第二の実施の形態を、図１（ｃ）および図２（ｃ）を参照して説明する。

図１（ｃ）は、複合型インプリントスタンパ１ｃの転写面を示す表面模式図である。図２（ｃ）は、図２（ａ）および（ｂ）に対応し、鋳型パターンにおける記録ドットに対応する部位５ｂ１が凹部であるときの複合型インプリントスタンパ１ｃの実線２ｃで示す部分の断面模式図である。

図１（ｃ）に示すように、複合型インプリントスタンパ１ｃは、円盤状であって、セクタサーボ方式の磁気記録媒体を製造するためのものである。従って、図１（ｃ）に示すように、磁気記録媒体のサーボ領域に対応する第一の転写領域３ｃは軸から外縁に向かう放射状の領域であり、磁気記録媒体のデータ領域に対応する第一の非転写領域５ｃは、第一の転写領域３ｃ以外の領域であり、軸から外縁に向かう放射状の領域となる。

複合型インプリントスタンパ１ｃは、第一の実施の形態におけるデータ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂおよびサーボ領域用原盤インプリントスタンパ１ａからそれらの鋳型パターンを１枚の原盤用基板上に順次転写し作成した原盤をさらに転写して得られる。

従って、図１（ａ）および図１（ｃ）に示すように、複合型インプリントスタンパ１ｃの第一の転写領域３ｃと第二の転写領域５ｃの位置関係は、サーボ領域用インプリントスタンパ１ａの第一の転写領域３ａと第一の非転写領域５ａの位置関係と同様である。

また、複合型インプリントスタンパ１ｃの第一の転写領域３ｃは、サーボ領域用インプリントスタンパ１ａの第一の転写領域３ａに対応し、第二の転写領域５ｃは、データ領域
用インプリントスタンパ１ｂの第二の転写領域５ｂに対応する。

つまり、複合型インプリントスタンパ１ｃの第一の転写領域３ｃに位置整合する磁気記録媒体用基板の部分表面には、第一の転写領域３ｃによる鋳型パターンが転写されることになる。この第一の転写領域３ｃの鋳型パターンは、磁気記録媒体におけるサーボ領域の磁性記録材料の鋳物パターン形成に供する。また、複合型インプリントスタンパ１ｃの第二の非転写領域５ｃに位置整合する磁気記録媒体用基板の部分表面には、第二の転写領域５ｃによる鋳型パターンが転写されることになる。この第二の転写領域５ｃの鋳型パターンは、磁気記録媒体におけるデータ領域の磁性記録材料の鋳物パターン形成に供する。

第一の転写領域３ｃおよび第二の転写領域５ｃの鋳型パターンは上述したものと同様である。すなわち、第一の転写領域３ｃは、複数の凹部により構成され、その凹部の底面は矩形状をなす。第二の転写領域５ｃは、六方格子状に配列した複数のドット状の凹部により構成される。

なお、複合型インプリントスタンパ１ｃの材料は、サーボ領域用インプリントスタンパ１ａおよびデータ領域用インプリントスタンパ１ｂと同様である。

以下に、第二の実施の形態の変形例を二つ示す。

一つめの変形例は、本実施の形態に関わるインプリントスタンパについて、インプリントスタンパの鋳型パターンの記録ドットに対応する部位が凸部であるときの変形例を図３（ｃ）を参照して説明する。

図３（ｃ）は、図３（ａ）および（ｂ）に対応し、鋳型パターンにおける記録ドットに対応する部位５ｃ１'が凸部であるときの複合型インプリントスタンパ１ｃの実線２ｃで示す部分の断面模式図である。

この変形例は、複合型インプリントスタンパ１ｃの第一の転写領域３ｃおよび第二の転写領域５ｂの凹部が凸部になる他は、上述したものと同様である。すなわち、図３（ｃ）に示すように、複合型インプリントスタンパ１ｃ'の第一の転写領域３ｃ'は、複数の凸部により構成されたパターンを備え、その頭部は矩形状であり、その高さは約50ｎｍである。第二の転写領域５ｃ'は、記録ドットに対応する、六方格子状に配列した複数のドット状の凸部５ｂ１'により構成される。この実施の形態においては、ドット状の凸部５ｂ１'の上面から見た直径は約10ｎｍであり、その高さは約50ｎｍを想定している。また、隣接する記録ドット２５との中心間の距離は約25ｎｍである。なお、ドット状の凸部５ｂ１'は上面から見たときに円形であればよい。従って、ドット状の凸部５ｂ１'は、図３（ｃ）においては円柱状であるが、半球状等の形状でもよい。

二つ目の変形例について説明する。

第二の発明に関わる磁気記録媒体製造用インプリントスタンパは、図１に示されるような磁気記録媒体の形状が円盤状であるものに限定されるものではない。磁気記録媒体の形状が長方形状である変形例について図４を参照して説明する。

図４は、この変形例に関わるインプリントスタンパを説明するための表面模式図である。この複合型インプリントスタンパ１ｃ''に対応する磁気記録媒体はセクタサーボ方式であり、長方形状を有する。各記録トラックは磁気記録媒体の長手方向に延びて、互いに平行に並び、サーボ領域は、複数の記録トラックにまたがるように形成される。よって、図４に示すように、その磁気記録媒体製造用の媒体インプリントスタンパのサーボ領域に対
応する第一の転写領域３ｃ''は全トラックにまたがるように形成され、磁気ヘッドの進行方向（記録トラックの長手方向）において所定の間隔にて形成される。（図４においては、トラック方向と直交するように第一の転写領域３ｃ''が存在する）。第二の転写領域５ｃ''は第一の転写領域３ｃ''以外の領域である。

