CN103488322A - 触摸屏及显示装置 - Google Patents

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陈杰良
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Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
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Hongfujin Precision Industry Shenzhen Co Ltd
Hon Hai Precision Industry Co Ltd
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Abstract

本发明提供一种触摸屏，其包括一基片及一形成在该基片上用于侦测触摸动作的透明导电层。该基片采用蓝宝石制成，该透明导电层采用氧化铟透明导电膜。本发明提供的触摸屏及显示装置通过采用蓝宝石作为该基片，由于蓝宝石具有较大的硬度和屈服强度，从而有效提高了该触摸屏的硬度和屈服强度。本发明还提供一种具有该触摸屏的显示装置。

Description

触摸屏及显示装置
技术领域
本发明涉及一种触摸屏，特别涉及一种使用蓝宝石的触摸屏及具有该触摸屏的显示装置。
背景技术
传统的触摸屏一般包括一玻璃片及一设置在玻璃片上用于侦测触摸动作的透明导电层。为了提高该触摸屏的硬度和屈服强度，需要对玻璃片进行物理或化学强化处理，过程复杂但效果并不明显。
发明内容
有鉴于此，有必要提供一种可提高硬度及屈服强度的触摸屏及一种具有该触摸屏的显示装置。
一种触摸屏，其包括一基片及一形成在该基片上用于侦测触摸动作的透明导电层。该基片采用蓝宝石制成，该透明导电层采用氧化铟透明导电膜。
一种显示装置，其包括一显示面板及一设置在该显示面板上的触摸屏。该触摸屏包括一基片及一形成在该基片上、与该显示面板相背且用于侦测触摸动作的透明导电层。该基片采用蓝宝石制成，该透明导电层采用氧化铟透明导电膜。
本发明提供的触摸屏及显示装置通过采用蓝宝石作为该基片，由于蓝宝石具有较大的硬度和屈服强度，从而有效提高了该触摸屏的硬度和屈服强度。
附图说明
图1是本发明较佳实施方式提供的显示装置的结构示意图。
主要元件符号说明
显示装置 100
显示面板 10
触摸屏 20
基片 22
透明导电层 24
抗反射膜 26
高折射率层 261
低折射率层 262
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请参阅图1，本发明较佳实施方式的显示装置100包括一显示面板10及一设置在该显示面板10上的触摸屏20。该触摸屏20包括一基片22及一形成在该基片22上、与该显示面板10相背且用于侦测触摸动作的透明导电层24。该基片22采用蓝宝石制成，该透明导电层24采用氧化铟透明导电膜。
该触摸屏20及该显示装置100通过采用蓝宝石作为该基片22，由于蓝宝石具有较大的硬度和屈服强度，从而有效提高了该触摸屏20的硬度和屈服强度。具体的，该触摸屏20的硬度达到1500-200Kg/mm2、屈服强度达到300-400MPa、抗压强度达到2GPa、温差范围为-40-2000℃，并具有抗高电压和抗高频等性质。由于该触摸屏20具有较高的硬度和强度，可有效保护该显示面板10。另外，由于该触摸屏20具有抗高电压和抗高频的性质，使得该显示装置100可用于工业环境中。
蓝宝石属于刚玉族矿物，三方晶系，具有六方结构。该蓝宝石的主要化学成分为三氧化二铝(Al2O3)，折射率在1.760-1.757的范围内。
本实施方式的蓝宝石采用纯净的Al2O3模造成型(thin film molding, TFM)，结晶方向为a轴(11 0)，c轴(0001)，m轴(10 0)。
该基片22通过采用激光对该蓝宝石切割而成。该基片22的尺寸大小根据触摸屏20尺寸大小而定。具体的，该基片22的长度在1-60英寸的范围内，宽度在0.5-60英寸的范围内，而厚度在0.2-1毫米的范围内。
考虑到蓝宝石对波长为420-700nm的可见光线的透射率较低(小于86%)，因此，本实施方式的触摸屏20还包括一形成于该基片22与该透明导电层24相背的抗反射膜(antireflection coating)26。
该抗反射膜26包括多个依次交替重复堆叠于该基片上高折射率层261及低折射率层262，该抗反射膜膜系结构为(xHyL)n，4≦n≦8，1＜x＜2，1＜y＜2，n为正整数，其中，xH表示该高折射率层261，其光学厚度为x/4倍中心波长，yL表示该低折射率层，其光学厚度为y/4倍中心波长，中心波长为工作波长的中间值，n为该高折射率层和该低折射率层重复堆叠的次数。
与该基片22直接接触的为该高折射率层261，因此，n=5, 7时，该高折射率层261置顶，而n=6, 8时，该低折射率层262置顶。
该高折射率层261可以采用二氧化钛(TiO2)(折射率为2.705)，而该低折射率层262可以采用二氧化硅(SiO2)(折射率为1.499)。可以理解，该高折射率层261及该低折射率层262也可以采用其他折射率相当之材料。
采用该抗反射膜26后，该基片22的光透射率为90%-99.5%，从而提高了该显示面板10的光透射率，提高该显示装置100的清晰度和分辨率。
总之，本技术领域的普通技术人员应当认识到，以上的实施方式仅是用来说明本发明，而并非用作为对本发明的限定，只要在本发明的实质精神范围之内，对以上实施例所作的适当改变和变化都落在本发明要求保护的范围之内。

