JP2006179550A - 基板処理装置および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 複数個のチャックピン17に保持された基板Wに遮断板3を対向配置して、処理液ノズル5から基板表面Wfと遮断板3の対向面3aとで挟まれた空間SPに処理液を供給することで処理液による液密状態を形成する。そして、処理液による液密状態を形成したまま基板Wと遮断板3とを回転させる。この状態で、超音波ノズル7から遮断板3の側壁面3bに対して略垂直に超音波振動が伝播した液(純水)を当てる。超音波振動は遮断板3の内部を水平方向に広がっていき、その一部の振動波は遮断板3の対向面3aから液密状態の処理液へと広く均一に伝わり該処理液を振動させる。このため、基板表面Wfに対して振動エネルギーが集中することなく、基板Wのダメージを抑制しながら基板Wを均一に処理することができる。
【選択図】 図1
Description
3a…対向面
3b…側壁面
5…処理液ノズル(処理液供給手段)
7…超音波ノズル(超音波付与手段)
13…チャック回転駆動機構(基板回転手段)
17…チャックピン(基板保持手段)
33…遮断板回転駆動機構(振動部材回転手段)
D…(基板の被処理面の)平面サイズ
SP…(基板の被処理面と振動部材の対向面とで挟まれた)空間
W…基板
Wf…(基板の)被処理面
Claims (10)
- 基板を略水平姿勢で保持する基板保持手段と、
超音波振動を伝播可能な材料で形成されるとともに、前記基板保持手段に保持された基板の被処理面と対向可能な対向面を有し、該対向面を前記被処理面から離間対向された振動部材と、
前記基板の被処理面と前記振動部材の対向面とで挟まれた空間に処理液を供給することで該空間に前記処理液を液密状態に溜める処理液供給手段と、
前記振動部材の対向面を除く非対向面に超音波振動が伝播した液を当てる超音波付与手段と
を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 前記基板保持手段を回転させることで基板を回転させる基板回転手段をさらに備える請求項1記載の基板処理装置。
- 前記超音波振動が伝播した液の前記振動部材の非対向面への入射方向は略水平である請求項1または2記載の基板処理装置。
- 前記基板対向面に対してほぼ垂直に立ち上がった側壁面を前記非対向面とし、前記超音波振動が伝播した液は前記側壁面に対して略垂直に当たる請求項1ないし3のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記振動部材の対向面は前記基板の被処理面の平面サイズと同等以上の大きさの平面サイズを有する請求項1ないし4のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記振動部材を回転させる振動部材回転手段をさらに備える請求項1ないし5のいずれかに記載の基板処理装置。
- 前記振動部材は石英で形成される請求項1ないし6のいずれかに記載の基板処理装置。
- 超音波振動を伝播可能な材料で形成された振動部材の一面を基板対向面として基板の被処理面に対向配置する振動部材配置工程と、
前記基板の被処理面と前記振動部材の対向面とで挟まれた空間に処理液を供給することで前記処理液による液密状態を形成する液密形成工程と、
前記振動部材の対向面を除く非対向面に超音波振動が伝播した液を当てる超音波付与工程と
を備えたことを特徴とする基板処理方法。 - 前記超音波付与工程において、基板を回転させながら前記振動部材の非対向面に超音波振動が伝播した液を当てる請求項8記載の基板処理方法。
- 前記超音波付与工程において、前記振動部材を回転させながら前記振動部材の非対向面に超音波振動が伝播した液を当てる請求項8または9記載の基板処理方法。
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