本実施の形態の複合型インプリントスタンパ１ｃを用いれば、第一の転写領域３ｃと第二の転写領域５ｃを一度に転写することが可能である。従って、磁気記録媒体製造において、サーボ領域用インプリントスタンパ１ａおよびデータ領域用インプリントスタンパ１ｂの二枚のインプリントスタンパを用いるより、複合型インプリントスタンパ１ｃ一枚を用いる方がより効率的である。

また、通常、インプリントスタンパを用いて磁気記録媒体を製造する際には、常に同じ位置に転写するのは困難であり、転写の工程において位置ずれが生じる。この発明においては、サーボ領域用インプリントスタンパ１ａとデータ領域用インプリントスタンパ１ｂを順次転写する工程において、サーボ領域とデータ領域の相対的位置ずれが生じる。従って、磁気記録媒体作成工程において、サーボ領域用媒体インプリントスタンパ１ａとデータ領域用媒体インプリントスタンパ１ｂを用いた場合、サーボ領域とデータ領域の相対的位置ずれは磁気記録媒体ごとに異なる。すると、全ての磁気記録媒体について、相対的位置ずれ情報を取得する必要がある。

一方、この実施の形態においては、原盤作成工程において、サーボ領域用原盤インプリントスタンパ１ａとデータ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂを用いる。その後、原盤、次いで複合型媒体インプリントスタンパ１ｃを製造する。このとき、同一原盤由来の磁気記録媒体は、全て同一の相対的位置ずれ情報を備える。従って、複合型媒体インプリントスタンパ１ｃを用いて磁気記録媒体を製造した場合、一度、磁気記録媒体のサーボ領域とデータ領域の位置ずれ情報を取得すれば、同一原盤由来の磁気記録媒体全てにその位置ずれ情報を用いることができる。現状では、一つの原盤からは約100枚のインプリントスタンパ、一枚のインプリントスタンパから約10万枚の磁気記録媒体を作成できると考えられている。従って、複合型インプリントスタンパ１ｃを用いて作成した１枚の磁気記録媒体の位置ずれ情報を取得するだけで、約1000万枚の磁気記録媒体の位置ずれ情報を得られる。なお、これらの効果は、変形例についても同様である。
（第三の実施の形態）
以下に、第三の発明に関わる磁気記録媒体製造用インプリントスタンパの製造方法について、第三の実施の形態を、図５、図６、図７および図８を参照して説明する。

この実施の形態においては、第二の実施の形態におけるインプリントスタンパの製造方法を例に説明する。また、第二の実施の形態における複合型媒体インプリントスタンパ１ｃは、第一の実施の形態における、サーボ領域用原盤インプリントスタンパ１ａおよびデータ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂを用いて製造する。

まず、原盤インプリントスタンパの製造方法をサーボ領域用原盤インプリントスタンパ１ａおよびデータ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂを例に説明する。

サーボ領域用原盤インプリントスタンパ１ａは、スタンパ材表面にレジスト膜を塗布して人工的描画法によりレジスト膜にパターンを描画してこのレジスト膜をマスクとしてスタンパ材表面をエッチングすることにより形成する。人工的描画法としては、例えば、光描画法、電子線描画法、ＦＩＢ（集束イオンビーム）描画法、Ｘ線描画法、ＥＵＶ（極端紫外光）描画法あるいは近接場描画法などが挙げられる。

データ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂは、自己組織材料１３を用いた手法で作成
する。本実施の形態のデータ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂの製造方法について図５（ａ），（ｂ），（ｃ）および（ｄ）を参照して説明する。

図５（ａ）は、データ領域用インプリントスタンパ基板１１上にレジスト膜を形成した後、前記磁気記録媒体のサーボ領域に対応する領域のレジスト膜７およびこれに隣接する窪み部を形成する工程を説明するための断面模式図である。図５（ｂ）は、前記基板表面の窪み部に自己組織材料１３を埋め込み、アニ−ル処理を行うことにより自己組織化材料１３を相分離する工程を説明するための断面模式図である。図５（ｃ）は、前記基板表面の窪み部の相分離構造を元に、表面を加工することにより六方格子状に配列した複数のドット状の鋳物パターンを形成する工程を説明するための断面模式図である。図５（ｄ）は、前記鋳物パターンをスタンパ材に転写することにより、前記磁気記録媒体のデータ領域に対応した第二の転写領域に六方格子状に配列した複数のドット状の鋳型パターンを備えるデータ領域用原盤インプリントスタンパを形成する工程を説明するための断面模式図である。

まず、図５（ａ）に示すように、スピンコート法等により、データ領域用インプリントスタンパ作成用基板１１上にレジスト膜を形成し、人工的描画法による描画とエッチングにより、レジスト膜７とこれに隣接する窪み部を形成する。図５（ｄ）の工程の転写において、基板１１上のレジスト膜７は、データ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂの第ニの非転写領域３ｂを形成する領域であり、基板１１上の窪み部は、データ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂの第ニの転写領域５ｂに位置整合する領域である。なお、レジスト膜７と窪み部の形成は、インプリント法によって形成することもできる。インプリント法を用いた場合、窪み部の底面にレジスト残渣が生じ、基板は露出しない。

本実施の形態では、直径約10ｎｍの記録ドットとし、隣り合う記録ドット２５との中心距離は約25ｎｍを想定しているので、レジスト膜の厚さは約70ｎｍである。レジスト膜には、ノボラックタイプレジストを使用する。データ領域用インプリントスタンパ作成用基板１１の材料には、後述する図５（ｃ）の工程のエッチングが可能な材料を用いることができ、Ｓｉ、ガラス、もしくは石英が好ましい。

次に、図５（ｂ）に示すように、図５（ａ）で形成した基板１１表面の窪み部に自己組織材料１３を埋め、自己組織材料１３について相分離を行う。この工程における相分離構造は、六方格子状に配列したドット部（図５（ｂ）の○）と、ドット部の周りを取り囲むマトリクス部により構成される。

