JP2006233298A - 真空バルブ用接点材料およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 耐電圧特性を発揮し、かつ溶着特性を改善した真空バルブ用接点材料およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 真空バルブ用接点材料は、55〜75体積%のCuからなる導電成分と、25〜45体積%の検量の耐弧成分および補助成分とを備えている。耐弧成分はW、Mo、Taの少なくとも一つからなり、補助成分はCrからなっている。補助成分は耐弧成分と補助成分の検量に対して0.3〜5重量%となっており、耐弧成分の粒子表面が補助成分により被覆されている。
【選択図】 図2
【解決手段】 真空バルブ用接点材料は、55〜75体積%のCuからなる導電成分と、25〜45体積%の検量の耐弧成分および補助成分とを備えている。耐弧成分はW、Mo、Taの少なくとも一つからなり、補助成分はCrからなっている。補助成分は耐弧成分と補助成分の検量に対して0.3〜5重量%となっており、耐弧成分の粒子表面が補助成分により被覆されている。
【選択図】 図2
Description
本発明は、真空バルブ用接点材料およびその製造方法に係わり、とりわけ優れた耐溶着特性と耐電圧特性とを兼備した真空バルブ用接点材料およびその製造方法に関わる。
真空バルブ用接点材料は、導電成分であるCuやAgを含むとともに、更に用途に応じた種々の成分を含み、大別すると、以下の4種類が存在する。
1)CuBi、CuTeSeに代表される大電流遮断用接点材料
Bi,Te,Se等、接点材料中に、脆性相を形成する成分を含んでおり、通電性に優れ、仮に接触抵抗による溶着が発生しても、この脆性相を起点として溶着部が破断できる。一方、溶着破断面の荒れは大きく、破断面に突起が形成されて電界が集中するため、高電圧領域には使用不可能である。
Bi,Te,Se等、接点材料中に、脆性相を形成する成分を含んでおり、通電性に優れ、仮に接触抵抗による溶着が発生しても、この脆性相を起点として溶着部が破断できる。一方、溶着破断面の荒れは大きく、破断面に突起が形成されて電界が集中するため、高電圧領域には使用不可能である。
2)Cu−W等の高電圧用途に用いられる接点材料
高融点のWを含むことから、耐アーク性(耐弧性)に優れ、大電流の投入による溶着の回避には有効な接点である。また、接点の硬度が高く、耐電圧特性に優れる。
高融点のWを含むことから、耐アーク性(耐弧性)に優れ、大電流の投入による溶着の回避には有効な接点である。また、接点の硬度が高く、耐電圧特性に優れる。
3)Ag−WC等の低裁断特性を有する接点材料
低裁断化作用を有するWCを多量添加することにより低裁断特性が発揮されている。この低裁断作用を有する成分は、耐電圧特性を阻害するため、高電圧領域では使用されない。
低裁断化作用を有するWCを多量添加することにより低裁断特性が発揮されている。この低裁断作用を有する成分は、耐電圧特性を阻害するため、高電圧領域では使用されない。
4)Cu−Cr等の、耐電圧特性および大電流遮断特性を有する接点材料
Crの複合化により優れた遮断性能を発揮する。複合量が比較的少ない接点材料は低接触抵抗特性を有する。Crの複合化による低裁断化効果は小さい。
Crの複合化により優れた遮断性能を発揮する。複合量が比較的少ない接点材料は低接触抵抗特性を有する。Crの複合化による低裁断化効果は小さい。
またCu−Mo−Cr系の接点材料も開発されている(特許文献1参照)。
特許第1487163号公報
上述した接点材料のうち、Cu−Cr系接点材料では、電流投入時の溶着に伴う接点表面の荒れが耐電圧性能を低下させるため、高い電圧領域での使用が困難である。一方、Cu−W系接点材料は電流投入時のアークによる耐溶着特性が優れており、安定した耐電圧特性を発揮するが、極めて高い電圧領域においては、特に、接点を開閉動作を行った後の耐電圧性能に比較的大きなばらつきが生じる。
Cu−Mo−Cr系を記載した特許として上述のように特許第1487163号があるが、Crはその添加量が10%以上であり、CrはCuマトリックスにおいて粒子状に分散して耐弧成分としての作用を担うものである。従ってCrを一旦Cu中に溶解させ、Cu液相からの晶出により、W,Mo等の耐弧成分粒子表面にCr層を形成させることはできない。このためCuマトリックスと耐弧成分粒子との結合力を高めて、耐圧低下の原因と成り得る耐弧成分粒子の電圧印加時の飛散を防止することはむずかしい。
