JP2006225699A - 有機材料用蒸発源及び有機蒸着装置 - Google Patents
有機材料用蒸発源及び有機蒸着装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006225699A JP2006225699A JP2005039334A JP2005039334A JP2006225699A JP 2006225699 A JP2006225699 A JP 2006225699A JP 2005039334 A JP2005039334 A JP 2005039334A JP 2005039334 A JP2005039334 A JP 2005039334A JP 2006225699 A JP2006225699 A JP 2006225699A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- evaporation
- evaporation source
- organic
- impregnation
- organic material
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 title claims abstract description 107
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 title claims abstract description 103
- 239000011368 organic material Substances 0.000 title claims abstract description 33
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 claims abstract description 46
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 22
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 21
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000003860 storage Methods 0.000 abstract description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 16
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 10
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 7
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 2
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229910021397 glassy carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【課題】蒸着時における加熱温度及び蒸発速度の制御を正確且つ応答性良く行うことが可能な有機材料用蒸発源及びこれを用いた有機蒸着装置を提供する。
【解決手段】本発明の有機材料用蒸発源3は、所定の有機材料を収容する収容凹部33aを有する蒸発用容器33と、有機材料を加熱するための高周波誘導用のコイル50からなる加熱部とを備えている。蒸発用容器33の収容凹部33aは、開口側に向って開口形状が漸次大きくなるように略断面円錐形状に形成されている。蒸発用容器33の収容凹部33aの表面には、当該蒸発材料10の含浸を防止するための含浸防止部が設けられている。含浸防止部は、例えば薄膜のコーティングにより形成する。
【選択図】 図1
Description
図6に示すように、この有機蒸着装置101にあっては、真空槽102の下部に蒸発源103が配設されるとともに、この蒸発源103の上方に成膜対象物である基板104が配置されている。
請求項2記載の発明は、請求項1記載の発明において、前記収容凹部が、略断面円錐形状に形成されているものである。
請求項3記載の発明は、請求項1又は2のいずれか1項記載の発明において、前記収容凹部の表面に当該蒸発材料の含浸を防止するための含浸防止部が設けられているものである。
請求項4記載の発明は、請求項1乃至3のいずれか1項記載の発明において、前記含浸防止部が、薄膜のコーティングにより形成されたものである。
請求項5記載の発明は、請求項1乃至3のいずれか1項記載の発明において、前記含浸防止部が、蒸発用容器に対して着脱自在のカップ状の含浸防止部材からなるものである。
請求項6記載の発明は、請求項1乃至5のいずれか1項記載の有機材料用蒸発源が配置された真空槽を有する有機蒸着装置である。
図1に示すように、本実施の形態の有機蒸着装置1は、図示しない真空排気系に接続された真空槽2を有し、この真空槽2の下方に後述する有機材料用蒸発源3が配設されている。
以下、本発明に係る有機材料用蒸発源の詳細な構成をホスト蒸発源31を例にとって説明する。
これらのうちでも、ボロンナイトライド(BN)は、熱応力歪が小さくグラファイト製の蒸発容器33との密着性が良い点から特に好ましい。
図3(a)(b)に示すように、本例は、含浸防止部として、蒸発用容器33に対して着脱自在のカップ状の含浸防止部材36を用いたものである。
Claims (6)
- 所定の有機材料を収容する収容凹部を有する蒸発用容器と、
前記有機材料を加熱するための高周波誘導コイルからなる加熱部とを備え、
前記収容凹部は、開口側に向って開口形状が漸次大きくなるように形成されている有機材料用蒸発源。 - 前記収容凹部が、略断面円錐形状に形成されている請求項1記載の有機材料用蒸発源。
- 前記収容凹部の表面に当該蒸発材料の含浸を防止するための含浸防止部が設けられている請求項1又は2のいずれか1項記載の有機材料用蒸発源。
- 前記含浸防止部が、薄膜のコーティングにより形成されたものである請求項1乃至3のいずれか1項記載の有機材料用蒸発源。
- 前記含浸防止部が、蒸発用容器に対して着脱自在のカップ状の含浸防止部材からなる請求項1乃至3のいずれか1項記載の有機材料用蒸発源。
- 請求項1乃至5のいずれか1項記載の有機材料用蒸発源が配置された真空槽を有する有機蒸着装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005039334A JP4902123B2 (ja) | 2005-02-16 | 2005-02-16 | 有機材料用蒸発源及び有機蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005039334A JP4902123B2 (ja) | 2005-02-16 | 2005-02-16 | 有機材料用蒸発源及び有機蒸着装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006225699A true JP2006225699A (ja) | 2006-08-31 |
JP4902123B2 JP4902123B2 (ja) | 2012-03-21 |
Family
ID=36987323
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005039334A Expired - Fee Related JP4902123B2 (ja) | 2005-02-16 | 2005-02-16 | 有機材料用蒸発源及び有機蒸着装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4902123B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012124593A1 (ja) * | 2011-03-15 | 2012-09-20 | シャープ株式会社 | 蒸着粒子射出装置および蒸着装置 |
CN107267921A (zh) * | 2017-07-24 | 2017-10-20 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀坩埚及蒸镀装置 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60152670A (ja) * | 1984-01-20 | 1985-08-10 | Ulvac Corp | 高周波誘導加熱蒸発源 |
