JP4960473B2 - インプリントモールド及び磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
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Description
以下に、第1の実施形態に係るインプリントモールドの製造方法を説明する。
凹部は、下に向かってすぼむように形成される。図中、スパッタカーボン層13の壁面と、シリコン基板14の露出した表面とが成す角度が鈍角となっている。なお、第1の実施形態では、この角度は、スパッタカーボン層13の凹部の左右においてほぼ同一となっている。
以下に、図2に基づいて、本発明の実施形態に係るインプリントモールド23を利用した磁気記録媒体の製造方法を説明する。
以下に、ガイド壁面の角度と、自己組織化材料によって作られるドットパターンとの関係を説明する。
実施形態に係るインプリントモールドの製造方法および磁気記録媒体の製造方法は、第1の実施形態に限定されず、例えば、以下のような第2の実施形態を取り得る。
図1に示す方法によって、ガイド作製用の第1のガイドスタンパ15を作製した。
図5に示す方法によって、ガイド作製用の第2のガイドスタンパ16を作製した。
図2(a)から(d)に示す方法によって、ガイド21aを形成したシリコン基板22上に自己組織化パターンを形成させた。
図6(a)から(d)に示す方法によって、ガイド21aを形成したシリコン基板22上に自己組織化パターンを形成させた。
図2(d)から(h)に示す方法によって、インプリントモールド23および磁気記録媒体を製造した。
ガイド21aの壁面とシリコン基板22の露出した表面とによって規定される角度θが、スフェア27間のピッチに与える影響、およびガイド21a上のスフェア27形成に与える影響を検討した。
Claims (2)
- 基板上に、第1の壁面および第2の壁面を有するガイドであって、前記第1の壁面と前記基板の露出した表面とによって規定される角度及び前記第2の壁面と前記基板の露出した表面とによって規定される角度がそれぞれ120°以上且つ131°以下であるガイドを複数形成し、
前記第1の壁面、前記第2の壁面および前記基板表面によって規定されるガイド溝領域に、スフェアを形成して相分離する自己組織化材料を塗布し、前記自己組織化材料を自己組織化させてドットパターンを形成し、
前記ドットパターンをマスクとして、前記基板をエッチングして前記ドットパターンを転写し、
前記ドットパターンが転写された前記基板を型としてインプリントモールドを形成する
ことを特徴とするインプリントモールドの製造方法。 - 磁気記録層上にレジストを形成し、
前記レジストに対して請求項1に記載の製造方法によって製造されたインプリントモールドをインプリントして前記ドットパターンを転写し、
パターン化されたレジストの凹部に残存している残渣を除去し、
パターン化されたレジストをマスクとして、前記磁気記録層をエッチングして前記ドットパターンを転写する
ことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
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