この実施の形態では、自己組織材料１３としてＰＳ（ポリスチレン）―ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）ジブロックコポリマーを使用することを想定している。このＰＳ−ＰＭＭＡジブロックコポリマーの分子量比は、ＰＳ２５％に対してＰＭＭＡ７５％である。このとき相分離構造は、ミセル構造を取り、エッチングレートの低いＰＳがドット部、エッチングレートの高いＰＭＭＡがマトリクス部を構成する。ＰＳ−ＰＭＭＡジブロックコポリマーはトルエンなどの適当な溶媒に溶解させ、製膜する。その後、ＰＳ−ＰＭＭＡジブロックコポリマーのガラス転移点温度以上の温度でアニ−ル処理を行うことにより、相分離構造を得る。この場合、窒素雰囲気下において、例えば約160℃、約10時間で相分離が起こる。

次に、図５（ｃ）に示すように、得られた相分離構造を元に、エッチングを施すことにより、基板１１上に鋳物パターンを形成する。この工程において、六方格子配列のドット部が凸部となり、マトリクス部が基板１１から除去される。この工程におけるエッチングは、酸素イオンを用いたＲＩＥ（リアクティブイオンエッチング）によって、約−20℃、約2mTorrの雰囲気で、約100Wの電界を印加して行う。なお、このとき、ＣＦ₄をエッチャ
ントとして用いるＲＩＥを用いてもよい。

最後に、図５（ｄ）に示すように、Ｎｉ電鋳処理等を行い、図５（ｃ）において得られた基板１１の鋳物パターンを転写し、Ｎｉ製のデータ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂに鋳型パターンを形成する。なお、この鋳型パターンにおいて、ドット状の凹部５ｂ１が磁気記録媒体の記録ドットに対応する。

次に、データ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂを製造する際の自己組織材料１３の材料について説明する。

自己組織材料１３として、上述の材料の他に、ブロックコポリマー、ポリマーあるいは金属などからなる数10ｎｍ径の微粒子などが利用可能である。

ブロックコポリマーを自己組織材料１３として利用する場合は、基板表面においてミセル構造もしくはシリンダ構造を形成するような成分比の分子を用いる。これらの構造を取ることにより、ドット状の互いに分離され六方格子状に規則配列した記録セル構造を記録層に形成することが可能となる。ここでは、ミセル構造もしくはシリンダ構造を構成するブロックについて、高いエッチング耐性を持つか、もしくは現像処理によりミセル構造もしくはシリンダ構造を構成するブロックのみが残るようなポリマーの組み合わせが必要である。例えば、ＰＳとポリブタジエンからなるブロックコポリマーを用いた場合には、オゾン処理によりＰＳブロックのみが残るように現像処理が可能である。

ポリマーや金属などからなる数10ｎｍ径の微粒子を自己組織材料１３として用いる場合には、この微粒子の入った分散液を、基板１１の上から展開、乾燥し溶媒を取り除いた後、適当な溶媒により過剰に吸着した微粒子を取り除くことにより、自己組織的な規則配列を作成することができる。また、微粒子を分散させた分散液中に媒体基板をある時間浸すことにより、微粒子を基板１１に吸着させ、規則配列を形成させることも可能である。

続いて、媒体インプリントスタンパの製造方法を第二の実施の形態における複合型媒体インプリントスタンパ１ｃの製造方法を例に説明する。図６（ａ），（ｂ），（ｃ）および（ｄ）は、複合型媒体インプリントスタンパ１ｃの製造方法を説明するための断面模式図である。

図６（ａ）は、データ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂを転写し、原盤用基板１５上に形成したレジスト膜の第二の転写領域に対応する領域に鋳物パターンを形成する工程を説明するための断面模式図である。図６（ｂ）は、サーボ領域用原盤インプリントスタンパ１ａの第一の転写領域を転写し、原盤用基板１５上に鋳物パターンを形成する工程を説明するための断面模式図である。図６（ｃ）は、原盤の鋳物パターンをスタンパ材に転写することにより、鋳型パターンを備える複合型媒体インプリントスタンパ１ｃを作成する工程を説明するための断面模式図である。

まず、図６（ａ）に示すように、スピンコート法等により、原盤用基板１５上にレジスト膜を形成する。その後、ナノインプリント法により、データ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂを用いて第二の転写領域５ｂの鋳型パターンをレジスト膜に転写することにより、レジスト膜の第二の転写領域５ｂに対応する領域に鋳物パターンをなすレジスト膜を形成する。このときレジスト膜において、第二の転写領域５ｂに対応する領域は、六方格子配列のドット状の凸部により構成された鋳物パターンであり、第二の非転写領域に位置整合する領域は平坦である。レジスト膜には、ノボラックタイプレジストを用い、その厚さは約70ｎｍである。また、原盤用基板１５の材料は、Ｓｉ、ガラス、もしくは石英が好ましい。

次に、図６（ｂ）に示すように、ナノインプリント法により、サーボ領域用原盤インプリントスタンパ１ａを用いて第一の転写領域３ａの鋳型パターンをレジスト膜表面に転写することにより、鋳物パターンをなすレジスト膜８を形成する。

最後に、図６（ｃ）に示すように、図６（ｂ）で得られた原盤１ｄについてＮｉ電鋳処理等を行うことにより、複合型媒体インプリントスタンパ１ｃを作成する。なお、この工程の前に、ＵＶ照射を行うことにより原盤１ｄ上のレジスト膜８を光硬化させる工程を行った方が好ましい。

図６（ａ）および（ｂ）の工程により、原盤用基板１５表面のレジスト膜８において、サーボ領域用原盤インプリントスタンパ１ａによる第一の転写領域３ａおよびデータ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂによる第二の転写領域５ｂの鋳物パターンを形成し、原盤１ｄが完成する。なお、データ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂとサーボ領域用原盤インプリントスタンパ１ａの転写順序は反対でも構わない。

