JP2006114804A - 半導体集積回路 - Google Patents

半導体集積回路 Download PDF

Info

Publication number
JP2006114804A
JP2006114804A JP2004302567A JP2004302567A JP2006114804A JP 2006114804 A JP2006114804 A JP 2006114804A JP 2004302567 A JP2004302567 A JP 2004302567A JP 2004302567 A JP2004302567 A JP 2004302567A JP 2006114804 A JP2006114804 A JP 2006114804A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
program
fuse element
semiconductor integrated
integrated circuit
transistor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2004302567A
Other languages
English (en)
Inventor
Masashi Agata
政志 縣
Masanori Shirahama
政則 白濱
Toshiaki Kawasaki
利昭 川崎
Ryuji Nishihara
竜二 西原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2004302567A priority Critical patent/JP2006114804A/ja
Priority to US11/245,075 priority patent/US7203117B2/en
Priority to CNB2005101094149A priority patent/CN100411174C/zh
Publication of JP2006114804A publication Critical patent/JP2006114804A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
    • G11C17/14Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards in which contents are determined by selectively establishing, breaking or modifying connecting links by permanently altering the state of coupling elements, e.g. PROM
    • G11C17/18Auxiliary circuits, e.g. for writing into memory

Landscapes

  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)

Abstract

【課題】 ヒューズ素子のプログラムにかける時間を短縮し、以てシステムLSIの検査コストの増大を抑制する。
【解決手段】 ヒューズ素子31とプログラムトランジスタ32とを直列接続し、フリップフロップ23が起動信号に応答してプログラムトランジスタ32をオンさせることによりヒューズ素子31のプログラムを開始し、ヒューズ素子31とプログラムトランジスタ32との接続点の電圧の変化を通じてヒューズ素子31の抵抗値の変化を2入力NAND回路35にて監視しつつ、ヒューズ素子31の抵抗値が所定の抵抗値まで増加した時点で2入力NAND回路35が終了信号を出力する。フリップフロップ23は、この終了信号に応答してプログラムトランジスタ32をオフさせることによりヒューズ素子31のプログラムを自動的に終了する。これにより、ヒューズ素子31の抵抗値を最小限のプログラム時間で所定値まで増加させる。
【選択図】 図1

