JP2006127900A - 環状ヒータ - Google Patents
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Abstract
半導体ウェハ等を載置する基板支持部材の外周部に載置する環状ヒータにおいて、ウェハ面内を均一に成膜したりエッチング加工できないという問題があった。
【解決手段】
主面を加熱面とした環状絶縁体に抵抗発熱体を備えてなる環状ヒータにおいて、上記抵抗発熱体は帯状に形成されており、上記環状絶縁体の内部に上記加熱面に並行に抵抗発熱体を配置する。
【選択図】図1
Description
2)プロセスガス:アルゴン
3)プロセス時間:2分
4)プラズマパワー:300W
5)ウェハ吸着電圧:±400V
6)ウェハ温度:80℃
7)ヒータ温度:80℃
そしてそれぞれの結果を表1に示す。
2)プロセスガス:アルゴン
3)プラズマパワー:300W
4)ウェハ吸着電圧:±400V
5)ウェハ温度:20℃
6)温度サイクル:20℃で1分保持し、80℃に1分で昇温、20℃に1分で降温
その結果、5000回の温度サイクル後の抵抗変化は0.2%以下と極めて小さく、クラックは発生せず、非常に信頼性の高い給電方法であることが分かった。
4 :下部電極
5 :設置面
6 :環状リング
7 :環状絶縁体
7a:加熱面
7b:主面
7c:穴
7d:穴
8 :抵抗発熱体
10:処理室
11:対向電極
20:給電端子
21:メタライズ層
22:ロウ材
23:コイルスプリング
24:導体膜
26:ビヤホール導体
37:溝部
38:Oリング
39:凹部
40:貫通孔
41:貫通孔
49:凸部
50:ウエハ処理装置
51:処理容器
54:ウエハ保持部材
56:冷却媒体用の流路
70:環状ヒータ
100:ウエハ処理装置
102:処理室
104:処理容器
106:下部電極
108:静電チャック
108a:薄膜
108b:電極
110:高圧電流電源
112:リング体
112a:内側リング体
112b:環状ヒータ
114:第1ガス供給孔
116:第2ガス供給孔
118:第1ガス供給管
120:第2ガス供給管
121:第1開閉バルブ
122:流量調整バルブ
124:第2開閉バルブ
130:第3ガス供給孔
132:第3ガス供給管
138:ガス供給源
140:制御器
142:第1温度センサ
144:第2温度センサ
146:第3温度センサ
148:発熱体
150:可変電源
152:冷媒循環路
154:整合器
156:高周波電源
158:上部電極
158a:ガス吐出孔
160:処理ガス供給管
162:第2排気管
164:第1圧力調整ユニット
166:第2圧力調整ユニット
168:圧力計
170:第1排気管
172:圧力調整バルブ
174:第3開閉バルブ
184:Oリング
186:第3圧力調整ユニット
W :ウエハ
Claims (3)
- 主面を加熱面とし、他方の主面は上記加熱面に並行に形成されている環状絶縁体の内部に上記加熱面に並行に帯状の抵抗発熱体を備えてなる環状ヒータにおいて、上記環状絶縁体の他方の主面に、上記抵抗発熱体へ給電可能な導電膜を形成するとともに、該導電膜と抵抗発熱体とが複数のビヤホール導体を介して接続されていることを特徴とする環状ヒータ。
- 主面を加熱面とし、他方の主面は上記加熱面に並行に形成されている環状絶縁体の内部に上記加熱面に並行に帯状の抵抗発熱体を備えてなる環状ヒータにおいて、上記環状絶縁体の他方の主面に上記帯状の抵抗発熱体を貫通し、内面にメタライズ層が被着された穴を形成し、上記メタライズ層と給電端子とを接続可能に構成するとともに、上記穴を取り囲む溝部を形成し、かつ、該溝部に上記穴を封止するリングを配置可能に構成したことを特徴とする環状ヒータ。
- 上記他方の主面に複数の凸部を設けたことを特徴とする請求項1又は2に記載の環状ヒータ。
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