JP7033926B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
[プラズマ処理装置の構成]
最初に、実施形態に係るプラズマ処理装置10の概略的な構成を説明する。図1は、実施形態に係るプラズマ処理装置の概略的な構成を示す概略断面図である。プラズマ処理装置10は、気密に構成され、電気的に接地電位とされた処理容器1を有している。この処理容器1は、円筒状とされ、例えば表面に陽極酸化被膜が形成されたアルミニウム等から構成されている。処理容器1は、プラズマが生成される処理空間を画成する。処理容器1内には、被処理体(work-piece)であるウェハWを水平に支持する第1の載置台2が収容されている。
次に、図2を参照して、第1実施形態に係る第1の載置台2及び第2の載置台7の要部構成について説明する。図2は、第1実施形態に係る第1の載置台及び第2の載置台の要部構成を示す概略断面図である。
次に、本実施形態に係るプラズマ処理装置10の作用及び効果について説明する。図6は、第2の載置台を上昇させる流れの一例を説明する図である。図6(A)は、新品のフォーカスリング5を第2の載置台7に載置した状態を示している。第2の載置台7は、新品のフォーカスリング5を載置した際に、フォーカスリング5の上面が所定の高さとなるように高さが調整されている。例えば、第2の載置台7は、新品のフォーカスリング5を載置した際に、エッチング処理によるウェハWの均一性が得られるよう、高さが調整されている。ウェハWに対するエッチング処理に伴い、フォーカスリング5も消耗する。図6(B)は、フォーカスリング5が消耗した状態を示している。図6(B)の例では、フォーカスリング5の上面が0.2mm消耗している。プラズマ処理装置10は、測定部110を用いてフォーカスリング5の上面の高さを測定し、フォーカスリング5の消耗量を特定する。そして、プラズマ処理装置10は、消耗量に応じて、昇降機構120を制御して第2の載置台7を上昇させる。フォーカスリング5の高さの測定は、処理容器1内の温度がプラズマ処理を行う温度に安定したタイミングであることが好ましい。また、フォーカスリング5の高さの測定は、1枚のウェハWに対するエッチング処理中に周期的に複数回行ってもよく、1枚のウェハWごとに1回行ってもよく、所定枚のウェハWごとに1回行ってもよく、管理者が指定した周期で行ってもよい。図6(C)は、第2の載置台7を上昇させた状態を示している。図6(C)の例では、第2の載置台7を0.2mm上昇させてフォーカスリング5の上面を0.2mm上昇させている。なお、第2の載置台7は、上昇させても影響が生じないように構成されている。例えば、冷媒流路7dは、フレキシブルな配管、あるいは、第2の載置台7が昇降しても冷媒を供給可能な機構が構成されている。ヒータ9aに電力を供給する配線は、フレキシブルな配線、あるいは、第2の載置台7が昇降しても電気的に導通する機構が構成されている。
次に、第2実施形態について説明する。第2実施形態に係るプラズマ処理装置10の概略的な構成は、図1に示す第1実施形態に係るプラズマ処理装置10の構成と一部同様であるため、同様の部分には、同一の符号を付し、主に異なる点について説明を省略する。
図9、図10を参照して、第2実施形態に係る第1の載置台2及び第2の載置台7の要部構成について説明する。図9は、第2実施形態に係る第1の載置台及び第2の載置台の要部構成を示す斜視図である。
2 第1の載置台
5 フォーカスリング
7 第2の載置台
7d 冷媒流路
8 基台
9 フォーカスリングヒータ
9a ヒータ
10 プラズマ処理装置
110 測定部
110a 光射出部
110b 光ファイバ
114 測定制御ユニット
120 昇降機構
130 導通部
200 フランジ部
210 貫通穴
220 柱状部
240、241、242 シール
260 導管
W ウェハ
Claims (4)
- プラズマ処理の対象となる被処理体が載置され、外周に沿って外側へ突出し、周方向の3以上の位置に軸方向に貫通する貫通穴が形成されたフランジ部が設けられた第1の載置台と、
前記第1の載置台の外周に設けられ、フォーカスリングが載置され、内部に温調機構が設けられ、前記第1の載置台の外周に沿って前記フランジ部の上部に配置され、前記フランジ部と対向する下面の前記貫通穴に対応する位置に、前記貫通穴に挿入される柱状部が設けられた第2の載置台と、
前記貫通穴に対して前記柱状部を軸方向に移動させることで前記第2の載置台を昇降させる昇降機構と、
前記貫通穴に設けられ、前記柱状部と接触してシールする第1シール部材と、
前記第1の載置台と前記第2の載置台とが軸方向に並行する面に設けられ、前記第1の載置台と前記第2の載置台との間をシールする第2シール部材と、
前記第1の載置台と前記第2の載置台との間の前記第1シール部材と前記第2シール部材により形成される空間を減圧する減圧部と、
を有することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記第2の載置台は、前記第1の載置台、または、前記第1の載置台にRF(Radio Frequency)電力を供給するRF電源と導通されている
ことを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。 - 前記フォーカスリングの上面の高さを測定する測定部をさらに有し、
前記昇降機構は、前記被処理体の上面に対して前記フォーカスリングの上面が予め設定された範囲を保つように駆動する
ことを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマ処理装置。 - 前記昇降機構および前記測定部は、前記第2の載置台に対して3つ組以上設けられ、前記フォーカスリングの上面が所定の高さを保つように独立して駆動する
ことを特徴とする請求項3に記載のプラズマ処理装置。
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