Claims (10)

1.一种触摸屏，其包括一基片及一形成在该基片上用于侦测触摸动作的透明导电层；该基片采用蓝宝石制成，该透明导电层采用氧化铟透明导电膜。
2.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，该基片的长度在1-60英寸的范围内，宽度在0.5-60英寸的范围内，而厚度在0.2-1毫米的范围内。
3.如权利要求1所述的触摸屏，其特征在于，该触摸屏还包括一形成于该基片与该透明导电膜相背的抗反射膜。
4.如权利要求3所述的触摸屏，其特征在于，该抗反射膜包括多个依次交替重复堆叠于该基片上高折射率层及低折射率层，该抗反射膜膜系结构为(xHyL)n，4≦n≦8，1＜x＜2，1＜y＜2，n为正整数，其中，xH表示该高折射率层，其光学厚度为x/4倍中心波长，yL表示该低折射率层，其光学厚度为y/4倍中心波长，中心波长为工作波长的中间值，n为该高折射率层和该低折射率层重复堆叠的次数。
5.如权利要求4所述的触摸屏，其特征在于，与该基片直接接触的为该高折射率层，n=5, 7时，该高折射率层置顶，而n=6, 8时，该低折射率层置顶。
6.如权利要求4所述的触摸屏，其特征在于，该高折射率层采用二氧化钛，而该低折射率层采用二氧化硅。
7.一种显示装置，其包括一显示面板及一设置在该显示面板上的触摸屏；该触摸屏包括一基片及一形成在该基片上、与该显示面板相背且用于侦测触摸动作的透明导电层；该基片采用蓝宝石制成，该透明导电层采用氧化铟透明导电膜。
8.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，该基片的长度在1-60英寸的范围内，宽度在0.5-60英寸的范围内，而厚度在0.2-1毫米的范围内。
9.如权利要求7所述的显示装置，其特征在于，该触摸屏还包括一形成于该基片与该透明导电膜相背的抗反射膜。
10.如权利要求9所述的显示装置，其特征在于，该抗反射膜包括多个依次交替重复堆叠于该基片上高折射率层及低折射率层，该抗反射膜膜系结构为(xHyL)n，4≦n≦8，1＜x＜2，1＜y＜2，n为正整数，其中，xH表示该高折射率层，其光学厚度为x/4倍中心波长，yL表示该低折射率层，其光学厚度为y/4倍中心波长，中心波长为工作波长的中间值，n为该高折射率层和该低折射率层重复堆叠的次数。
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