JP4741430B2 - 成膜装置および成膜方法 - Google Patents
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Description
20 成膜室
3 被成膜体
30 (被成膜体の)貫通孔
33 (被成膜体の)穴
4 支持体
5 原料ガス供給手段
70,73 発熱体
8,8′ ホルダ
80,80′ (ホルダの)環状部
81,81′ (ホルダの)位置決め部
82,82′ (ホルダの)連結部
Claims (2)
- 被成膜体を収容するための成膜室と、
前記被成膜体を支持するための支持体と、
前記成膜室に原料ガスを供給するための原料ガス供給手段と、
前記成膜室において原料ガスを堆積種とするための発熱体と、
を備えた成膜装置であって、
前記被成膜体が穴を有するものであり、前記穴の内面に堆積膜を形成するための成膜装置において、
前記穴は、貫通孔であり、
前記発熱体は、前記支持体に前記被成膜体を支持させたときに、前記穴に挿通された状態となるように配置されており、
前記支持体および前記発熱体は、複数の被成膜体を1または複数のホルダによって連結し、前記複数の被成膜体の穴に、前記発熱体を一連に挿通させた状態で、前記複数の被成膜体を支持できるように配置され、前記ホルダは、前記被成膜体を嵌合させる環状部と、前記発熱体の断面形状に対応した形状の貫通孔を有する位置決め部と、前記環状部と前記位置決め部とを連結する連結部と、を備えていることを特徴とする、成膜装置。 - 貫通孔を有する被成膜体を成膜室に収容し、かつ前記貫通孔に発熱体を挿通する工程Aと、
前記成膜室に原料ガスを供給する工程Bと、
前記発熱体を加熱して前記貫通孔において原料ガスを堆積種とする工程Cと、を有し、
前記工程Aにおいては、複数の被成膜体を1または複数のホルダによって連結した状態において、前記複数の被成膜体の前記貫通孔に、前記発熱体を一連に挿通させた状態で前記被成膜体を配置し、
前記ホルダは、前記被成膜体を嵌合させる環状部と、前記発熱体の断面形状に対応した形状の貫通孔を有する位置決め部と、前記環状部と前記位置決め部とを連結する連結部と、を備えていることを特徴とする、成膜方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006182670A JP4741430B2 (ja) | 2006-06-30 | 2006-06-30 | 成膜装置および成膜方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2008013782A JP2008013782A (ja) | 2008-01-24 |
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JP (1) | JP4741430B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4957746B2 (ja) * | 2009-04-13 | 2012-06-20 | 株式会社デンソー | プラズマ発生装置 |
US10174422B2 (en) * | 2012-10-25 | 2019-01-08 | Applied Materials, Inc. | Apparatus for selective gas injection and extraction |
RU2661320C1 (ru) * | 2017-04-26 | 2018-07-13 | Закрытое акционерное общество Научно-инженерный центр "ИНКОМСИСТЕМ" | Способ гидрофобизации субстрата |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPH03114610A (ja) * | 1989-09-27 | 1991-05-15 | Showa Denko Kk | 線引き用ダイス |
JP2003347103A (ja) * | 2002-05-27 | 2003-12-05 | Kyocera Corp | 抵抗体 |
WO2005056873A1 (en) * | 2003-12-05 | 2005-06-23 | Morgan Advanced Ceramics, Inc. | Free-standing silicon carbide articles formed by chemical vapor deposition and methods for their manufacture |
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- 2006-06-30 JP JP2006182670A patent/JP4741430B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2008013782A (ja) | 2008-01-24 |
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