また、図６（ａ）および（ｂ）の工程において、データ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂとサーボ領域用原盤インプリントスタンパ１ａを転写する際には、ずれが生じないように位置決めを行う。位置決め方法としては、物理的方法、光学的方法等が挙げられる。物理的な位置決め方法としては、ある特定のガイド構造物に対象物を接触させることで位置決めを行う。光学的位置決め方法は、二つの対象物に描かれた光学的な印を合わせることで行う。

以下に、第三の実施の形態の変形例を示す。

この変形例では、インプリントスタンパの鋳型パターンの記録ドットに対応する部位を凸部とする。第三の実施の形態では、図２において記載したインプリントスタンパを例に図５および図６を参照して説明したのに対し、この変形例では、図３において記載したインプリントスタンパを例に図７および図８を参照して説明する。

図７は、この変形例に関わるデータ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂ'の製造方法を説明するための図である。図７における図５との相違は、自己組織材料１３の種類、鋳型パターンを備えるデータ領域用インプリントスタンパ１ｂ' の形状である。以下に、図５と異なる点を説明する。

図７（ｂ）において用いたＰＳ−ＰＭＭＡジブロックコポリマーの分子量比はＰＳ：７５％に対してＰＭＭＡ２５％であり、この分子量比における相分離構造はエッチングレートの低いＰＳがマトリクス部、エッチングレートの高いＰＭＭＡがドット部となる。

図７（ｃ）は、得られた相分離構造をエッチングもしくは現像処理することにより、基板１１上の鋳物パターンを作成した工程である。この変形例では、六方格子配列のドット部が基板１１から除去され、マトリクス部が凸部となる。

図７（ｄ）は、図７（ｃ）において得られた基板１１表面にＮｉ電鋳処理等を行い、図７（ｃ）において得られた基板１１の鋳物パターンを転写し、Ｎｉ製のデータ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂ'に鋳型パターンを形成する。記録ドットに対応する部位は、図５（ｄ）においては、記録ドットに対応するのは鋳型パターンのドット状の凹部５ｂ１であり、図７（ｄ）では、鋳型パターンのドット状の凸部５ｂ１'である。

図８は、この変形例に関わる複合型媒体インプリントスタンパ１ｃ'の製造方法を説明
するための図である。図８における図６との相違は、鋳型パターンを備える各インプリントスタンパの形状および鋳物パターンをなすレジスト膜８' の形状であって、製造方法に違いはない。以下に、図６と異なる点を説明する。

図８（ａ）に示すように、データ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂ'の記録ドットに対応する部位はドット状の凸部５ｂ１'である。図８（ｂ）に示すように、サーボ領域用原盤インプリントスタンパ１ａ'の第一の転写領域３ａ'は、夫々の頭部は矩形状をなす複数の凸部により構成され、図８（ｃ）に示すように、複合型媒体インプリントスタンパ１ｃ'の記録ドットに対応する部位はドット状の凸部５ｃ１'である。

以上のように、本実施の形態では、サーボ領域用原盤インプリントスタンパ１ａとデータ領域用原盤インプリントスタンパ１ｂにより原盤１ｄを作成し、それを転写し、複合型媒体インプリントスタンパ１ｃを作成した。第六の実施の形態と同等の記録密度を持つ磁気記録媒体を対象とした場合において、全領域を電子線リソグラフィーにて描画すると、一枚の原盤１ｄを作成するのに約100時間必要である。それに対し、本実施の形態によれば、一枚の原盤１ｄを作成するのに約15時間で作成することができるようになる。

上述したように、現状では、一つの原盤１ｄからは約100枚のインプリントスタンパ、一枚のインプリントスタンパから約10万枚の磁気記録媒体を作成できると考えられている。ここで、原盤１ｄから複合型媒体インプリントスタンパ１ｃを製造するのに約10分かかり、複合型媒体インプリントスタンパ１ｃから磁気記録媒体を転写する際のスループットを１枚約3秒とすると、一枚の原盤１ｄから約10万枚の磁気記録媒体を作成するのに約30万秒すなわち約83時間かかる。このとき、原盤１ｄ製造ラインが１つであり、複合型媒体インプリントスタンパ１ｃから磁気記録媒体を製造する工程のラインが100あった場合を想定すると、従来法においては原盤作成に約100時間かかり、未稼動ラインが生じていたのに対し、本実施の形態においては、原盤作成に約15時間しかかからないので、未稼動ラインが生じない。さらに原盤作成時間が短いことで原盤の価格を大幅に下げることができる。なお、これらの効果は、変形例についても同様である。
（第四の実施の形態）
以下に、第四の発明に関わる磁気記録媒体の製造方法について説明する。この実施の形態においては、第二の実施の形態におけるインプリントスタンパを用いた磁気記録媒体の製造方法を例に、図９（ａ）および（ｂ）を参照して説明する。

図９（ａ）は、磁性層２３を具備した磁気記録媒体用基板１７上にレジスト膜を形成し、複合型媒体インプリントスタンパ１ｃの鋳型パターンを転写する工程を説明するための断面模式図である。図９（ｂ）は、図９（ａ）で形成した鋳物パターンをなすレジスト膜９をマスクとして磁性体を加工する工程を説明するための断面模式図である。

まず、図９（ａ）に示すように、スピンコート法等を用いて、表面に磁性層２３を具備した磁気記録媒体用基板１７にレジスト膜を形成する。その後、このレジスト膜に複合型媒体インプリントスタンパ１ｃの鋳型パターンを転写することにより、鋳物パターンをなすレジスト膜９を形成する。

次に、図９（ｂ）では、表面のレジスト膜９の鋳物パターンをマスクとして磁性層２３をＡｒミリング処理などの磁性体加工プロセスによりエッチング処理して、磁気記録媒体１ｅの記録ドット２５を形成する。Ａｒミリング処理は、分圧2.5×10^-4Ｔｏｒｒ、1000Ｖの条件で行う。なお、記録ドット２５のマトリクス部をＳｉＯ₂、カーボン、アルミナ、ＰＭＭＡ、ＰＳ等のポリマーもしくは円滑油等の材料で埋めても良い。

この結果、記録ドット２５は直径約10ｎｍ、隣り合う記録ドット２５との中心距離は約
25ｎｍであって、サーボ領域３ｅの位置決め精度が、2ｎｍ、記録密度800Ｇｂｐｓｉの記録媒体が得られた。

以下に、第四の実施の形態の変形例を示す。

この変形例では、鋳型パターンの記録ドットに対応する部位５ｃ１'を凸部とする。ここでは、第三の実施の形態の変形例として挙げた複合型媒体インプリントスタンパ１ｃ'を用いた製造方法を例として、図１０（ａ）および（ｂ）を参照して説明する。

図１０（ａ）は、スピンコート法等を用いて、磁気記録媒体用基板１７上にレジスト膜を形成し、複合型媒体インプリントスタンパ１ｃ'の鋳型パターンを転写する工程を説明するための断面模式図である。図１０（ｂ）は、図１０（ａ）で形成した鋳物パターンをなすレジスト膜９' の凹部に磁性記録材料を埋め込み、記録ドット２５を作成する工程を説明するための断面模式図である。

まず、図１０（ａ）に示すように、図９（ａ）とは異なり、磁気記録媒体用基板１７上に磁性層を介さずにレジスト膜を形成する。その後、このレジスト膜に複合型媒体インプリントスタンパ１ｃ'の鋳型パターンを転写し、鋳物パターンをなすレジスト膜９' を形成する。このとき、記録ドット２５に対応する部位はレジスト膜９' に隣接する凹部となる。

次に、図１０（ｂ）に示すように、ドット状の凹部に記録ドット２５' を埋め込む。記録ドット２５' を埋め込む手法は無電解メッキ、電解メッキ、スパッタ法等がある。なお、メッキを用いる際には、メッキ成長を促すために下地を露出させることが好ましい。そのために、記録ドット２５' を埋め込む前に、レジスト膜９' に隣接する基板１７表面のレジスト残渣をＲＩＥ法等によりエッチングにより除去することが望ましい。また、磁性記録材料を埋め込み、記録ドット２５'を作成した後に、表面をＣＭＰ（ケミカルメカニカルポリッシング）エッチングなどで平坦化し、レジスト膜９' 上にある磁性記録材料の残渣を除去する工程を加えても良い。

この実施の形態によれば、得られた複合型媒体インプリントスタンパ１ｃを用いて一回の転写により、サーボ領域に対応する第一の転写領域３ｃとデータ領域に対応する第二の転写領域５ｃを同時に転写することが可能となる。一方、第五の実施の形態における磁気記録媒体製造方法は、サーボ領域用媒体インプリントスタンパ１ａとデータ領域用媒体インプリントスタンパ１ｂを順次転写する。従って、第五の実施の形態に比べ、本実施の形態は、一回の転写工程に要する時間（例えば、約３秒）について時間短縮ができる。

さらに、第五の実施の形態の製造方法では、磁気記録媒体ごとに位置ずれ情報を取得する必要があるため、全ての磁気記録媒体について、位置ずれ情報取得の工程が必要である。この工程には、一枚あたりに約10秒の時間がかかる。この実施の形態では、一度、磁気記録媒体のサーボ領域３ｅとデータ領域５ｅの位置ずれ情報を把握すれば、同一原盤１ｄ由来の同じ位置ずれ情報を持つ磁気記録媒体全てにその位置ずれ情報を用いることができる。従って、この位置ずれ情報取得の工程は不要となり、一枚あたり約10秒の時間を短縮し、磁気記録媒体の製作時間を大幅に短縮することができる。

以上から本実施の形態は、高記録密度かつ高い位置決め精度を具有する磁気記録媒体の大量生産に適している。なお、これらの効果は、変形例についても同様である。
（第五の実施の形態）
以下に、第五の発明に関わる磁気記録媒体の製造方法について説明する。この実施の形態においては、第一の実施の形態におけるインプリントスタンパを用いた磁気記録媒体の
製造方法を例に説明する。

第五の実施の形態は、第四の実施の形態と同様にインプリントスタンパを用いた磁気記録媒体の製造方法に関わるものである。第四の実施の形態が第二の実施の形態の複合型媒体インプリントスタンパ１ｃを用いるのに対し、第五の実施の形態は、第一の実施の形態のサーボ領域用媒体インプリントスタンパ１ａおよびデータ領域用媒体インプリントスタンパ１ｂを用いる。

すなわち、この実施の形態においては、図９（ａ）に示す複合型媒体インプリントスタンパ１ｃを転写する工程が、データ領域用媒体インプリントスタンパ１ｂおよびサーボ領域用媒体インプリントスタンパ１ａを磁気記録媒体用基板１７上に順次転写する工程に代わる。この際、転写の順序は問わず、この工程には上述した位置決めが必要となる。また、この磁気記録媒体の製造方法においては、原盤１ｄおよび複合型媒体インプリントスタンパ１ｃを作成しない。

以下に、第五の実施の形態の変形例を示す。

この変形例では、鋳型パターンの記録ドットに対応する部位５ｃ１'を凸部とする。ここでは、第三の実施の形態の変形例として挙げたサーボ領域用媒体インプリントスタンパ１ａ'およびデータ領域用媒体インプリントスタンパ１ｂ'を用いた製造方法を例に説明する。

