JP2005183386A - 目に見えない電極を有する透明な素子の製造方法 - Google Patents

目に見えない電極を有する透明な素子の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2005183386A
JP2005183386A JP2004362948A JP2004362948A JP2005183386A JP 2005183386 A JP2005183386 A JP 2005183386A JP 2004362948 A JP2004362948 A JP 2004362948A JP 2004362948 A JP2004362948 A JP 2004362948A JP 2005183386 A JP2005183386 A JP 2005183386A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
transparent
dielectric
refractive index
nanometers
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004362948A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4689259B2 (ja
Inventor
Joachim Grupp
ヨアヒム・グルップ
Gian-Carlo Poli
ジアン−カルロ・ポリ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asulab AG
Original Assignee
Asulab AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asulab AG filed Critical Asulab AG
Publication of JP2005183386A publication Critical patent/JP2005183386A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4689259B2 publication Critical patent/JP4689259B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3417—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials all coatings being oxide coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • C03C17/3429—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating
    • C03C17/3447—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a halide
    • C03C17/3452—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials at least one of the coatings being a non-oxide coating comprising a halide comprising a fluoride
    • G—PHYSICS
    • G04—HOROLOGY
    • G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B39/00—Watch crystals; Fastening or sealing of crystals; Clock glasses
    • G04B39/002—Watch crystals; Fastening or sealing of crystals; Clock glasses made of glass
    • G—PHYSICS
    • G04—HOROLOGY
    • G04B—MECHANICALLY-DRIVEN CLOCKS OR WATCHES; MECHANICAL PARTS OF CLOCKS OR WATCHES IN GENERAL; TIME PIECES USING THE POSITION OF THE SUN, MOON OR STARS
    • G04B39/00—Watch crystals; Fastening or sealing of crystals; Clock glasses
    • G04B39/004—Watch crystals; Fastening or sealing of crystals; Clock glasses from a material other than glass
    • G04B39/006—Watch crystals; Fastening or sealing of crystals; Clock glasses from a material other than glass out of wear resistant material, e.g. sapphire
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/73—Anti-reflective coatings with specific characteristics
    • C03C2217/734—Anti-reflective coatings with specific characteristics comprising an alternation of high and low refractive indexes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/90—Other aspects of coatings
    • C03C2217/94—Transparent conductive oxide layers [TCO] being part of a multilayer coating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/32—After-treatment
    • C03C2218/328—Partly or completely removing a coating
    • C03C2218/33—Partly or completely removing a coating by etching
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
    • C03C2218/34—Masking
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03K—PULSE TECHNIQUE
    • H03K17/00—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking
    • H03K17/94—Electronic switching or gating, i.e. not by contact-making and –breaking characterised by the way in which the control signals are generated
    • H03K17/96—Touch switches
    • H03K17/962—Capacitive touch switches
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S977/00—Nanotechnology
    • Y10S977/70—Nanostructure
    • Y10S977/811—Of specified metal oxide composition, e.g. conducting or semiconducting compositions such as ITO, ZnOx

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

【課題】取り扱いの容易な最終製品を得るために実施される、より容易で、より経済的な方法を提供する。
【解決手段】電極（２）および導電性経路（４）を含む、ＩＴＯなどの透明な導電性酸化物からなる導電性のパターンが、サファイアもしくは強化ガラスで作られた透明な基体（３）の一方の面上に形成され、次に、ΜｇＦ2もしくはＬｉＦ2などの低屈折率の透明誘電体からなる第１の層（５）でコーティングされ、更に、Αｌ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、もしくはＤＬＣなどの、高屈折率の別の透明誘電体からなる第２の層（７）でコーティングされる。
【選択図】図２

