JP2008013782A - 成膜装置および成膜方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被成膜体3を収容するための成膜室20と、被成膜体3を支持するための支持体4と、成膜室20において原料ガスを堆積種とするための発熱体70と、を備えた成膜装置1において、支持体4に被成膜体3を支持させたときに、発熱体70の少なくとも一部を被成膜体3の穴30に挿入して原料ガスを加熱するようにした。
【選択図】図1
Description
20 成膜室
3 被成膜体
30 (被成膜体の)貫通孔
33 (被成膜体の)穴
4 支持体
5 原料ガス供給手段
70,73 発熱体
8,8′ ホルダ
80,80′ (ホルダの)環状部
81,81′ (ホルダの)位置決め部
82,82′ (ホルダの)連結部
Claims (15)
- 被成膜体を収容するための成膜室と、
前記被成膜体を支持するための支持体と、
前記成膜室に原料ガスを供給するための原料ガス供給手段と、
前記成膜室において原料ガスを堆積種とするための発熱体と、
を備えた成膜装置であって、
前記被成膜体が穴を有するものであり、前記穴の内面に堆積膜を形成するための成膜装置において、
前記発熱体は、前記支持体に前記被成膜体を支持させたときに、少なくとも一部が前記穴に挿入されるように構成されていることを特徴とする、成膜装置。 - 前記発熱体は、ワイヤである、請求項1に記載の成膜装置。
- 前記穴は、貫通孔であり、
前記発熱体は、前記支持体に前記被成膜体を支持させたときに、前記穴に挿通された状態となるように配置されている、請求項1または2に記載の成膜装置。 - 前記支持体および前記発熱体は、前記被成膜体を前記支持体に支持させたときに、前記発熱体における軸心と、前記穴における貫通方向に直交する方向の断面の中心との距離は、前記断面における該断面の中心を通る最短距離の0.2倍以下となるように配置されている、請求項3に記載の成膜装置。
- 前記支持体および前記発熱体は、複数の被成膜体を1または複数のホルダによって連結し、前記複数の被成膜体の穴に、前記発熱体を一連に挿通させた状態で、前記複数の被成膜体を支持できるように配置されている、請求項3または4に記載の成膜装置。
- 前記ホルダは、前記被成膜体を嵌合させる環状部と、前記発熱体の断面形状に対応した形状の貫通孔を有する位置決め部と、前記環状部と前記位置決め部とを連結する連結部と、を備えている、請求項5に記載の成膜装置。
- 前記穴に前記原料ガスによる第1堆積膜を形成した後において、前記発熱体を加熱により蒸発させ、前記堆積膜の表面に、前記発熱体による第2堆積膜を形成するように構成されている、請求項1ないし6のいずれか1つに記載の成膜装置。
- 穴を有する被成膜体を収容するための成膜室と、
前記被成膜体を支持するための支持体と、
前記支持体に前記被成膜体を支持させたときに、少なくとも一部が前記穴に挿入される発熱体と、を備えており、
前記発熱体を加熱により蒸発させ、その蒸発成分により前記穴の内面に堆積膜を形成するように構成されていることを特徴とする、成膜装置。 - 穴を有する被成膜体を成膜室に収容し、かつ前記穴に発熱体の一部を挿入する工程Aと、
前記成膜室に原料ガスを供給する工程Bと、
前記発熱体を加熱して前記穴において原料ガスを堆積種とする工程Cと、
を含んでいることを特徴とする、成膜方法。 - 前記発熱体として、ワイヤを用いる、請求項9に記載の成膜方法。
- 前記穴が貫通孔である場合において、
前記工程Aにおいては、前記発熱体が前記穴に挿通した状態とされる、請求項9または10に記載の成膜方法。 - 前記工程Aにおいては、前記発熱体における軸心と、前記穴における貫通方向に直交する方向の断面の中心との距離が、前記断面における該断面の中心を通る最短距離の0.2倍以下となるように前記被成膜体が配置される、請求項11に記載の成膜方法。
- 前記工程Aにおいては、複数の被成膜体を1または複数のホルダによって連結した状態において、前記複数の被成膜体の穴に、前記発熱体を一連に挿通させた状態で前記被成膜体が配置される、請求項11または12に記載の成膜方法。
- 前記ホルダは、前記被成膜体を嵌合させる環状部と、前記発熱体の断面形状に対応した形状の貫通孔を有する位置決め部と、前記環状部と前記位置決め部とを連結する連結部と、を備えている、請求項13に記載の成膜方法。
- 前記工程Cの後において行われ、かつ前記発熱体を加熱により蒸発させ、前記堆積膜の表面に、前記発熱体の蒸発成分による堆積膜を積層形成する工程Dをさらに含んでいる、請求項9ないし14のいずれか1つに記載の成膜方法。
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