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、優れた耐溶着特性と耐電圧特性とを兼備した真空バルブ用接点材料を提供することを目的とする。
発明者らは、上記課題に対して鋭意研究を重ねた結果、Cu−W接点の耐電圧特性改善には、WとCuとの結合力を高めることが課題解決に有効であることを見出した。
本発明は、真空バルブ用接点材料において、55〜75体積%のCuからなる導電成分と、25〜45体積%の総量の耐弧成分および補助成分とを備え、耐弧成分は、W,Mo,Taの少なくとも一つからなり、補助成分がCrからなり、前記補助成分は、前記耐弧成分と前記補助成分の総量に対して0.3〜5重量%の範囲であり、前記耐弧成分粒子の表面の一部または全てを補助成分が被覆していることを特徴とする真空バルブ用接点材料である。
本発明は、耐弧成分は平均粒径0.3〜10μmの粒子状体からなることを特徴とする真空バルブ用接点材料である。
本発明によれば、相互に反応しないW等の耐弧成分とCuとの間に両者との親和性に富んだCrを介在させることにより、間接的にCuとW等の耐弧成分との結合力が高まり、CuマトリックスからのW等の耐弧成分粒子の離脱を抑制することが可能となる。
すなわち、Crを一旦Cu中に溶解させ、Cu液相からの晶出により、W,Mo等の耐弧成分粒子表面にCr層を形成させることができる。このためCuマトリックスと耐弧成分粒子との結合力を高めて、耐圧低下の原因と成り得る耐弧成分粒子の電圧印加時の飛散を防止することができる。
本発明は、真空バルブ用接点材料の製造方法において、Cuからなる導電成分粉末と、W,Mo,Taの少なくとも一つからなる耐弧成分粉末とを混合して混合粉末を形成する工程と、前記混合粉末を真空バルブ用接点材料の形状に成形して成形体を作製する工程と、成形体に0.3〜5重量%のCrを含むCuとCrの合金を溶浸する工程とからなる真空バルブ用接点材料の製造方法である。
本発明は、真空バルブ用接点材料の製造方法において、Cuからなる導電成分粉末と、W,Mo,Taの少なくとも一つからなる耐弧成分粉末と、Crからなる補助成分粉末を混合して混合粉末を形成する工程と、前記混合粉末を真空バルブ用接点材料の形状に成形して成形体を作製する工程と、成形体をCuの液相存在下において液相焼結する工程とからなる真空バルブ用接点材料の製造方法である。
本発明は、前記液相焼結する工程は、Cuの融点以上の温度でかつ1350℃以下の温度にて行なわれることを特徴とする真空バルブ用接点材料の製造方法である。
本発明は、前記液相焼結する工程において、成形体は容器内に設置され、この容器と成形体との間隙に粉末状の酸化物が充填されることを特徴とする真空バルブ用接点材料の製造方法である。
本発明によれば、Cu合金中に含まれるCrは溶浸時にW等の耐弧成分粒子の表面に晶出するため、W等の耐弧成分粒子の表面をCrにより被覆させることが可能となる。
本発明によれば、Cu−耐弧成分接点材料にCrを添加し、かつ液相焼結することにより耐弧成分粒子を被覆したCrの作用により、Cuマトリックスと耐弧成分とが強固に結びつく。このことにより優れた耐電圧特性を発揮すること可能とし、また、耐弧成分の含有量などを適切な範囲とすることにより、溶着特性が改良された。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。まず、図1および図2により真空バルブの概略を説明する。
図1は、本実施例を説明するための真空バルブの断面図、図2は図1の電極部分の拡大断面図である。
図1において、真空バルブは遮断室1と、遮断室1内に配置された導電棒5、6と、導電棒5、6の対向する先端に取付けられた電極7、8とを備えている。また電極7、8の先端面には接点13a、13bが設けられている。
このうち遮断室1は、絶縁材料によりほぼ円筒状に形成された絶縁容器2と、この両端に封止金具3a、3bを介して設けた金属製の蓋体4a、4bとを有し、真空状態を保ちかつ気密に構成されている。