Description

本発明は、プログラム可能なヒューズ素子を備えた半導体集積回路に関するものである。
プロセッサ、メモリ、PLL(Phase Locked Loop)回路等を搭載した大規模半導体集積回路、いわゆるシステムLSIが知られている。このようなシステムLSIでは、メモリ欠陥救済回路、PLLチューニング回路等の簡易なプログラム素子としてヒューズ素子が多用されている。
半導体基板上に配設された従来のヒューズ素子の1つとして、ポリシリコン層とシリサイド層とからなる2層構造を持つものが知られている。このヒューズ素子は、所定のプログラム電圧が印加されたときに流れる電流により少なくともシリサイド層の一部が溶断して抵抗値が増加するものであって、未プログラム状態とプログラム済み状態との間に抵抗値のわずかな変化(具体的には、1〜2桁の変化)しか示さない。したがって、ヒューズ素子の状態を検知するために使用される検知回路は、ヒューズ素子がプログラムされているか否かを確実に判定するために、当該ヒューズ素子の抵抗値の比較的小さな変化を検出するのに十分な感度を有さなければならない(特許文献1参照)。
特表平11−512879号公報
上記背景技術に示した1つのヒューズ素子をプログラム(溶断)するのには、数10mA程度の電流量が必要である。したがって、一度に多くのヒューズ素子をプログラムすることができない。実用的には、数個から10数個単位でヒューズ素子を順次プログラムすることになる。
また、1つのヒューズ素子のプログラムに要する時間は、数100μsから数msである。従来は、ヒューズ素子に一定時間だけ電流を流した時点でプログラムプロセスを一旦中止して当該ヒューズ素子がプログラムされているか否かを判定し、当該ヒューズ素子の抵抗値が所定の抵抗値まで増加していない場合には再度一定時間のプログラムプロセスを実行するという手法がとられていた。
従来のシステムLSIでは、搭載しているヒューズ素子数が数10個から100個程度であったため、実際にヒューズ素子のプログラムに必要な時間に対して十分なマージンを見込んでプログラム時間を確保しても、検査コストの上昇への影響はほとんどなかった。ところが、近年のシステムLSIでは500から1000個のヒューズ素子を搭載する必要があり、ヒューズ素子のプログラムにかける時間を従来のままにしておくと、プログラム時間の増大により検査コストの増大を招く。
本発明の目的は、ヒューズ素子のプログラム済み状態における高抵抗値を確保しつつプログラムにかける時間を短縮し、以て半導体集積回路の検査コストの増大を抑制することにある。
上記目的を達成するため、本発明は、ヒューズ素子の抵抗値変化を常時監視することにより、当該ヒューズ素子の抵抗値が所定の抵抗値まで増加した時点で直ちに当該ヒューズ素子のプログラムプロセスを終了することができるようにしたものである。
具体的に説明すると、本発明は、所定のプログラム電圧が印加されたときに流れる電流により少なくとも一部が溶断して抵抗値が増加するヒューズ素子と、当該ヒューズ素子に対して直列に接続されて直列回路をなしかつ当該直列回路がプログラム電源に接続されたプログラムトランジスタと、起動信号に応答してプログラムトランジスタをオンさせることによりヒューズ素子のプログラムを開始するためのプログラム開始手段と、ヒューズ素子とプログラムトランジスタとの接続点の電圧の変化を通じてヒューズ素子の抵抗値の変化を監視しつつヒューズ素子の抵抗値が所定の抵抗値まで増加した時点で終了信号を出力するプログラム監視手段と、終了信号に応答してプログラムトランジスタをオフさせることによりヒューズ素子のプログラムを終了するためのプログラム終了手段とを1つの半導体集積回路内に備えた構成を採用したものである。