JPH0829066A (ja) * | 1994-07-15 | 1996-02-02 | Ibiden Co Ltd | カーボンルツボ装置 |
JPH11222667A (ja) * | 1998-02-06 | 1999-08-17 | Ulvac Corp | 蒸着源用るつぼ、及び蒸着装置 |
JP2002128590A (ja) * | 2000-10-20 | 2002-05-09 | Sharp Corp | 分子線エピタキシ装置用ルツボおよびそれを備えた分子線エピタキシ装置 |
JP2003293120A (ja) * | 2002-04-01 | 2003-10-15 | Ulvac Japan Ltd | 蒸発源及びこれを用いた薄膜形成装置 |
JP2004131749A (ja) * | 2002-10-08 | 2004-04-30 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | 真空成膜装置及び成膜方法 |
JP2004137583A (ja) * | 2002-10-21 | 2004-05-13 | Tohoku Pioneer Corp | 真空蒸着装置 |
JP2004323915A (ja) * | 2003-04-24 | 2004-11-18 | Tokki Corp | 蒸着装置における有機材料用蒸発源及びその蒸着装置 |
-
2005
- 2005-02-16 JP JP2005039334A patent/JP4902123B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60152670A (ja) * | 1984-01-20 | 1985-08-10 | Ulvac Corp | 高周波誘導加熱蒸発源 |
JPH0829066A (ja) * | 1994-07-15 | 1996-02-02 | Ibiden Co Ltd | カーボンルツボ装置 |
JPH11222667A (ja) * | 1998-02-06 | 1999-08-17 | Ulvac Corp | 蒸着源用るつぼ、及び蒸着装置 |
JP2002128590A (ja) * | 2000-10-20 | 2002-05-09 | Sharp Corp | 分子線エピタキシ装置用ルツボおよびそれを備えた分子線エピタキシ装置 |
JP2003293120A (ja) * | 2002-04-01 | 2003-10-15 | Ulvac Japan Ltd | 蒸発源及びこれを用いた薄膜形成装置 |
JP2004131749A (ja) * | 2002-10-08 | 2004-04-30 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | 真空成膜装置及び成膜方法 |
JP2004137583A (ja) * | 2002-10-21 | 2004-05-13 | Tohoku Pioneer Corp | 真空蒸着装置 |
JP2004323915A (ja) * | 2003-04-24 | 2004-11-18 | Tokki Corp | 蒸着装置における有機材料用蒸発源及びその蒸着装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012124593A1 (ja) * | 2011-03-15 | 2012-09-20 | シャープ株式会社 | 蒸着粒子射出装置および蒸着装置 |
CN103380227A (zh) * | 2011-03-15 | 2013-10-30 | 夏普株式会社 | 蒸镀颗粒射出装置和蒸镀装置 |
JP5384770B2 (ja) * | 2011-03-15 | 2014-01-08 | シャープ株式会社 | 蒸着粒子射出装置および蒸着装置 |
CN107267921A (zh) * | 2017-07-24 | 2017-10-20 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀坩埚及蒸镀装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4902123B2 (ja) | 2012-03-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7905961B2 (en) | Linear type deposition source | |
JP5150641B2 (ja) | 蒸着源、有機el素子の製造装置 | |
US20180037982A1 (en) | Linear evaporation source and deposition apparatus including the same | |
US20140109829A1 (en) | Linear evaporation source and vacuum deposition apparatus including the same | |
KR100869199B1 (ko) | 증착원 및 증착장치 | |
JP2007113112A (ja) | 薄膜蒸着装置及びそれを用いた薄膜蒸着方法 | |
JP2011256427A (ja) | 真空蒸着装置における蒸着材料の蒸発、昇華方法および真空蒸着用るつぼ装置 | |
KR20070118917A (ko) | 증발원 | |
WO2005111259A1 (ja) | 有機材料用蒸発源及び有機蒸着装置 | |
JP2009108381A (ja) | 成膜装置及び成膜方法 | |
US20130160712A1 (en) | Evaporation cell and vacuum deposition system the same | |
JPWO2018199184A1 (ja) | 蒸発源及び成膜装置 | |
JP4902123B2 (ja) | 有機材料用蒸発源及び有機蒸着装置 | |
US20110076399A1 (en) | Deposition source | |
JP6291696B2 (ja) | 蒸着装置および蒸発源 | |
JP2011122199A (ja) | 蒸着装置 | |
US20100314246A1 (en) | Sputter-coating apparatus having heating unit | |
JP2023075126A (ja) | 真空チャンバ内で基板をコーティングするための気相堆積装置及び方法 | |
JP5193487B2 (ja) | 蒸着装置および蒸着方法 | |
JP2009149919A (ja) | 膜厚モニタ装置及びこれを備える成膜装置 | |
JP4741430B2 (ja) | 成膜装置および成膜方法 | |
Ortner et al. | Influence of bias voltage on the structure of lead zirconate titanate piezoelectric films prepared by gas flow sputtering | |
JP2008156726A (ja) | 真空蒸着装置 | |
JP2002161355A (ja) | 真空蒸着用蒸発材料収容容器 | |
KR101213094B1 (ko) | 증착 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080128 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100426 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100511 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100702 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20100702 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110111 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111227 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111228 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4902123 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150113 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |