JP2006215520A - 光干渉式カラーディスプレイの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板を提供し、基板上に第1電極構造を形成し、第1電極構造上に第1領域・第2領域・第3領域を定義し、第1領域・第2領域・第3領域内の第1電極構造上に第1犠牲層を形成し、第2領域・第3領域内の第1犠牲層上に第2犠牲層を形成し、第3領域内の第2犠牲層上に第3犠牲層を形成するものであって、第1犠牲層・第2犠牲層・第3犠牲層が異なるエッチングレートを有するものであり、第1電極構造上にパターン支持層を形成し、第2電極層を第1領域内の第1犠牲層上・第2領域内の第2犠牲層上・第3領域内の第3犠牲層上・パターン支持層上の一部に形成し、第1犠牲層・第2犠牲層・第3犠牲層を除去して第1電極構造および第2電極層間に複数個のエアーギャップを形成する。
【選択図】図3E
Description
1.この発明にかかる光干渉式カラーディスプレイの製造方法は、犠牲層が損傷されることを回避できるので、エアーギャップを良好に制御することができ、製造歩留まりを向上させることができるから、光干渉式カラーディスプレイの光学特性を向上させることができる。
2.この発明にかかる光干渉式カラーディスプレイの製造方法は、異なるエッチングレートの材質を堆積することにより犠牲層を形成しているので、犠牲層が損傷を受けることを回避できるとともに、犠牲層の厚さを精確に制御することができる。
<第1実施例>
図3A〜3Fは、この発明にかかる光干渉式カラーディスプレイの製造方法を示す要部断面図であり、図3Aにおいて、透明基板210が提供されるが、材質としては、例えば、ガラスまたはプラスチックとし、この透明基板210上に第1電極構造220が形成される。
図4Aから図4Fは、この発明の第2実施例にかかる光干渉式カラーディスプレイの製造方法を示す要部断面図である。図4Aにおいて、そのステップは、図3Aに類似しており、先ず、第1電極構造320が形成されるとともに、第1領域10と第2領域20と第3領域30とが定義される。
210,310 透明基板
220,320 第1電極構造
222,322 第1(透明)電極
224,324 吸収層
226,326 光学層
230,330 パターン支持層
232,332 第1犠牲層
234,334 第2犠牲層
236,336 第3犠牲層
240,340 第2電極層
Claims (26)
- 基板を提供し、前記基板上に第1電極構造を形成することと、
前記第1電極構造上に第1領域および第2領域ならびに第3領域を定義することと、
前記第1領域および前記第2領域ならびに前記第3領域内の前記第1電極構造上に第1犠牲層を形成することと、
前記第2領域および前記第3領域内の前記第1犠牲層上に第2犠牲層を形成することと、
前記第3領域内の前記第2犠牲層上に第3犠牲層を形成するものであって、前記第1犠牲層および前記第2犠牲層ならびに前記第3犠牲層が異なるエッチングレートを有するものであることと、
前記第1電極構造上にパターン支持層を形成することと、
第2電極層を前記第1領域内の前記第1犠牲層上および前記第2領域内の前記第2犠牲層上ならびに前記第3領域内の前記第3犠牲層上および前記パターン支持層上の一部に形成することと、
前記第1犠牲層および前記第2犠牲層ならびに前記第3犠牲層を除去して前記第1電極構造および前記第2電極層間に複数個のエアーギャップを形成することと
を含むものである光干渉式カラーディスプレイの製造方法。 - 前記基板が、ガラス基板またはプラスチック基板を含むものである請求項1記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記第1電極構造を形成するステップが、
前記基板上に複数個の第1電極を形成することと、
前記した複数個の第1電極上に吸収層を形成することと、
前記吸収層上に光学層を形成することと
を含むものである請求項1記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。 - 前記した複数個の第1電極が、透明電極であるとともに、前記した複数個の第1電極の材質がインジウムスズ酸化物(ITO)を含むものである請求項3記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記吸収層の材質が、クロム(Cr)またはクロム化モリブデン(MoCr)を含むものである請求項3記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記光学層の材質が、窒化シリコンまたは酸化シリコンを含むものである請求項3記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記パターン支持層の材質が、フォトレジスト層を含むものである請求項1記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記第2犠牲層のエッチングレートが、前記第1犠牲層のエッチングレートの1.5倍であり、かつ前記第3犠牲層のエッチングレートが、前記第2犠牲層のエッチングレートの1.5倍である請求項1記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記第1犠牲層の材質が、クロム化モリブデン(MoCr)、クロム(Cr)、ポリシリコン、アモルファスシリコン、N型アモルファスシリコンからなる群より選択されるものである請求項1記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記第2犠牲層の材質が、クロム化モリブデン(MoCr)、クロム(Cr)、ポリシリコン、アモルファスシリコン、N型アモルファスシリコンからなる群より選択されるものである請求項1記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記第3犠牲層の材質が、クロム化モリブデン(MoCr)、クロム(Cr)、ポリシリコン、アモルファスシリコン、N型アモルファスシリコンからなる群より選択されるものである請求項1記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記第2電極が金属電極であり、前記第2電極の材質がモリブデン(Mo)、モリブデン合金、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム(Cr)、ニッケル、チタンからなる群より選択されるもの、および組み合わせの1つである請求項1記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 基板を提供し、前記基板上に第1電極構造を形成することと、