Description

本発明は、反射防止効果を併せ持つ透明な誘電材料の特殊な配列により、可視光の波長範囲では輪郭が認識できない電極を含む透明な素子を製造する方法に関するものである。
「透明な素子」とは、例えば、腕時計のガラス、あるいは、液晶表示セルもしくは光電池セルの透明板の上にでも構成させることができる透明電極を有する、接眼レンズ、腕時計のガラス、タッチ式画面のことを非限定的に意味する。
反射防止効果は、高屈折率を有する透明な誘電体材料（Ｈ）の少なくとも１つの層および低屈折率を有する誘電体材料（Ｌ）からなる第２の層を含む積層を透明な基体（Ｓ）上に形成することにより既知の方法で得られる。
先行タイプの方法は、例えば、フランス特許第２７５１６３８号に開示されている。ガラス基体は、ＬＰＣＶＤを介してΤｉＯ2（ｎは、２．３５）の薄膜のガス状前駆物質（ｐｒｅｃｕｒｓｏｒ）がコーティングされ、次にＳｉＯ2（ｎは、１．４６）のより厚い膜がコーティングされる。この操作は、１回の反復が可能であり、次の「ＳＨＬＨＬ」と簡潔に呼ばれる手順に続く。
同じタイプの手順は、米国特許第５，１７０，２９１号にも見られるが、異なった誘電体を使用し、その一例としては、順番にＴｉＯ2（ｎは、２．４）／Αｌ2Ｏ3（ｎは、１．６）／ＴｉＯ2（ｎは、２．４）／ＳｉＯ2（ｎは、１．４８）を含むもので、手順「ＳＨＬ1ＨＬ2」に対応する。
透明な基体が電極を含む必要があるとき、例えば、腕時計のガラス中に容量性タッチ画面を形成する必要があるとき、ＩＴＯ膜もしくは他の透明な導電性酸化物（ＴＣＯ）が最終の誘電体層上に堆積され、低屈折率を有する誘電体材料の最終コーティングで構造化される。この方法は、したがって、手順「ＳΗＬ1（ＴＣΟ）Ｌ2」と表現されている。この方法は、非常に良好な結果を与える、即ち、電極を実用上目に見えないようにすることが可能である。しかし、いくつかの欠点を持っている。とりわけ、ＣＶＤもしくは同等の方法でいくつかの異なった膜を堆積させねばならないので高価である。この方法は実施が困難で、特に、電極の構造化の段階では、最終誘電体膜が損傷を受けるという大きなリスクがあるので干渉の問題が新たに発生し、ある電極を依然として可視状態にする。低屈折率を有する最終の誘電体層は、一般的には、ＭｇＦ2（ｎは、１．３７）であるが、低い磨耗耐性を持っており、腕時計の場合、その層がタッチ画面の装着操作の際に損傷を受けるというリスクもある。
フランス特許第２７５１６３８号 米国特許第５，１７０，２９１号
したがって、本発明の目的は、取り扱いの容易な最終製品を得るために実施される、より容易で、より経済的な方法を提供することにより、上記の先行技術の欠点を克服することである。
本発明は、より具体的には、透明素子がサファイアもしくは強化ガラスにより作られた透明な基体により形成され、その基体の一方の面上に容量性センサーを形成するための電極を含む場合に関するものである。
したがって、本発明は透明な基体上に、電極、導電性経路、接触領域を含む透明な導電性酸化物（ＴＣＯ）からなる導電性パターンを形成する工程と、次の、低屈折率を有する第１の透明誘電体層（Ｌ）を堆積させる工程と、更に、第１の層よりも高い屈折率を有する別の透明誘電体からなる第２の層を堆積させる工程からなる方法に関するものである。
本明細書の最初の方で引用した先行技術に対して、本発明による方法は、手順「Ｓ（ＴＣＯ）ＬＨ」に対応して、目に見えない電極を有する透明な素子を得るということに集約できる。
本方法により、非常に良好な反射防止特性を得ることができるが、最外部の層を形成するための誘電体材料の選択次第で、卓越した光学的補償と、更に良好な耐摩耗性をも得ることができる。
好ましい実施の態様において、基体は、サファイアもしくは強化ガラスからなり、本方法により容量性タッチ画面が得られ、特に、文字盤上に表示される情報がはっきりと読み取れるように完全に透明でなければならない、腕時計のガラスの形成が可能となる。
本発明の他の特徴および利点は、添付の図面を参照し、非限定の例証として以下に説明される。