変形例についても同様であり、図１０（ａ）に示す複合型媒体インプリントスタンパ１ｃ'を転写する工程が、サーボ領域用媒体インプリントスタンパ１ａ'およびデータ領域用媒体インプリントスタンパ１ｂ'を磁気記録媒体用基板１７上に順次転写する工程に代わる。

この実施の形態の製造方法によって製造される磁気記録媒体は、複数の異なる種類のサーボ領域のパターンとデータ領域のパターンがある場合に、個々の磁気記録媒体毎に的確なサーボ領域のパターンとデータ領域のパターンを選択できる特徴がある。この特徴により、データ領域のパターンは等しくても、磁気記録再生装置毎に最適化されたサーボ領域のパターンを選択できる効果がある。

また、サーボ領域用媒体インプリントスタンパ１ａとデータ領域用媒体インプリントスタンパ１ｂとで寿命が異なる場合に、各インプリントスタンパを個別に交換することで、他方のインプリントスタンパの使用期間を延ばす効果がある。

以上から、この実施の形態の磁気記録媒体の製造方法は、少数多種生産に適しているといえる。なお、これらの効果は、変形例についても同様である。
（第六の実施の形態）
以下に、第六の発明に関わる磁気記録媒体について説明する。この実施の形態においては、第二の実施の形態におけるインプリントスタンパを用いて製造された磁気記録媒体について、図１１を参照して説明する。

本実施の形態の磁気記録媒体は、第二の実施の形態における複合型媒体インプリントスタンパ１ｃを用いて製造されているので、円盤状であり、セクタサーボ方式である。磁気記録媒体のサーボ領域３ｅは、複合型媒体インプリントスタンパ１ｃの第一の転写領域３ｃに対応し、データ領域５ｅは、第二の転写領域５ｃに対応する。従って、図１（ｃ）の表面模式図と同様に、本実施の形態の磁気記録媒体においては、データ領域の記録トラックは磁気記録媒体の表面に同心円状に並び、各記録トラックの位置情報を具備するサーボ
領域は対応する複数のトラックを縦断するように軸側から外縁に向かって６箇所形成される。

図１１は、本実施の形態の磁気記録媒体の一部について表面を拡大した模式図である。サーボ領域３ｅとデータ領域５ｅは、実際には約50μｍ離れているが、便宜上、両領域間の距離を縮めて描いている。

図１１に示すように、サーボ領域３ｅは、人工的描画法で作成されるので、複数の矩形状の記録材料により構成される。サーボ領域３ｅの位置決め信号は従来と同様であり、例えば、プリアンブル信号３ｅ１、アドレス信号３ｅ２、バースト信号３ｅ３で構成される。この領域を記録再生ヘッドが紙面左右方向に通過する際に得られる信号から、記録再生ヘッドの、サーボ領域上の位置を正確に把握することが出来る。

プリアンブル信号３ｅ１は、トラック方向に直交する縞模様のパターンである。

アドレス信号３ｅ２は、トラック情報とセクタ情報を備える。記録再生ヘッドがトラックをまたいでいる途中でもアドレス情報が得られる様に、グレイコードを用いることが好ましい。図１１においては、便宜上、アドレス信号３ｅ２は4列のパターンにより構成されるものとしたが、例えば、約40万のトラック数を想定とすると、アドレス信号３ｅ２は約20列のパターンを備える。

バースト信号３ｅ３は、トラック内の位置情報を取得するためのものであり、例えば、トラックの中心位置を指定する。バースト信号３ｅ３は、例えば、Ａバースト３ｅ３１、Ｂバースト３ｅ３２、Ｃバースト３ｅ３３、Ｄバースト３ｅ３４の４種により構成され、夫々のバーストはトラック方向に直交する４列の矩形記録材料により構成される。各列は、矩形記録材料の等間隔な断続パターンにより構成され、その間隔はトラック幅に等しく、一つの矩形記録材料のトラック方向に垂直な一辺も、トラック幅に等しい。

Ａバースト３ｅ３１、Ｂバースト３ｅ３２、Ｃバースト３ｅ３３およびＤバースト３ｅ３４は、矩形記録材料の形状やトラック幅に直交する断続パターンは等しく、断続パターンのにおける位相のみ異なる。夫々のバーストは四半周期づつ位相が異なるので、Ｂバースト３ｅ３２は、Ａバースト３ｅ３１に対し半周期のずれが生じ、Ｃバースト３ｅ３３は、Ａバースト３ｅ３１に対し四半周期遅く、Ｄバースト３ｅ３４は、Ａバースト３ｅ３１に対し四分の三周期遅い（紙面下方向をプラス方向とした。）。

バースト信号３ｅ３によるトラックの中心位置を指定する方法を述べる。後述するように、図１１においては、２ドット行を１トラックとし、例えば、上から２、３行目が１トラックとなる。ドット行２，３行目のトラックの位置決めは、３行目のドット行中心の位置決めを基準に行い、Ｃバースト３ｅ３３において最上段にある４つの矩形記録材料の上辺およびＤバースト３ｅ３４において最上段にある４つの矩形記録材料の下辺を用いる。

一つの矩形記録材料の大きさは、例えば、バースト信号３ｅ３においては、約43×25ｎｍ²である。なお、図１１においては、便宜上、矩形の四角は直角をなすパターンであるが、実際の角の曲率半径は約12nmである。

なお、図１１においては、夫々のバーストは、４列の矩形記録材料により構成される。しかし、実際には、約20列の矩形記録材料により構成される。この列数は矩形記録材料の加工精度に依存し、加工精度が高いほど、少ない矩形記録材料の列で高い位置決め精度を達成できる。この実施の形態においては、角の曲率半径が約12nmと、加工精度が低いために、一つの矩形記録材料から得られる位置決め精度は低い。けれども、多くの矩形記録材
料の平均値を取ることにより、約2ｎｍの位置決め精度を達成できる。