本発明によれば、必要最小限のプログラム時間が内部設定されるので、ヒューズ素子のプログラム済み状態における高抵抗値を確保しつつプログラムにかける時間を短縮し、以て半導体集積回路の検査コストの増大を抑制することができる。
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明に係る半導体集積回路(システムLSI)が有するヒューズモジュールの構成例を示している。図1に示したヒューズモジュール10において、11,12,13,14はヒューズコア、21はワンショット回路(単安定マルチバイブレータ)、22,25はインバータ、23はフリップフロップ、24は4入力NAND回路である。この例では、4つのヒューズコア11〜14を並列にプログラムするものとしている。D1,D2,D3,D4は、これら4つのヒューズコア11〜14のプログラム入力である。
ヒューズコア11において、31はヒューズ素子、32はプログラムトランジスタ、33,35は2入力NAND回路、34はレベルシフタ、36はリファレンス抵抗素子、37はリードトランジスタ、38はリファレンストランジスタ、39は差動アンプである。ヒューズ素子31は、ポリシリコン層とシリサイド層とを有する2層構造、又はメタル層からなる1層構造を持ち、所定のプログラム電圧が印加されたときに流れる電流により少なくとも一部が溶断して抵抗値が増加するものである。リファレンス抵抗素子36は、ポリシリコンからなる1層構造を持つ。プログラムトランジスタ32、リードトランジスタ37及びリファレンストランジスタ38は、いずれもNチャネルMOSトランジスタである。VDDは低電圧電源(例えば1.2V)を、VDDHは高電圧電源(例えば3.3V)を、VSSは接地電圧(=0V)をそれぞれ表している。ヒューズ素子31の一端は高電圧電源VDDHに接続され、このヒューズ素子31の他端は、プログラムトランジスタ32を介して接地電圧VSSに接続されるとともに、リードトランジスタ37を介して接地電圧VSSに接続されている。一方、リファレンス抵抗素子36の一端は高電圧電源VDDHに接続され、このリファレンス抵抗素子36の他端はリファレンストランジスタ38を介して接地電圧VSSに接続されている。レベルシフタ34の電源は高電圧電源VDDHであり、2入力NAND回路33,35及び差動アンプ39の電源は低電圧電源VDDである。
図2は、図1のヒューズモジュール10のプログラムプロセスを示している。ワンショット回路21は、レベル信号であるモジュールプログラム起動信号INITを受け取ると、一定パルス幅を持つマルチバイブレータ出力Mをインバータ22へ供給する。インバータ22は、マルチバイブレータ出力Mを反転して得た信号をフリップフロップ23へ負論理セット入力Sとして供給する。フリップフロップ23のQ出力は、4つのヒューズコア11〜14に共通に与えられる。第1ヒューズコア11において、フリップフロップ23のQ出力とプログラム入力D1とは、NAND回路33の2入力である。この2入力NAND回路33の出力は、レベルシフタ34を介してプログラムトランジスタ32のゲートに与えられる。つまり、D1=1(High)のときに限り、フリップフロップ23のQ出力によりプログラムトランジスタ32をオンさせ得る構成となっている。プログラムトランジスタ32がオンすると、プログラム電源である高電圧電源VDDHからヒューズ素子31に電流が流れ始める。その結果、ヒューズ素子31の抵抗値が徐々に増加するので、ヒューズ素子31とプログラムトランジスタ32との接続点の電圧V1が徐々に減少する。この電圧V1とプログラム入力D1とは、NAND回路35の2入力とされる。この2入力NAND回路35は、電圧V1の変化を通じてヒューズ素子31の抵抗値の変化を監視し、ヒューズ素子31の抵抗値が所定の抵抗値まで増加した時点でコアプログラム終了信号END1を出力する。