遮断室1内には、上述のように導電棒5,6の対向する先端部に一対の電極7,8が取付けられ、このうち上部の電極7が固定電極、下部の電極8が可動電極となっている。またこの電極8側の電極棒6にはベローズ9が取付けられ、遮断室1内を真空状態でかつ気密に保持しながら電極8の軸方向の移動を可能としている。また、このベローズ9上部には金属製のアークシールド10が設けられ、ベローズ9がアーク蒸気で覆われることを防止している。また、電極7,8を覆うように、遮断室1内に金属製のアークシールド11が設けられ、これにより絶縁容器2がアーク蒸気で覆われることを防止している。
さらに、電極8は、図2に拡大して示す如く、導電棒6にろう付け部12によって固定されるか、又はかしめによって圧着接続されている。また接点13aは電極8にろう付け部14によってろう付けで取付けられる。なお、接点13bは、電極7にろう付けにより取付けられる。
図1および図2に示す接点13a、13bは、本発明による真空バルブ用接点材料を所定形状に加工することにより得られる。
次に本発明による接点材料の製造方法について説明する。
接点材料の製造方法
(接点材料の製造工程)
以下に示す実施例2〜5,実施例11〜12および比較例2〜5については、次のような溶浸法による方法を用いて本発明の標準的な製造方法として実施して真空バルブ用接点材料を得た。
(接点材料の製造工程)
以下に示す実施例2〜5,実施例11〜12および比較例2〜5については、次のような溶浸法による方法を用いて本発明の標準的な製造方法として実施して真空バルブ用接点材料を得た。
・第1の工程
Moを耐弧成分として選択する。平均粒径45μmのCu粉末および平均粒径1μmのMo粉末を準備し、これらを図3に示す体積比で混合する。
Moを耐弧成分として選択する。平均粒径45μmのCu粉末および平均粒径1μmのMo粉末を準備し、これらを図3に示す体積比で混合する。
・第2の工程
前記混合粉末を0.8ton/cm2の圧力にて成形して成形体を作製する。
前記混合粉末を0.8ton/cm2の圧力にて成形して成形体を作製する。
・第3の工程
図5(a)に示すように成形体20をカーボン製のるつぼ15内に設置し、成形体20の60%程度の体積を有するCu−Cr合金のブロック21を成形体20に載せ、このるつぼ15を10−3Torrより高真空な真空雰囲気内において、1200℃にて30分保持して成形体20の空隙内にCu−Cr合金を溶浸する。
図5(a)に示すように成形体20をカーボン製のるつぼ15内に設置し、成形体20の60%程度の体積を有するCu−Cr合金のブロック21を成形体20に載せ、このるつぼ15を10−3Torrより高真空な真空雰囲気内において、1200℃にて30分保持して成形体20の空隙内にCu−Cr合金を溶浸する。
上記実施例において、Cu−Cr合金のブロックとしては溶解鋳造により得られたブロックを用いるが、Cu粉末とCr粉末を所定の組成比となるように配合して圧粉成形したブロックを用いても良い。また、上記実施例では真空雰囲気にてCu−Cr合金の溶浸を行なうが、水素雰囲気にてCu−Cr合金の溶浸を行なってもよい。
また、実施例1,実施例6〜10および比較例1,比較例6〜10については、次のような原料粉末の液相焼結による方法を用いて本発明の標準的な製造方法として実施した。
・第1の工程
Moを耐弧成分として選択する。平均粒径45μmのCu粉末,平均粒径100μmのCr粉末および平均粒径1μmのMo粉末を準備し、これらを図3に示す重量比で混合する。
Moを耐弧成分として選択する。平均粒径45μmのCu粉末,平均粒径100μmのCr粉末および平均粒径1μmのMo粉末を準備し、これらを図3に示す重量比で混合する。
・第2の工程
前記混合粉末を8ton/cm2の圧力にて成形して成形体を作製する。
前記混合粉末を8ton/cm2の圧力にて成形して成形体を作製する。
・第3の工程
図5(b)に示すように成形体20をカーボン製のるつぼ15内に設置し、るつぼ15内の成形体20周囲に平均粒径100μmのアルミナ粉末21を充填し、成形体15がアルミナ粉末21中に埋没し見えなくなるまでアルミナ粉末を充填する(設置方法1)。
図5(b)に示すように成形体20をカーボン製のるつぼ15内に設置し、るつぼ15内の成形体20周囲に平均粒径100μmのアルミナ粉末21を充填し、成形体15がアルミナ粉末21中に埋没し見えなくなるまでアルミナ粉末を充填する(設置方法1)。
このるつぼ15を10−3Torrより高真空の雰囲気内において、1200℃にて30分保持する。
各実施例および比較例では、上記標準製造条件と部分的に異なる条件にて接点材料を製造し、組成、組織などの特性が異なる材料として、材料的特性および電気的特性の評価を行った。液相焼結法の第3の工程での成形体の設置方法については、図5(c)に示すように、成形体20をカーボンるつぼ15内にそのまま設置する方法も検討した(設置方法2)。
評価方法および評価条件
次に、本発明の実施例および比較例のデータを得るための評価方法、および評価条件について説明する。
次に、本発明の実施例および比較例のデータを得るための評価方法、および評価条件について説明する。
(材料特性評価)
(1)得られた接点材料の形状
液相焼結法により作製した実施例および比較例については、接点材料の形状が成形体と大きく異なっているものを目視で不良と判断した。なお、接点材料の形状が不良のものについては、加工による接点の作製が困難であるため、以下の評価は行なわない。
(1)得られた接点材料の形状
液相焼結法により作製した実施例および比較例については、接点材料の形状が成形体と大きく異なっているものを目視で不良と判断した。なお、接点材料の形状が不良のものについては、加工による接点の作製が困難であるため、以下の評価は行なわない。
(2)相対密度
アルキメデス法により得られた接点材料の密度を測定して組成比から真密度を求めて相対密度に換算した。結果は、実施例1の値を1.00として相対比較し、0.95以上を合格とした。
アルキメデス法により得られた接点材料の密度を測定して組成比から真密度を求めて相対密度に換算した。結果は、実施例1の値を1.00として相対比較し、0.95以上を合格とした。
(3)導電率
渦電流測定により得られた接点材料の導電率を評価し、実施例1の測定との相対値で表示し、この値が1.1以上を合格とした。
渦電流測定により得られた接点材料の導電率を評価し、実施例1の測定との相対値で表示し、この値が1.1以上を合格とした。
(電気特性評価)
(1)耐溶着特性
それぞれ平面および曲率半径50mmの球面の接触面を有する1対の接点材料を真空チャンバー内にセットし、接点材料を200Nの力で接触させ、15kAを通電して溶着させ、その後引き外しに必要な力を測定する。3対の接点材料での試験を実施し、平均値を実施例10と相対比較した値を表2に示す。この値が1.5以下を合格とした。
(1)耐溶着特性
それぞれ平面および曲率半径50mmの球面の接触面を有する1対の接点材料を真空チャンバー内にセットし、接点材料を200Nの力で接触させ、15kAを通電して溶着させ、その後引き外しに必要な力を測定する。3対の接点材料での試験を実施し、平均値を実施例10と相対比較した値を表2に示す。この値が1.5以下を合格とした。
(2)耐電圧特性
進み小電流試験における再点弧発生確率にて接点材料の耐電圧特性を評価した。電流は500Aであり、回復電圧は12.5kVである。試験回数は2000回である。実施例8の再点弧発生確率を1.0とした場合の相対値を示し、この相対値が1.2以下のものを合格とした。
進み小電流試験における再点弧発生確率にて接点材料の耐電圧特性を評価した。電流は500Aであり、回復電圧は12.5kVである。試験回数は2000回である。実施例8の再点弧発生確率を1.0とした場合の相対値を示し、この相対値が1.2以下のものを合格とした。
(実施例の検討)
次に、図3に示す接点材料の製造条件および、これらに対応する図4に示す材料組成、材料組織、材料的特性および電気的特性データを参照しながら考察する。
次に、図3に示す接点材料の製造条件および、これらに対応する図4に示す材料組成、材料組織、材料的特性および電気的特性データを参照しながら考察する。
(実施例1および比較例1)
液相焼結法による標準製造方法により製造した実施例1と、固相焼結法により製造した比較例1とを比較評価した。比較例では、焼結温度をCuの融点以下の1050℃とし、原料Cu粉末は粒径2μmのものを使用した。実施例1では液相焼結したとによりMo粒子がこれを被覆したCrの作用によりCuマトリックスと強固に結びついており、良好な耐電圧特性が得られており、導電率も高いことから耐溶着特性も良好である。比較例1では、固相焼結したためCrがMo粒子の周囲を覆っておらず、電圧印加時にMo粒子の離脱が発生したため、耐電圧特性は不十分となっている。
