JP4583061B2 - 発熱体cvd装置 - Google Patents
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Description
端部側の電極が鉛直方向に沿って移動可能に保持されており、前記発熱体には、前記下方端部側の電極にかかる重力による鉛直下向きの引張力が付与されており、前記下方端部側の電極は、接続部材を介して外部電源と電気的に接続し、前記接続部材が、前記下方端部側の電極に鉛直下向きの引張力を重畳することを特徴とする発熱体CVD装置を提供する。
2・・・基体
3・・・基体支持体
4・・・発熱体
5・・・電極
6a・・・弾性部材(バネ)
6b・・・支持部材
6c・・・スライド手段
7・・・ガス供給手段
8・・・ガス吹き出し孔
9・・・Al基体
10・・・キャリア注入阻止層
11・・・光導電層
12・・・表面保護層
13・・・感光体
Claims (3)
- 基体を収容する真空容器と、該真空容器内に原料ガスを供給するガス供給手段と、該ガス供給手段より供給される原料ガスに接触するように配置された、鉛直方向に沿って延びた長尺状の発熱体と、を備え、
前記ガス供給手段からの原料ガスを前記発熱体の発する熱によって分解し、該分解された原料ガス成分を基体上に堆積させて成膜を行う発熱体CVD装置において、
前記発熱体の上方側端部および下方側端部それぞれに電極が接続され、
前記上方端部側の電極が前記真空容器に対して固定されるとともに、前記下方端部側の電極が鉛直方向に沿って移動可能に保持されており、
前記発熱体には、前記下方端部側の電極にかかる重力による鉛直下向きの引張力が付与されており、
前記下方端部側の電極は、接続部材を介して外部電源と電気的に接続し、前記接続部材が、前記下方端部側の電極に鉛直下向きの引張力を重畳することを特徴とする発熱体CVD装置。 - 前記引張力の印加時における発熱体中の応力が弾性限度以下に設定されていることを特徴とする請求項1に記載の発熱体CVD装置。
- 前記基体及び前記発熱体が略平行に配置されていることを特徴とする請求項1または2に記載の発熱体CVD装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004097724A JP4583061B2 (ja) | 2004-03-30 | 2004-03-30 | 発熱体cvd装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004097724A JP4583061B2 (ja) | 2004-03-30 | 2004-03-30 | 発熱体cvd装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005281776A JP2005281776A (ja) | 2005-10-13 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP4583061B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100688838B1 (ko) | 2005-05-13 | 2007-03-02 | 삼성에스디아이 주식회사 | 촉매 화학기상증착장치 및 촉매 화학기상증착방법 |
KR101333530B1 (ko) | 2006-06-30 | 2013-11-28 | 삼성디스플레이 주식회사 | 촉매재 화학기상증착 장치 |
JP5268059B2 (ja) * | 2008-09-03 | 2013-08-21 | 株式会社石川製作所 | 触媒化学気相成長装置の触媒体支持構造 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004055651A (ja) * | 2002-07-17 | 2004-02-19 | Ulvac Japan Ltd | 触媒cvd用触媒線 |
JP2004083997A (ja) * | 2002-08-27 | 2004-03-18 | Ulvac Japan Ltd | 縦型化学気相成長装置及び該装置を用いた成膜方法 |
JP2004091836A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Hiroshima Pref Gov | 熱フィラメントcvd装置及びそのフィラメント構造並びに熱フィラメントcvd法 |
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2004
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004055651A (ja) * | 2002-07-17 | 2004-02-19 | Ulvac Japan Ltd | 触媒cvd用触媒線 |
JP2004083997A (ja) * | 2002-08-27 | 2004-03-18 | Ulvac Japan Ltd | 縦型化学気相成長装置及び該装置を用いた成膜方法 |
JP2004091836A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Hiroshima Pref Gov | 熱フィラメントcvd装置及びそのフィラメント構造並びに熱フィラメントcvd法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005281776A (ja) | 2005-10-13 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091014 |
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A521 | Written amendment |
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