具体的には、電圧V1がNAND回路35の入力閾値電圧Vthを下回った時点でコアプログラム終了信号END1がLowレベルからHighレベルへ遷移する。4入力NAND回路24は、第1ヒューズコア11からコアプログラム終了信号END1が得られるだけでなく、他の3つのヒューズコア12〜14からもコアプログラム終了信号が得られた時点でLowレベル出力を供給する。この4入力NAND回路24の出力は、インバータ25を介してモジュールプログラム終了信号ENDとなるだけでなく、フリップフロップ23へ負論理リセット入力Rとしても与えられる。図2は第1ヒューズコア11のプログラムが最も遅く完了した例を示しており、コアプログラム終了信号END1がHighレベルへ遷移すると同時にモジュールプログラム終了信号ENDもHighレベルへと遷移し、かつフリップフロップ23のQ出力がリセットされる。これにより、4つのヒューズコア11〜14のプログラムプロセスが終了し、プログラムトランジスタ32がオフするので、もはやヒューズ素子31に電流は流れなくなる。
さて、図1には、ヒューズ素子31がプログラム済み状態にあるか否かを調べるための構成も示されている。次に、この構成について説明する。リファレンス抵抗素子36は、ヒューズ素子31の未プログラム状態における抵抗値よりも高く、かつヒューズ素子31のプログラム済み状態において予測される最低抵抗値よりも低い抵抗値を持つ。リードトランジスタ37はプログラムトランジスタ32のオン抵抗よりも高いオン抵抗を、リファレンストランジスタ38はプログラムトランジスタ32のオン抵抗と実質的に等しいオン抵抗をそれぞれ有する。リード信号READがHighレベルになると、リードトランジスタ37及びリファレンストランジスタ38がともにオンする。ただし、プログラムトランジスタ32がオン状態とされることはない。このとき、差動アンプ39は、ヒューズ素子31とリードトランジスタ37との接続点の電圧と、リファレンス抵抗素子36とリファレンストランジスタ38との接続点の電圧との差を増幅して、第1ヒューズコア11のプログラム出力F1を供給する。具体的には、ヒューズ素子31が未プログラム状態であればF1=0(Low)であり、ヒューズ素子31がプログラム済み状態であればF1=1(High)である。F2,F3,F4は、他の3つのヒューズコア12〜14のプログラム出力である。
ヒューズ素子31のリード動作マージンを確保するためには、リファレンス抵抗素子36とリファレンストランジスタ38との接続点の電圧、つまり差動アンプ39の入力閾値電圧を、プログラム時に動作する2入力NAND回路35の入力閾値電圧よりも高く設定しておくのがよい。リファレンス抵抗素子36、リファレンストランジスタ38及び差動アンプ39に代えてインバータを採用する場合でも、当該インバータの入力閾値電圧を2入力NAND回路35の入力閾値電圧よりも高く設定しておくのがよい。
図3は、図1のヒューズモジュール10をロジック回路部に有するシステムLSIのチップ平面図である。図3のシステムLSI40は、チップ中央部にロジック回路41を、チップ周縁部に入出力回路42をそれぞれ有している。ロジック回路41には、図1のヒューズモジュール10が多数設けられている。多数の入出力セル(I/Oセル)を持つ入出力回路42において、43は高電圧電源パッド、44は低電圧電源パッド、45は接地パッドである。高電圧電源パッド43が供給する高電圧電源VDDHは、入出力回路42中のI/Oセルの電源であると同時に、図1中のヒューズ素子31等の電源でもある。また、低電圧電源パッド44が供給する低電圧電源VDDは、ロジック回路41の電源であると同時に、図1中の2入力NAND回路33,35等の電源でもある。このようにI/Oセル電源をヒューズ素子31のプログラム電源としても活用するのが好ましい。