前記第1電極構造上に第1領域および第2領域ならびに第3領域を定義することと、
前記第1領域の前記第1電極構造上に第1犠牲層を形成することと、
前記第2領域の前記第1電極構造上に第2犠牲層を形成することと、
前記第3領域の前記第1電極構造上に第3犠牲層を形成するものであって、前記第1犠牲層および前記第2犠牲層ならびに前記第3犠牲層のエッチングレートおよび厚さがいずれも異なるものであることと、
前記第1電極構造上にパターン支持層を形成することと、
第2電極層を前記第1領域内の前記第1犠牲層上および前記第2領域内の前記第2犠牲層上ならびに前記第3領域内の前記第3犠牲層上および前記パターン支持層上の一部に形成することと、
前記第1犠牲層および前記第2犠牲層ならびに前記第3犠牲層を除去して前記第1電極構造および前記第2電極層間に複数個のエアーギャップを形成することと
を含むものである光干渉式カラーディスプレイの製造方法。 - 前記基板が、ガラス基板またはプラスチック基板を含むものである請求項13記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記第1電極構造を形成するステップが、
前記基板上に複数個の第1電極を形成することと、
前記した複数個の第1電極上に吸収層を形成することと、
前記吸収層上に光学層を形成することと
を含むものである請求項13記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。 - 前記した複数個の第1電極が、透明電極であるとともに、前記した複数個の第1電極の材質がインジウムスズ酸化物(ITO)を含むものである請求項15記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記吸収層の材質が、クロム(Cr)またはクロム化モリブデン(MoCr)を含むものである請求項15記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記光学層の材質が、窒化シリコンまたは酸化シリコンを含むものである請求項15記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記パターン支持層の材質が、フォトレジスト層を含むものである請求項13記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記第2犠牲層のエッチングレートが、前記第1犠牲層のエッチングレートの1.5倍であり、かつ前記第3犠牲層のエッチングレートが、前記第2犠牲層のエッチングレートの1.5倍である請求項13記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記第1犠牲層の材質が、クロム化モリブデン(MoCr)、クロム(Cr)、ポリシリコン、アモルファスシリコン、N型アモルファスシリコンからなる群より選択されるものである請求項13記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記第2犠牲層の材質が、クロム化モリブデン(MoCr)、クロム(Cr)、ポリシリコン、アモルファスシリコン、N型アモルファスシリコンからなる群より選択されるものである請求項13記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記第3犠牲層の材質が、クロム化モリブデン(MoCr)、クロム(Cr)、ポリシリコン、アモルファスシリコン、N型アモルファスシリコンからなる群より選択されるものである請求項13記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 前記第2電極が金属電極であり、前記第2電極の材質がモリブデン(Mo)、モリブデン合金、アルミニウム、アルミニウム合金、クロム(Cr)、ニッケル、チタンからなる群より選択されるもの、および組み合わせの1つである請求項13記載の光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
- 基板を提供し、前記基板上に第1電極構造を形成することと、
前記第1電極構造上に第1領域および第2領域を定義することと、
前記第1領域および前記第2領域の前記第1電極構造上に第1犠牲層を形成することと、
前記第2領域内の前記第1犠牲層上に第2犠牲層を形成するものであって、前記第1犠牲層および前記第2犠牲層が異なるエッチングレートを有するものであることと、
前記第1電極上にパターン支持層を形成することと、
第2電極層を前記第1領域内の前記第1犠牲層上および前記第2領域内の第2犠牲層上ならびに前記パターン支持層の一部上に形成することと、
前記第1犠牲層上および前記第2犠牲層を除去して前記第1電極構造および前記第2電極層間に複数個のエアーギャップを形成することと
を含むものである光干渉式カラーディスプレイの製造方法。 - 基板を提供し、前記基板上に第1電極構造を形成することと、
前記第1電極構造上に第1領域および第2領域を定義することと、
前記第1領域の前記第1電極構造上に第1犠牲層を形成することと、
前記第2領域の前記第1電極構造上に第2犠牲層を形成するものであって、前記第1犠牲層および前記第2犠牲層が異なるエッチングレートならびに厚さを有するものであることと、
前記第1電極上にパターン支持層を形成することと、
第2電極層を前記第1領域内の前記第1犠牲層上および前記第2領域内の第2犠牲層上ならびに前記パターン支持層の一部上に形成することと、
前記第1犠牲層上および前記第2犠牲層を除去して前記第1電極構造および前記第2電極層間に複数個のエアーギャップを形成することと
を含むものである光干渉式カラーディスプレイの製造方法。
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