図１は、腕時計に装着される予定の、サファイアもしくは強化ガラスで作られたガラス１の底面図である。ガラス１は、ガラス１の外表面上に指で触れることにより作動可能な容量性タッチ方式センサー２の電極を形成する透明な導電性酸化物（ＴＣＯ）のパターンを含む透明な基体３により形成される。センサー２は、導電性経路４によりそれ自体腕時計の電子的ムーブメント、および／または、時間に関係した機能、時間に関係しない機能を制御するマイクロ・プロセッサーに接続された周辺接触領域６に接続されている。図１では、コントラストが非常に誇張されているが、なんらの処理もなされていない場合は、これら導電性素子２、４、６の全てがガラス１を通して目に見え、特に斜めから見ると、よく見える。
次に図２を参照にして、センサー２、導電性経路４、必要性は少ないが接触領域６を目に見えなくする、本発明による方法を以下に説明する。接触領域はフランジもしくはベゼルによって隠すこともできる。
第１のステップでは、サファイアもしくは強化ガラスの基体３の全表面にＴＣＯ膜をコーティングする。例えば、錫および酸化インジウム（ＩＴＯ）の堆積を、２５〜７５ナノメータ、好ましくは４５〜５５ナノメータの範囲の厚みで実施する。ＴＣＯは、アンチモンがドーピングされたΙｎ2Ｏ3およびＳｎＯ2から選択してもよい。次に化学エッチングを実施してセンサー２、導電性経路４、接触領域６に相当しない全ての領域のＴＣＯを除去する。マスクの残りの部分は、適切な溶剤と用いて超音波で剥離する。
第２のステップでは、基体を密閉室に導入し、低屈折率を有する透明誘電体（Ｌ）からなる第１の層５を、既知の物理蒸着技術（ＰＶＤ）もしくは関連技術（ＰＡＣＶＤ、ＰＥＣＶＤ、ＬＩＣＶＤなど）によりターゲットから堆積させる。堆積は、ＴＣＯがＩＴＯであるときは、導電性パターン２、４、６と共に、基体３を酸素の分圧下で略２５０℃の温度まで上げておいてから実施することが好ましい。
第三のステップでは、基体を同じ密閉室内に維持し、第１の層５よりも高い屈折率を有する他の透明誘電体（Ｈ）の第２の層７を同一の方法に従って堆積させる。
第１および第２の層を形成するために使用可能な誘電体材料は、周知の化合物であり、例えば、以下の化合物より選択できる。屈折率が増える順に等級分けすると、ＭｇＦ2、ＬｉＦ、ＳｉＯ2、ＳｉＯＸ、ＡｌＯ3、Ｓｉ3Ν4、ＺｎＳ、ＴｉＯ2、ΑｌΝ、Ｔａ2Ｏ5、ＤＬＣ（ダイアモンド状炭素）である。
例えば、堆積をＰＶＤにより実施する場合は、第１の層５用に低屈折率を有するフッ化マグネシウムもしくはフッ化リチウム（Ｌ）を使用することができ、ＭｇＦ2およびＬｉＦのｎは、それぞれ１．３７および１．３９である。この第１の層の厚さは、５０〜１００ナノメータであり、好ましくは約６０ナノメータの厚さである。
第２の層７を形成するために、アルミナ（ｎは、１．７０）、五酸化タンタル（ｎは、２．４）、またはダイアモンド状炭素などの高屈折率の誘電体材料が選択される。第２の層７の厚さは、８〜２５ナノメータであり、好ましくは約１６ナノメータの厚さである。この第２の、最外部の層には、良好な磨耗耐性を持つという利点もある。
最初に低屈折率材料で、次に高屈折率材料で行う、２回の誘電体堆積ステップは、少なくとも１回は繰り返すことが可能であり、手順Ｓ（ＴＣＯ）ＬＨＬＨに相当する。
本発明の範囲内で、手順Ｓ（ＴＣＯ）ＬＨＬＨがある場合も含み、ＳｉＯ2／Ｓｉ2Ν4もしくはＡｌ2Ｏ3／ＡｌΝなどの他のＬ／Ｈ誘電体対を使用することも可能である。この後者の例はまた、同一の誘電体が、この場合はＡｌ2Ｏ3であるが、低屈折率の第２の誘電体と関連付けられると、タイプ「Ｈ」であるとみなされ、逆に、高屈折率（ｎは、ＡｌＮに対して２．３８）の第２の誘電体と関連付けられると、タイプ「Ｌ」であるとみなされる。
容量性のタッチ方式センサーを含む時計ガラスの底面図である。 異なる層からなる積層の、図１の線ＩＩ〜ＩＩに沿った断面図である。
符号の説明
１ ガラス、２ 容量性タッチ・タイプ・センサー、３ 透明な基体、４ 導電性経路、５ 第１の層、６ 周辺接触領域、７ 第２の層