図4は、複数のヒューズモジュールの接続構成例を示している。図4に示した3個のヒューズモジュール10a,10b,10cはいずれも、図1に示した構成を持つ。INITa及びENDaは第1ヒューズモジュール10aのプログラム起動信号及びプログラム終了信号であり、INITb及びENDbは第2ヒューズモジュール10bのプログラム起動信号及びプログラム終了信号であり、INITc及びENDcは第3ヒューズモジュール10cのプログラム起動信号及びプログラム終了信号である。ここでは、図4に示したように、「ENDa=INITb」、「ENDb=INITc」とする。つまり、これらのヒューズモジュール10a,10b,10cをチェーン状に接続することで、図5に示すように、例えば第1ヒューズモジュール10aのプログラム終了と同時に第2ヒューズモジュール10bのプログラムを開始することができる。
なお、図1ではヒューズ素子31とNチャネルMOSトランジスタで構成されたプログラムトランジスタ32とを直列接続し、高電圧電源VDDH側にヒューズ素子31を、接地電圧VSS側にプログラムトランジスタ32をそれぞれ設けたので、プログラムの進行につれてヒューズ素子31とプログラムトランジスタ32との接続点の電圧V1が徐々に減少した。これとは対照的に、ヒューズ素子とPチャネルMOSトランジスタで構成されたプログラムトランジスタとを直列接続し、高電圧電源VDDH側にプログラムトランジスタを、接地電圧VSS側にヒューズ素子をそれぞれ設けることも可能である。ただし、この場合にはプログラムの進行につれてプログラムトランジスタとヒューズ素子との接続点の電圧が徐々に増加する。したがって、ヒューズ素子のリード動作マージンを確保するためには、電圧検知回路を構成する差動アンプ(又はこれに代わるインバータ)の入力閾値電圧を、プログラム監視手段を構成する論理回路の入力閾値電圧よりも低く設定しておくのがよい。
以上説明してきたとおり、本発明は、ヒューズ素子のプログラム済み状態における高抵抗値を確保しつつプログラムにかける時間を短縮することができるので、プロセッサ、メモリ、PLL回路等を搭載したシステムLSIの回路技術として有用である。
本発明に係る半導体集積回路が有するヒューズモジュールの構成例を示す回路図である。 図1のヒューズモジュールのプログラムプロセスを示す信号波形図である。 図1のヒューズモジュールをロジック回路部に有する半導体集積回路のチップ平面図である。 複数のヒューズモジュールの接続構成例を示す概念図である。 図4の構成の動作を説明するための信号波形図である。
符号の説明
10,10a,10b,10c ヒューズモジュール
11,12,13,14 ヒューズコア
21 ワンショット回路
22,25 インバータ
23 フリップフロップ
24 4入力NAND回路
31 ヒューズ素子
32 プログラムトランジスタ
33,35 2入力NAND回路
34 レベルシフタ
36 リファレンス抵抗素子
37 リードトランジスタ
38 リファレンストランジスタ
39 差動アンプ
40 システムLSI
41 ロジック回路
42 入出力回路
43 高電圧電源パッド
44 低電圧電源パッド
45 接地パッド
D1,D2,D3,D4 プログラム入力
END モジュールプログラム終了信号
ENDa〜ENDc モジュールプログラム終了信号
END1 コアプログラム終了信号
F1,F2,F3,F4 プログラム出力
INIT モジュールプログラム起動信号
INITa〜INITc モジュールプログラム起動信号
READ リード信号
VDD 低電圧電源
VDDH 高電圧電源
VSS 接地電圧