図１１のデータ領域５ｅは、前述のサーボ領域３ｅ近傍の一部の領域である。一般に、図１１に示すサーボ領域３ｅとデータ領域５ｅは夫々複数形成され、隣り合うサーボ領域３ｅ間にデータ領域５ｅが形成される。データ領域５ｅは、自己組織材料によるパターン形成方法により作成され、六方格子状に配列した記録ドット２５によって構成される記録帯５ｅ１と記録材料の存在しないガイド帯５ｅ２を備える。これらの帯は、トラック方向に平行である。

記録帯５ｅ１の幅は、自己組織材料の結晶性に依存し、上述した自己組織化の工程において、自己組織材料が平行に並ぶ範囲内の広さにする。自己組織材料の結晶性が高ければ、記録帯５ｅ１の幅は広くとも、自己組織材料はガイド帯に対して、斜めに整列することはない。この実施の形態においては、記録帯５ｅ１の幅は約1μｍとする。

ガイド帯５ｅ２は、上述した自己組織化の工程において、自己組織化材料が正しく整列し、トラックを形成するのを助ける。この実施の形態においては、ガイド帯５ｅ２は約50ｎｍの幅を持つ。

データ領域５ｅにおいて、記録ドット２５は直径約10ｎｍ、隣り合う記録ドット２５との中心間の距離は約25ｎｍである。２行の記録ドット２５の列を１トラックとし、トラック幅は約43nmである。記録密度は約800Ｇｂｐｓｉである。

この実施の形態においては、従来生じていた不要なドットはサーボ領域に存在しない、従って、この実施の形態においては、自己組織材料によるパターン形成方法により作成した高記録密度のデータ領域と、人工的描画法により作成した高精度のサーボ領域を備える磁気記録媒体を得ることができた。

以上、本発明の実施の形態を説明したが、本発明はこれらに限られず、特許請求の範囲に記載の発明の要旨の範疇において様々に変更可能である。
また、本発明は、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で種々に変形することが可能である。

さらに、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合わせてもよい。

第一の発明に関わる第一の実施の形態および第二の発明に関わる第二の実施の形態によるインプリントスタンパを説明するための表面模式図。 第一の発明に関わる第一の実施の形態および第二の発明に関わる第二の実施の形態によるインプリントスタンパを説明するための断面模式図。 第一の発明に関わる第一の実施の形態および第二の発明に関わる第二の実施の形態の変形例によるインプリントスタンパを説明するための断面模式図。 第二の発明に関わる第二の実施の形態の変形例を説明するための表面模式図。 第三の発明に関わる第三の実施の形態による原盤製造用データ領域用インプリントスタンパの製造方法を説明するための断面模式図。 第三の発明に関わる第三の実施の形態による磁気記録媒体製造用複合型媒体インプリントスタンパの製造方法を説明するための断面模式図。 第三の発明に関わる第三の実施の形態の変形例による原盤製造用データ領域用インプリントスタンパの製造方法を説明するための断面模式図。 第三の発明に関わる第三の実施の形態の変形例による磁気記録媒体製造用複合型媒体インプリントスタンパの製造方法を説明するための断面模式図。 第四の発明に関わる第四の実施の形態による磁気記録媒体の製造方法を説明するための断面模式図。 第四の発明に関わる第四の実施の形態の変形例による磁気記録媒体の製造方法を説明するための断面模式図。 第六の発明に関わる第六の実施の形態による磁気記録媒体を説明するための表面拡大模式図。

符号の説明

１ａ、１ａ' サーボ領域用インプリントスタンパ
１ｂ、１ｂ' データ領域用インプリントスタンパ
１ｃ、１ｃ'、１ｃ'' 複合型インプリントスタンパ
１ｄ、１ｄ' 原盤
１ｅ、１ｅ' 磁気記録媒体
２ａ サーボ領域用インプリントスタンパ上の実線
２ｂ データ領域用インプリントスタンパ上の実線
２ｃ 複合型インプリントスタンパ上の実線
３ａ、３ａ' サーボ領域用インプリントスタンパの第一の転写領域
３ｂ、３ｂ' データ領域用インプリントスタンパの第二の非転写領域
３ｃ、３ｃ'、３ｃ'' 複合型インプリントスタンパの第一の転写領域
３ｅ 磁気記録媒体のサーボ領域
３ｅ１ 磁気記録媒体のサーボ領域のプリアンブル信号
３ｅ２ 磁気記録媒体のサーボ領域のアドレス信号
３ｅ３ 磁気記録媒体のサーボ領域のバースト信号
３ｅ３１ Ａバースト
３ｅ３２ Ｂバースト
３ｅ３３ Ｃバースト
３ｅ３４ Ｄバースト
５ａ、５ａ' サーボ領域用インプリントスタンパの第一の非転写領域
５ｂ、５ｂ' データ領域用インプリントスタンパの第二の転写領域
５ｂ１ データ領域用インプリントスタンパの第二の転写領域のドット状の凹部
５ｂ１' データ領域用インプリントスタンパの第二の転写領域のドット状の凸部
５ｃ、５ｃ'、５ｃ'' 複合型インプリントスタンパの第二の転写領域
５ｃ１ 複合型インプリントスタンパの第二の転写領域のドット状の凹部
５ｃ１' 複合型インプリントスタンパの第二の転写領域のドット状の凸部
５ｅ 磁気記録媒体のデータ領域
５ｅ１ 記録帯
５ｅ２ ガイド帯
７ データ領域用インプリントスタンパ作成用基板上において、第二の非転写領域と位置整合する領域のレジスト膜
８、８' 磁気記録媒体用基板上の鋳物パターンをなすレジスト膜
９、９' 磁気記録媒体用基板上の鋳物パターンをなすレジスト膜
１１ データ領域用インプリントスタンパ作成用基板
１３、１３' 自己組織材料
１５ 原盤用基板
１７ 磁気記録媒体用基板
２３ 磁性膜
２５、２５' 記録ドット