Claims (11)

  1. 一方の面に電極（２）により形成された導電性パターンと、導電性経路（４）と、接触領域（６）とが設けられた透明な基体（３）により形成された、目に見えない電極を有する透明な素子（１）を製造する方法であって、
    前記基体（３）の全表面に亘って透明な導電性酸化物の膜（ＴＣＯ）を堆積させ、マスクを介して前記導電性パターン（２、４、６）を形成しないＴＣＯの領域をエッチングにより除去し、次にマスクの残った部分を除去する工程と、
    低屈折率を有する透明誘電体材料（Ｌ）からなる第１の層（５）を堆積させる工程と、
    前記第１の層の屈折率に対して高屈折率を有する別の透明誘電体材料（Ｈ）からなる第２の層を堆積させる工程と
    を含むことを特徴とする方法。
  2. 前記透明な導電性酸化物は、錫およびインジウムの酸化物（ＩＴＯ）であることを特徴とする請求項１に記載の方法。
  3. 前記基体（３）は、前記第１の誘電体層（５）の堆積が実施される前に、酸素の分圧下で略２５０℃まで予め温度を上げておくことを特徴とする請求項２に記載の方法。
  4. 前記双方の誘電体堆積（Ｌ、Ｈ）は、同じ密閉室で実施されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
  5. 前記第１の層（５）および前記第２の層（７）の前記誘電体は、屈折率が増える順に等級分けされた化合物、ＭｇＦ2、ＬｉＦ、ＳｉＯ2、ＳｉＯX、ＡｌＯ3、Ｓｉ3Ν4、ＺｎＳ、ＴｉＯ2、ΑｌΝ、Ｔａ2Ｏ5、およびＤＬＣ（ダイアモンド状炭素）の中から選択されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
  6. 前記第１の層（５）の前記誘電体は、フッ化マグネシウムまたはフッ化リチウムで、かつ、前記第２の層（７）の前記誘電体は、アルミナ、五酸化タンタル、またはダイアモンド状炭素であることを特徴とする請求項５に記載の方法。
  7. 前記第１の層（５）の厚さは、５０〜１００ナノメータで、好ましくは約６０ナノメータの厚さであり、かつ、前記第２の層の厚さは、８〜２５ナノメータで、好ましくは約１６ナノメータの厚さであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
  8. 前記透明な基体（３）は、サファイアもしくは強化ガラスであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
  9. 前記誘電体層（５、７）の前記堆積は、順番Ｌ、Ｈを維持しながら、少なくとも１回は反復されることを特徴とする先行の請求項のいずれかに記載の方法。
  10. 前記電極（２）は、容量性タッチ画面のセンサーを形成することを特徴とする請求項１に記載の方法。
  11. 前記透明な素子は、腕時計のガラスであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
JP2004362948A 2003-12-16 2004-12-15 目に見えない電極を有する透明な素子の製造方法 Expired - Fee Related JP4689259B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP03028874A EP1544178B1 (fr) 2003-12-16 2003-12-16 Procédé de fabrication d'un élément transparent à électrodes invisibles
EP03028874.0 2003-12-16

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005183386A true JP2005183386A (ja) 2005-07-07
JP4689259B2 JP4689259B2 (ja) 2011-05-25

Family

ID=34486214

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004362948A Expired - Fee Related JP4689259B2 (ja) 2003-12-16 2004-12-15 目に見えない電極を有する透明な素子の製造方法

Country Status (9)