Claims (14)

  1. 所定のプログラム電圧が印加されたときに流れる電流により少なくとも一部が溶断して抵抗値が増加するヒューズ素子と、
    前記ヒューズ素子に対して直列に接続されて直列回路をなし、かつ当該直列回路がプログラム電源に接続されたプログラムトランジスタと、
    起動信号に応答して前記プログラムトランジスタをオンさせることにより前記ヒューズ素子のプログラムを開始するためのプログラム開始手段と、
    前記ヒューズ素子と前記プログラムトランジスタとの接続点の電圧の変化を通じて前記ヒューズ素子の抵抗値の変化を監視し、前記ヒューズ素子の抵抗値が所定の抵抗値まで増加した時点で終了信号を出力するプログラム監視手段と、
    前記終了信号に応答して前記プログラムトランジスタをオフさせることにより前記ヒューズ素子のプログラムを終了するためのプログラム終了手段とを備えたことを特徴とする半導体集積回路。
  2. 請求項1記載の半導体集積回路において、
    前記ヒューズ素子は、ポリシリコン層とシリサイド層とを有する2層構造、又はメタル層からなる1層構造を持つことを特徴とする半導体集積回路。
  3. 請求項1記載の半導体集積回路において、
    前記プログラム開始手段は、前記ヒューズ素子のプログラムを開始するか否かをプログラム入力に応じて決定する機能を有することを特徴とする半導体集積回路。
  4. 請求項1記載の半導体集積回路において、
    前記プログラム開始手段及び前記プログラム終了手段は、前記起動信号によりセットされ、かつ前記終了信号によりリセットされるフリップフロップを有し、当該フリップフロップの出力に応じて前記プログラムトランジスタのオン・オフが制御されることを特徴とする半導体集積回路。
  5. 請求項1記載の半導体集積回路において、
    前記プログラム電源の電圧は、前記プログラム監視手段を構成する論理回路を動作させるための動作電源の電圧よりも高く設定されたことを特徴とする半導体集積回路。
  6. 請求項5記載の半導体集積回路において、
    前記半導体集積回路は、ロジック回路と入出力回路とを備え、
    前記プログラム電源は前記入出力回路の電源と共通であり、かつ前記動作電源は前記ロジック回路の電源と共通であることを特徴とする半導体集積回路。
  7. 請求項1記載の半導体集積回路において、
    前記プログラムトランジスタのオン抵抗よりも高いオン抵抗を有し、当該プログラムトランジスタに対して並列に、かつ前記ヒューズ素子に対して直列に接続されたリードトランジスタと、
    前記ヒューズ素子がプログラム済み状態にあるか否かを調べるために前記ヒューズ素子と前記リードトランジスタとの接続点の電圧を検知するための電圧検知回路と、
    前記プログラムトランジスタがオフした状態で前記リードトランジスタをオンさせる制御を行うリード制御手段とを更に備えたことを特徴とする半導体集積回路。
  8. 請求項7記載の半導体集積回路において、
    前記ヒューズ素子と前記プログラムトランジスタとの直列回路は、前記ヒューズ素子の抵抗値が増加したときに前記ヒューズ素子と前記プログラムトランジスタとの接続点の電圧が減少するように構成され、
    前記電圧検知回路の入力閾値電圧は、前記プログラム監視手段を構成する論理回路の入力閾値電圧よりも高く設定されたことを特徴とする半導体集積回路。
  9. 請求項7記載の半導体集積回路において、
    前記ヒューズ素子と前記プログラムトランジスタとの直列回路は、前記ヒューズ素子の抵抗値が増加したときに前記ヒューズ素子と前記プログラムトランジスタとの接続点の電圧が増加するように構成され、
    前記電圧検知回路の入力閾値電圧は、前記プログラム監視手段を構成する論理回路の入力閾値電圧よりも低く設定されたことを特徴とする半導体集積回路。
  10. 請求項7記載の半導体集積回路において、
    前記電圧検知回路は、
    リファレンス抵抗素子と、
    前記プログラムトランジスタのオン抵抗と実質的に等しいオン抵抗を有し、前記リファレンス抵抗素子に対して直列に接続されて直列回路をなし、かつ当該直列回路が前記プログラム電源に接続されたリファレンストランジスタと、
    前記ヒューズ素子と前記リードトランジスタとの接続点の電圧と、前記リファレンス抵抗素子と前記リファレンストランジスタとの接続点の電圧との差を増幅する差動アンプとを有し、
    前記リード制御手段は、前記リードトランジスタとともに前記リファレンストランジスタをオンさせる機能を有することを特徴とする半導体集積回路。
  11. 請求項10記載の半導体集積回路において、
    前記リファレンス抵抗素子は、ポリシリコンからなる1層構造を持つことを特徴とする半導体集積回路。
  12. 請求項10記載の半導体集積回路において、
    前記リファレンス抵抗素子は、前記ヒューズ素子の未プログラム状態における抵抗値よりも高く、かつ前記ヒューズ素子のプログラム済み状態において予測される最低抵抗値よりも低い抵抗値を持つことを特徴とする半導体集積回路。
  13. 請求項1記載の半導体集積回路において、
    前記半導体集積回路は、複数のヒューズコアを備え、
    前記複数のヒューズコアの各々は、前記ヒューズ素子と、前記プログラムトランジスタと、前記プログラム監視手段とを有し、
    前記プログラム開始手段は、前記起動信号に応答して前記複数のヒューズコアの各々の前記プログラムトランジスタをオンさせる機能を有し、
    前記プログラム終了手段は、前記複数のヒューズコアの各々の前記プログラム監視手段が全て前記終了信号を出力したときに前記複数のヒューズコアの各々の前記プログラムトランジスタをオフさせる機能を有することを特徴とする半導体集積回路。
  14. 請求項1記載の半導体集積回路において、
    前記半導体集積回路は、複数のヒューズモジュールを備え、
    前記複数のヒューズモジュールの各々は、前記ヒューズ素子と、前記プログラムトランジスタと、前記プログラム開始手段と、前記プログラム監視手段と、前記プログラム終了手段とを有し、
    前記複数のヒューズモジュールのうちのいずれか1つのヒューズモジュールに与えられる前記起動信号は、前記複数のヒューズモジュールのうちの他の1つのヒューズモジュールから出力された前記終了信号であることを特徴とする半導体集積回路。
JP2004302567A 2004-10-18 2004-10-18 半導体集積回路 Withdrawn JP2006114804A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004302567A JP2006114804A (ja) 2004-10-18 2004-10-18 半導体集積回路
US11/245,075 US7203117B2 (en) 2004-10-18 2005-10-07 Semiconductor integrated circuit
CNB2005101094149A CN100411174C (zh) 2004-10-18 2005-10-18 半导体集成电路