Claims (4)

1. 人工的描画法により、スタンパ材のサーボ領域に対応した第一の転写領域に矩形状の鋳型パターンを形成し、データ領域に位置整合した第一の非転写領域に平坦な表面を形成し、セクタサーボ方式の磁気記録媒体に対応するサーボ領域用原盤インプリントスタンパを作成する工程と、
   基板上に形成したレジスト膜において、前記磁気記録媒体のデータ領域に位置整合する領域に窪み部を形成する工程と、
   前記基板表面の窪み部に自己組織材料を埋め込む工程と、
   前記基板において、前記自己組織化材料を相分離構造化する工程と、
   前記基板表面の窪み部の相分離構造を元に、前記基板表面を加工することにより六方格子状に配列した複数のドット状の鋳物パターンを形成する工程と、
   前記鋳物パターンをスタンパ材に転写することにより、前記磁気記録媒体のデータ領域に対応した第二の転写領域に六方格子状に配列した複数のドット状の鋳型パターンを備えるデータ領域用原盤インプリントスタンパを作成する工程と、
   互いに対となる前記サーボ領域用原盤インプリントスタンパと前記データ領域用原盤インプリントスタンパの鋳型パターンを原盤用基板に順次転写することにより、表面に鋳物パターンを備える原盤を作成する工程と、
   前記原盤の鋳物パターンをスタンパ材に転写することにより、鋳型パターンを備える複合型媒体インプリントスタンパを作成する工程と、
   を特徴とする磁気記録媒体製造用インプリントスタンパの製造方法。
2. 人工的描画法により、スタンパ材のサーボ領域に対応した第一の転写領域に矩形状の鋳型パターンを形成し、データ領域の位置に整合した第一の非転写領域に平坦な表面を形成し、セクタサーボ方式の磁気記録媒体に対応するサーボ領域用原盤インプリントスタンパを作成する工程と、
   基板上に形成したレジスト膜において、前記磁気記録媒体のデータ領域の位置に整合する領域に窪み部を形成する工程と、
   前記基板表面の窪み部に自己組織材料を埋め込む工程と、
   前記基板において、前記自己組織化材料を相分離構造化する工程と、
   前記基板表面の窪み部の相分離構造を元に、前記基板表面を加工することにより六方格子状に配列した複数のドット状の鋳物パターンを形成する工程と、
   前記鋳物パターンをスタンパ材に転写することにより、前記磁気記録媒体のデータ領域に対応した第二の転写領域に六方格子状に配列した複数のドット状の鋳型パターンを備えるデータ領域用原盤インプリントスタンパを作成する工程と、
   互いに対となる前記サーボ領域用原盤インプリントスタンパと前記データ領域用原盤インプリントスタンパの鋳型パターンを原盤用基板に順次転写することにより、複数の矩形状のパターンが形成された領域と六方格子状に配列した複数のドット形状のパターンが形成された領域を表面に備える鋳物パターンを備える原盤を作成する工程と、
   前記原盤の鋳物パターンをスタンパ材に転写することにより、鋳型パターンを備える複合型媒体インプリントスタンパを作成する工程と、
   前記複合型媒体インプリントスタンパの鋳型パターンを、磁気記録媒体用基板に転写することにより、鋳物パターンに並んだ磁性記録材料を備える磁気記録媒体を作成する工程と、
   を備えることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
3. 前記自己組織材料には、鋳型パターンを形成する工程において、インプリントスタンパの記録材料に対応する部位が凹部となるような自己組織材料を用い、
   前記複合型媒体インプリントスタンパの鋳型パターンを磁気記録媒体用基板に転写することにより、鋳物パターンを備える磁気記録媒体を作成する工程は、
   磁性層を備えた磁気記録媒体作成用基板上に形成したレジスト膜において、前記複合型媒体インプリントスタンパの鋳型パターンを転写することにより、鋳物パターンを形成する工程と、
   前記磁気記録媒体作成用基板上のレジスト膜の鋳物パターンを元に磁性層を加工する工程とを備えること、を特徴とする請求項２記載の磁気記録媒体の製造方法。
4. 人工的描画法により、スタンパ材のサーボ領域に対応した第一の転写領域に矩形状の鋳型パターンを形成し、データ領域の位置に整合した第一の非転写領域に平坦な表面を形成し、セクタサーボ方式の磁気記録媒体に対応するサーボ領域用媒体インプリントスタンパを作成する工程と、
   基板上に形成したレジスト膜において、前記磁気記録媒体のデータ領域に対応する領域に窪み部を形成する工程と、
   前記基板表面の窪み部に自己組織材料を埋め込む工程と、
   前記基板において、前記自己組織化材料を相分離構造化する工程と、
   前記基板表面の窪み部の相分離構造を元に、前記基板表面を加工することにより六方格子状に配列した複数のドット状の鋳物パターンを形成する工程と、
   前記鋳物パターンをスタンパ材に転写することにより、前記磁気記録媒体のデータ領域に対応した第二の転写領域に六方格子状に配列した複数のドット状の鋳型パターンを備えるデータ領域用媒体インプリントスタンパを作成する工程と、
   互いに対となる前記サーボ領域用媒体インプリントスタンパと前記データ領域用媒体インプリントスタンパの鋳型パターンを磁気記録媒体用基板に順次転写することにより、複数の矩形状のパターンが形成された領域と六方格子状に配列した複数のドット形状のパターンが形成された領域を表面に備える磁気記録媒体を作成する工程と、
   を備えることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。

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