Country Link
US (1) US7247568B2 (ja)
EP (1) EP1544178B1 (ja)
JP (1) JP4689259B2 (ja)
KR (1) KR101133329B1 (ja)
CN (1) CN100478293C (ja)
AT (1) ATE439335T1 (ja)
DE (1) DE60328798D1 (ja)
HK (1) HK1076094A1 (ja)
TW (1) TW200532336A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016509246A (ja) * 2012-12-11 2016-03-24 ジーティーエイティー コーポレーションＧｔａｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ 改質サファイアを含有してなる携帯用電子機器

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2318382T3 (es) 2005-06-16 2009-05-01 Asulab S.A. Procedimiento de fabricacion de un elemento transparente que comprende electrodos asimismo transparentes y elemento correspondiente.
US20070283832A1 (en) * 2006-06-09 2007-12-13 Apple Computer, Inc. Imprint circuit patterning
KR100772676B1 (ko) * 2007-07-04 2007-11-02 주식회사 이에스에스디 투명 터치 스위치
CN100472290C (zh) * 2007-08-30 2009-03-25 深圳和而泰智能控制股份有限公司 电容式触摸屏及制作方法
CZ301508B6 (cs) * 2007-09-26 2010-03-31 Saint-Gobain Advanced Ceramics, S. R. O. Transparentní pancír a zpusob jeho výroby
DE102008004423B4 (de) * 2008-01-14 2011-01-20 Fela Holding Gmbh Anordnung zur Erfassung von Berührungen auf einer Trägerplatte und Verfahren zur Herstellung eines Sensors
FR2926747B1 (fr) * 2008-01-25 2011-01-14 Commissariat Energie Atomique Objet comportant un element graphique reporte sur un support et procede de realisation d'un tel objet.
FR2926748B1 (fr) 2008-01-25 2010-04-02 Commissariat Energie Atomique Objet muni d'un element graphique reporte sur un support et procede de realisation d'un tel objet.
DE102008029567A1 (de) * 2008-06-21 2010-01-07 Preh Gmbh Beleuchteter kapazitiver Annäherungssensor
FR2946435B1 (fr) 2009-06-04 2017-09-29 Commissariat A L'energie Atomique Procede de fabrication d'images colorees avec une resolution micronique enfouies dans un support tres robuste et tres perenne
CH701440A2 (fr) 2009-07-03 2011-01-14 Comme Le Temps Sa Montre-bracelet à écran tactile et procédé d'affichage sur une montre à écran tactile.
EP2273348A1 (fr) 2009-07-10 2011-01-12 EM Microelectronic-Marin SA Procédé de fabrication d'un verre à touches capacitives pour un instrument electronique, et instrument comprenant un tel verre
FR2948318B1 (fr) * 2009-07-22 2011-08-19 Commissariat Energie Atomique Procede de realisation d'un dispositif a element graphique
DE102009044110A1 (de) * 2009-09-25 2011-04-14 Saint-Gobain Sekurit Deutschland Gmbh & Co. Kg Verglasung mit integrierter Schaltvorrichtung, ein Verfahren zu deren Herstellung und deren Verwendung
EP2481153B1 (de) * 2009-09-25 2020-07-15 Saint-Gobain Glass France Aktive verglasung mit integrierter anzeigevorrichtung, ein verfahren zur aktivierung oder deaktivierung der aktiven verglasung und deren verwendung