液相焼結法による標準製造方法により製造した実施例1と、固相焼結法により製造した比較例1とを比較評価した。比較例では、焼結温度をCuの融点以下の1050℃とし、原料Cu粉末は粒径2μmのものを使用した。実施例1では液相焼結したとによりMo粒子がこれを被覆したCrの作用によりCuマトリックスと強固に結びついており、良好な耐電圧特性が得られており、導電率も高いことから耐溶着特性も良好である。比較例1では、固相焼結したためCrがMo粒子の周囲を覆っておらず、電圧印加時にMo粒子の離脱が発生したため、耐電圧特性は不十分となっている。
(実施例2〜3および比較例2〜3)
溶浸法による標準製造方法のCu成分量を50〜78体積%の範囲で変えた実施例2〜3および比較例2〜3とを比較評価した。Cu成分量が55〜75体積%の範囲にある実施例2〜3では、良好な耐溶着特性および耐電圧特性が得られている。Cu成分量が50体積%の比較例2では、接点の導電率が低いため、耐溶着性が不十分であった。一方、Cu成分量が78体積%の比較例3では、電流投入時の溶着部を開極時に引き外したことにより形成される接点表面の荒れが大きいため、耐電圧特性が著しく低下している。
溶浸法による標準製造方法のCu成分量を50〜78体積%の範囲で変えた実施例2〜3および比較例2〜3とを比較評価した。Cu成分量が55〜75体積%の範囲にある実施例2〜3では、良好な耐溶着特性および耐電圧特性が得られている。Cu成分量が50体積%の比較例2では、接点の導電率が低いため、耐溶着性が不十分であった。一方、Cu成分量が78体積%の比較例3では、電流投入時の溶着部を開極時に引き外したことにより形成される接点表面の荒れが大きいため、耐電圧特性が著しく低下している。
(実施例4〜5および比較例4〜5)
溶浸法による標準製造方法を用いて、溶浸材となるブロックのCr成分量を0.2〜7.1重量%の範囲で変え、Cr成分量/(耐弧成分量+Cr量)を0.3〜5.0重量%とした実施例4〜5を準備した。またCr成分量/(耐弧成分量+Cr量)をそれぞれ0.2重量%および7.1重量%とした比較例4および比較例5を準備し、両者を比較評価した。
溶浸法による標準製造方法を用いて、溶浸材となるブロックのCr成分量を0.2〜7.1重量%の範囲で変え、Cr成分量/(耐弧成分量+Cr量)を0.3〜5.0重量%とした実施例4〜5を準備した。またCr成分量/(耐弧成分量+Cr量)をそれぞれ0.2重量%および7.1重量%とした比較例4および比較例5を準備し、両者を比較評価した。
この結果、Cr成分量/(耐弧成分量+Cr量)が0.3〜5重量%の範囲となった実施例4および5では、良好な耐溶着特性および耐電圧特性が得られている。
この値が0.2重量%となった比較例4では、Mo粒子がCrにより十分被覆されていないため、耐電圧特性が不十分であった。一方、この値が7.5重量%の比較例5では、Cuマトリックス内に晶出したCr粒子によって、Cuマトリックスの連続性が部分的に阻害され、導電率が低下するため、耐溶着特性が不十分であった。
(実施例6〜7および比較例6〜7)
液相焼結法における標準的製造方法を用いて、耐弧成分の粒径を0.2〜15μmの範囲で変えることにより得られた実施例および比較例を比較評価した。
液相焼結法における標準的製造方法を用いて、耐弧成分の粒径を0.2〜15μmの範囲で変えることにより得られた実施例および比較例を比較評価した。
耐弧成分の粒径が0.3〜10μmの範囲にある実施例6〜7においては、いずれも良好な耐溶着特性および耐電圧特性が得られている。
耐弧成分の粒径が0.2μmの比較例6では、耐弧成分が凝集し、その間隙にCu液相が侵入できないため、相対密度が低く、導電率が低いため耐溶着性能が低い。また、この凝集部にはCuマトリックスに包含されていないMo粒子が存在し、これらが電圧印加時に離脱するため、耐電圧性能も低い。一方、耐弧成分の粒径が15μmの比較例7では、Mo粒子相互の結合力が弱く、Mo粒子が離脱しやすいため、耐電圧特性が不十分となった。
(実施例8〜9および比較例8〜9)
液相焼結法における標準的製造方法の焼結温度を1050〜1350℃の範囲で変えることにより得られた実施例および比較例を比較評価した。
液相焼結法における標準的製造方法の焼結温度を1050〜1350℃の範囲で変えることにより得られた実施例および比較例を比較評価した。
焼結温度が1100〜1300℃の範囲にある実施例8〜9においては、いずれも良好な耐溶着特性および耐電圧特性が得られている。
焼結温度が1050℃の比較例8では、比較例1と同様の理由により耐溶着特性および耐電圧特性の両方が不十分であった。また、焼結温度が1350℃の比較例9では、液相生成時に形状が大きく崩れ、内部に大きな空洞が形成された。このため、その他の材料特性、電気特性の評価は不可能であった。
(実施例10および比較例10)
液相焼結法における標準的製造方法の成形体のるつぼ内の設置方法を変えることにより得られた実施例および比較例を比較評価した。
液相焼結法における標準的製造方法の成形体のるつぼ内の設置方法を変えることにより得られた実施例および比較例を比較評価した。
成形体20とるつぼ15との間隙にアルミナを充填した実施例10は、良好な耐溶着特性および耐電圧特性を示したが、アルミナを充填しなかった比較例10では、液相生成時に形状が大きく崩れ、内部に大きな空洞が形成された。このため、その他の材料特性、電気特性の評価は不可能であった。
(実施例11および12)
溶浸法による標準製造方法と耐弧成分を変えることにより得られた実施例を評価した。耐弧成分をWおよびTaとした実施例11〜12は、いずれも良好な耐溶着特性および耐電圧特性を示した。
溶浸法による標準製造方法と耐弧成分を変えることにより得られた実施例を評価した。耐弧成分をWおよびTaとした実施例11〜12は、いずれも良好な耐溶着特性および耐電圧特性を示した。
1 遮断室
2 絶縁容器
3a,3b 封止金具
4a,4b 蓋体
5,6 導電棒
7,8 電極
9 ベローズ
10,11 アークシールド
13a,13b 接点
14 ろう付け部
15 るつぼ
20 成形体
21 ブロック
22 アルミナ粉末
2 絶縁容器
3a,3b 封止金具
4a,4b 蓋体
5,6 導電棒
7,8 電極
9 ベローズ
10,11 アークシールド
13a,13b 接点
14 ろう付け部
15 るつぼ
20 成形体
21 ブロック
22 アルミナ粉末
Claims (6)
- 真空バルブ用接点材料において、
55〜75体積%のCuからなる導電成分と、
25〜45体積%の総量の耐弧成分および補助成分とを備え、
耐弧成分は、W,Mo,Taの少なくとも一つからなり、補助成分がCrからなり、
前記補助成分は、前記耐弧成分と前記補助成分の総量に対して0.3〜5重量%の範囲であり、前記耐弧成分粒子の表面の一部または全てを補助成分が被覆していることを特徴とする真空バルブ用接点材料。 - 耐弧成分は平均粒径0.3〜10μmの粒子状体からなることを特徴とする請求項1に記載の真空バルブ用接点材料。
- 真空バルブ用接点材料の製造方法において、
Cuからなる導電成分粉末と、W,Mo,Taの少なくとも一つからなる耐弧成分粉末とを混合して混合粉末を形成する工程と、
前記混合粉末を真空バルブ用接点材料の形状に成形して成形体を作製する工程と、
成形体に0.3〜5重量%のCrを含むCuとCrの合金を溶浸する工程とからなる真空バルブ用接点材料の製造方法。 - 真空バルブ用接点材料の製造方法において、
Cuからなる導電成分粉末と、W,Mo,Taの少なくとも一つからなる耐弧成分粉末と、Crからなる補助成分粉末を混合して混合粉末を形成する工程と、
前記混合粉末を真空バルブ用接点材料の形状に成形して成形体を作製する工程と、
成形体をCuの液相存在下において液相焼結する工程とからなる真空バルブ用接点材料の製造方法。 - 前記液相焼結する工程は、Cuの融点以上の温度でかつ1350℃以下の温度にて行なわれることを特徴とする請求項4に記載の真空バルブ用接点材料の製造方法。
- 前記液相焼結する工程において、成形体は容器内に設置され、この容器と成形体との間隙に粉末状の酸化物が充填されることを特徴とする請求項5に記載の真空バルブ用接点材料の製造方法。
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JP2005051658A JP2006233298A (ja) | 2005-02-25 | 2005-02-25 | 真空バルブ用接点材料およびその製造方法 |
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