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004302567A JP2006114804A (ja) 2004-10-18 2004-10-18 半導体集積回路

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2006114804A true JP2006114804A (ja) 2006-04-27

Family

ID=36180561

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004302567A Withdrawn JP2006114804A (ja) 2004-10-18 2004-10-18 半導体集積回路

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7203117B2 (ja)
JP (1) JP2006114804A (ja)
CN (1) CN100411174C (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008153588A (ja) * 2006-12-20 2008-07-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電気ヒューズ回路
JP2009224530A (ja) * 2008-03-17 2009-10-01 Fujitsu Microelectronics Ltd 半導体装置
US8384466B2 (en) 2009-10-29 2013-02-26 Panasonic Corporation Semiconductor device

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009016568A (ja) * 2007-07-04 2009-01-22 Toshiba Corp 半導体集積回路装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5708291A (en) 1995-09-29 1998-01-13 Intel Corporation Silicide agglomeration fuse device
JP3176324B2 (ja) * 1997-07-29 2001-06-18 日本電気アイシーマイコンシステム株式会社 半導体集積回路
US6268760B1 (en) * 1998-04-30 2001-07-31 Texas Instruments Incorporated Hysteretic fuse control circuit with serial interface fusing
KR100389040B1 (ko) * 2000-10-18 2003-06-25 삼성전자주식회사 반도체 집적 회로의 퓨즈 회로
US6759894B2 (en) * 2002-10-31 2004-07-06 Infineon Technologies Ag Method and circuit for controlling fuse blow
JP4137888B2 (ja) * 2003-05-13 2008-08-20 富士通株式会社 半導体集積回路装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008153588A (ja) * 2006-12-20 2008-07-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電気ヒューズ回路
JP2009224530A (ja) * 2008-03-17 2009-10-01 Fujitsu Microelectronics Ltd 半導体装置
US8384466B2 (en) 2009-10-29 2013-02-26 Panasonic Corporation Semiconductor device

Also Published As

Publication number Publication date
US20060083046A1 (en) 2006-04-20
US7203117B2 (en) 2007-04-10
CN100411174C (zh) 2008-08-13
CN1779975A (zh) 2006-05-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4828835B2 (ja) 半導体製品の製造方法
JP2006039830A (ja) 半導体集積回路
TWI670718B (zh) 用於快閃記憶體系統的低電力感測放大器
JP4036554B2 (ja) 半導体装置およびその試験方法、および半導体集積回路
JP2006216219A (ja) フラッシュセルに実現したヒューズセルアレイを含むフラッシュメモリ装置
JP2005529571A (ja) 連続ヒューズラッチ操作に用いる送りレジスタ
JP3786527B2 (ja) 半導体装置及び半導体チップ上レイアウト設計方法
US7203117B2 (en) Semiconductor integrated circuit
JP2009048669A (ja) 半導体記憶装置
JP2007317346A (ja) 半導体記憶装置
US7400547B2 (en) Semiconductor integrated circuit with power-reducing standby state
JP6103815B2 (ja) 不揮発性メモリ回路、及び半導体装置
JP5348541B2 (ja) 半導体装置
JP2009053130A (ja) 半導体装置
KR20160006853A (ko) 전기적 퓨즈 어레이 회로 및 이를 포함하는 반도체 메모리 장치
JP2534697B2 (ja) 半導体記憶装置
JP2008123642A (ja) 負電位モニターパッド制御回路及びそれを備えた不揮発性メモリ
JP2006352304A (ja) 半導体集積回路
JP2011134386A (ja) 半導体装置
JP2005209311A (ja) 半導体記憶装置
KR100543192B1 (ko) 프로그래머블 퓨즈 회로 및 그를 구비한 반도체메모리장치
JP2005267794A (ja) 不揮発性半導体記憶装置及びこれを備えた半導体システムlsi
JPS61190798A (ja) 半導体装置
JP2006065919A (ja) メモリセル及びそれを具備する半導体集積回路
JP2006349616A (ja) デコーダ回路

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070710

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20101122