KR101113154B1 (ko) * 2009-10-13 2012-02-13 (주)넥스디스플레이 증착기법을 이용한 정전용량 방식 터치스크린 패널의 제조방법
TW201129831A (en) * 2010-02-26 2011-09-01 Ushine Photonics Corp Transparent conductive laminate comprising visual light adjustment layers
KR101142566B1 (ko) * 2010-06-01 2012-05-03 삼성모바일디스플레이주식회사 터치스크린패널 및 이를 구비한 영상표시장치
CN102477531B (zh) * 2010-11-26 2015-03-25 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 被覆件及其制造方法
CN102999196B (zh) 2011-09-09 2016-04-06 宸鸿科技(厦门)有限公司 触控堆叠结构
CN204244214U (zh) 2011-10-10 2015-04-01 法国圣戈班玻璃厂 带有照亮的开关面的片
CN103374754A (zh) * 2012-04-17 2013-10-30 鑫晶钻科技股份有限公司 蓝宝石材料及其制造方法
JP6122253B2 (ja) * 2012-05-22 2017-04-26 株式会社オプトラン 静電容量型タッチパネル基板及びその製造方法並びに製造装置
CN103488322A (zh) * 2012-06-14 2014-01-01 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 触摸屏及显示装置
CN103870072A (zh) * 2012-12-17 2014-06-18 比亚迪股份有限公司 一种电容触摸屏及其制备方法
US10175829B2 (en) 2013-03-15 2019-01-08 Applied Materials, Inc. Transparent body with single substrate and anti-reflection and/or anti-fingerprint coating at an opposite side of the substrate from a structured transparent conductive film, and method of manufacturing thereof
CN103232171B (zh) * 2013-03-29 2015-06-03 中国建筑材料科学研究总院 触摸屏用玻璃盖板及其制备方法
CN103594333A (zh) * 2013-11-08 2014-02-19 溧阳市江大技术转移中心有限公司 一种透明电容的制造方法
JP2015140484A (ja) * 2014-01-30 2015-08-03 セイコーエプソン株式会社 時計用外装部品、時計用外装部品の製造方法および時計
JP2015140483A (ja) * 2014-01-30 2015-08-03 セイコーエプソン株式会社 時計用外装部品、時計用外装部品の製造方法および時計
EA034788B1 (ru) * 2014-04-24 2020-03-20 Сэн-Гобэн Гласс Франс Панель с подсвечиваемой поверхностью переключения и функцией нагрева
CN107077213B (zh) * 2014-11-03 2020-10-16 西北大学 用于具有同时感测和致动的触觉显示器的材料和结构
JP2016102950A (ja) * 2014-11-28 2016-06-02 セイコーエプソン株式会社 光学部品および時計
CN104571721B (zh) * 2015-02-17 2018-11-23 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种透明导电氧化物图案消隐结构、触控面板及显示装置
WO2017018406A1 (ja) * 2015-07-27 2017-02-02 富士フイルム株式会社 透明電極付き複合体、転写フィルム、透明電極付き複合体の製造方法および静電容量型入力装置
CN105219254B (zh) * 2015-11-04 2017-09-05 天通银厦新材料有限公司 一种溶胶‑凝胶增韧剂及其制备方法以及利用该溶胶‑凝胶增韧剂增韧蓝宝石基片的工艺
EP3189745A1 (de) 2016-01-05 2017-07-12 D. Swarovski KG Dekorativer verbundkörper mit elektrisch leitfähiger schicht und elektronischem sensor
US9887847B2 (en) * 2016-02-03 2018-02-06 International Business Machines Corporation Secure crypto module including conductor on glass security layer
EP3293587B1 (fr) * 2016-09-09 2020-02-19 Montres Tudor S.A. Glace de montre
US10512705B2 (en) 2017-01-17 2019-12-24 Oxiscience, Llc Halogenated heterocyclic N-halamine composition for the prevention and elimination of odors
US11473191B2 (en) * 2019-02-27 2022-10-18 Applied Materials, Inc. Method for creating a dielectric filled nanostructured silica substrate for flat optical devices

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1197878A (ja) * 1997-09-19 1999-04-09 Bridgestone Corp 電磁波シールド性光透過窓材
JPH11340680A (ja) * 1998-05-22 1999-12-10 Bridgestone Corp 電磁波シールド性光透過窓材
JP2000340984A (ja) * 1999-05-28 2000-12-08 Bridgestone Corp 電磁波シールド性光透過窓材
JP2001202826A (ja) * 2000-01-21 2001-07-27 Gunze Ltd 透明導電性フィルム

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6151101A (ja) * 1984-08-21 1986-03-13 Toray Ind Inc 被覆透明導電パネル
US5170291A (en) 1989-12-19 1992-12-08 Leybold Aktiengesellschaft Coating, composed of an optically effective layer system, for substrates, whereby the layer system has a high anti-reflective effect, and method for manufacturing the coating
US5556694A (en) * 1994-12-07 1996-09-17 Photran Corporation Faceplate for a touch-sensitive video display unit
JP3426847B2 (ja) * 1996-05-14 2003-07-14 アルプス電気株式会社 座標入力装置
FR2751638B3 (fr) 1996-07-24 1998-08-21 Saint Gobain Vitrage Procede de depot d'un empilement de couches d'oxydes sur un substrat en verre
DE19636970A1 (de) * 1996-09-12 1998-03-19 Leybold Systems Gmbh Optisch wirkendes Antireflexschichtsystem
US6163313A (en) * 1997-12-12 2000-12-19 Aroyan; James L. Touch sensitive screen and method
JP2001290135A (ja) * 2000-01-31 2001-10-19 Nitto Denko Corp タッチ式液晶表示装置及び入力検出方法
US20030071958A1 (en) * 2001-10-12 2003-04-17 Bao-Gang Wu Cholesteric liquid crystal device for writing, inputting, and displaying information

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1197878A (ja) * 1997-09-19 1999-04-09 Bridgestone Corp 電磁波シールド性光透過窓材
JPH11340680A (ja) * 1998-05-22 1999-12-10 Bridgestone Corp 電磁波シールド性光透過窓材
JP2000340984A (ja) * 1999-05-28 2000-12-08 Bridgestone Corp 電磁波シールド性光透過窓材
JP2001202826A (ja) * 2000-01-21 2001-07-27 Gunze Ltd 透明導電性フィルム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016509246A (ja) * 2012-12-11 2016-03-24 ジーティーエイティー コーポレーションＧｔａｔ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ 改質サファイアを含有してなる携帯用電子機器

Also Published As

Publication number Publication date
ATE439335T1 (de) 2009-08-15
US20050130400A1 (en) 2005-06-16
KR101133329B1 (ko) 2012-04-05
JP4689259B2 (ja) 2011-05-25
TW200532336A (en) 2005-10-01
DE60328798D1 (de) 2009-09-24
KR20050061314A (ko) 2005-06-22
US7247568B2 (en) 2007-07-24
CN1636914A (zh) 2005-07-13
EP1544178B1 (fr) 2009-08-12
EP1544178A1 (fr) 2005-06-22
HK1076094A1 (en) 2006-01-06
CN100478293C (zh) 2009-04-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4689259B2 (ja) 目に見えない電極を有する透明な素子の製造方法
US7547565B2 (en) Method of manufacturing optical interference color display
TWI486973B (zh) 透明導電層壓薄膜、其製造方法以及包含該透明導電層壓薄膜的觸控螢幕
Hong et al. Index-matched indium tin oxide electrodes for capacitive touch screen panel applications
CN101430944A (zh) 一种透明导电膜的制备方法
CN104461157A (zh) 触摸面板的制作方法、触摸面板、触摸屏和显示装置
JP2004341488A (ja) 透明な電極を備えた基板および該基板を含む装置
JP4786427B2 (ja) 透明電極を有する透明装置の製造方法
US20210263195A1 (en) Optical article having directional micro- or nanostructured thin film coating, and its process
CN101995702A (zh) 彩膜基板及其制造方法
CN103941910A (zh) 一种触控面板及其制造方法
CN108536339A (zh) 新型电容式触摸屏
CN205241512U (zh) 一种消影导电玻璃
JP2008112032A (ja) 光学フィルタ
JPH07242442A (ja) 透明導電膜付ガラスおよび透明導電膜の成膜方法
JP2003021703A (ja) 導電性を有する多層反射防止膜付透明基板
KR20130052992A (ko) 터치 패널 및 그의 제조방법
KR100820851B1 (ko) 반사-투과형 액정 표시 장치 및 이의 제조 방법
JP3504965B2 (ja) 透明導電膜付基板及びその製造方法
JPH05119306A (ja) カラーフイルター基板の製造方法
JP3630374B2 (ja) 透明導電膜付ガラス及び透明導電膜の成膜方法
JPS60142576A (ja) 薄膜太陽電池基板
JPS5654413A (en) Transparent electrode
KR960005703A (ko) 전자파 차단제 및 그 제조방법
JPH08325038A (ja) 透明導電体

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070907

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100810

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20101110

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20101115

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20101210

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20101215

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110107

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110208

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110216

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4689259

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140225

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees