JP2006072279A - 光パターン形成方法および装置、ならびに光ピンセット装置 - Google Patents
光パターン形成方法および装置、ならびに光ピンセット装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006072279A JP2006072279A JP2004290597A JP2004290597A JP2006072279A JP 2006072279 A JP2006072279 A JP 2006072279A JP 2004290597 A JP2004290597 A JP 2004290597A JP 2004290597 A JP2004290597 A JP 2004290597A JP 2006072279 A JP2006072279 A JP 2006072279A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phase
- pattern
- light
- optical
- output surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims abstract description 82
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 238000012576 optical tweezer Methods 0.000 title claims description 11
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 21
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims description 20
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 7
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 7
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 claims description 7
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 claims 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000002922 simulated annealing Methods 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000010330 laser marking Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/08—Synthesising holograms, i.e. holograms synthesized from objects or objects from holograms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/08—Synthesising holograms, i.e. holograms synthesized from objects or objects from holograms
- G03H1/0841—Encoding method mapping the synthesized field into a restricted set of values representative of the modulator parameters, e.g. detour phase coding
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/22—Processes or apparatus for obtaining an optical image from holograms
- G03H1/2294—Addressing the hologram to an active spatial light modulator
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/04—Processes or apparatus for producing holograms
- G03H1/16—Processes or apparatus for producing holograms using Fourier transform
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/0005—Adaptation of holography to specific applications
- G03H2001/0077—Adaptation of holography to specific applications for optical manipulation, e.g. holographic optical tweezers [HOT]
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/22—Processes or apparatus for obtaining an optical image from holograms
- G03H1/2202—Reconstruction geometries or arrangements
- G03H2001/2223—Particular relationship between light source, hologram and observer
- G03H2001/2231—Reflection reconstruction
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/22—Processes or apparatus for obtaining an optical image from holograms
- G03H1/2249—Holobject properties
- G03H2001/2252—Location of the holobject
- G03H2001/2255—Holobject out of Fourier or hologram planes
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2225/00—Active addressable light modulator
- G03H2225/30—Modulation
- G03H2225/32—Phase only
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
【解決手段】 位相変調型の空間光変調器(12)を用いて読出し光(26)を位相変調し、その位相変調された読出し光(26)をフーリエ変換して出力面(24)上に結像させ、光パターンを形成する。この方法では、位相変調された読出し光(26)に含まれる0次光を出力面(24)上でぼかす。0次光をぼかすことによって、出力面(24)上における0次光の輝度が低減される。0次光を遮断しないので、光パターンの形状は制限されない。
【選択図】 図1
Description
この光パターン形成装置は、出力面と異なる面上に前記0次光を結像させることにより0次光を出力面上でぼかしてもよい。
図1は、本実施形態の光パターン形成装置10の構成を示す概略図である。光パターン形成装置10は、空間光変調器12、制御装置14、読出し光源16、ビームエキスパンダ18、コリメータレンズ20、およびフーリエ変換レンズ22を有しており、所望の二次元的な光パターンを出力面24上に形成することができる。
以下では、本発明の第2の実施形態を説明する。図6は、本実施形態の光パターン形成装置の構成を示す概略図である。この光パターン形成装置40は、第1実施形態と同様の光パターン形成装置10aを用いて光パターンを形成し、その光パターンを顕微鏡50内の観察面に結像させる。
以下では、本発明の第3の実施形態を説明する。図8は、本実施形態の光パターン形成装置の構成を示す概略図である。この光パターン形成装置70は、第1実施形態の光パターン形成装置10においてコリメータレンズ20およびPAL−SLM36間の光路上に位相板21を追加した構成を有している。したがって、本実施形態では、読出し光源16、ビームエキスパンダ18およびコリメータレンズ20に加えて位相板21が発光装置28を構成する。
Claims (14)
- 位相変調型の空間光変調器を用いて読出し光を位相変調し、その位相変調された読出し光をフーリエ変換して出力面上に結像させ、光パターンを形成する方法において、
前記位相変調された読出し光に含まれる0次光を前記出力面上でぼかすことを特徴とする光パターン形成方法。 - 前記出力面と異なる面上に前記0次光を結像させることにより前記0次光を前記出力面上でぼかす、請求項1に記載の光パターン形成方法。
- 前記空間光変調器に位相パターンを入力し、前記読出し光を前記空間光変調器に照射して、前記読出し光を前記位相パターンに応じて位相変調するステップと、
その位相変調された読出し光を、レンズを用いてフーリエ変換し、前記出力面上に結像させるステップと
をさらに備え、
前記レンズの光軸方向に沿って前記出力面を前記レンズの焦平面からずらすことにより前記0次光を前記出力面上でぼかす、請求項1または2に記載の光パターン形成方法。 - 前記読出し光を位相変調する前に、前記光パターンに対応する主位相パターンと、レンズ効果を有する副位相パターンとを足し合わせて前記位相パターンを作成するステップを更に備える、請求項3に記載の光パターン形成方法。
- 前記副位相パターンがフレネルゾーンパターンである、請求項4に記載の光パターン形成方法。
- 前記読出し光を位相変調するステップは、平面波に所定の波面歪みを与えて前記読出し光を生成し、
前記位相パターンを作成するステップは、前記波面歪みを補正する位相パターンを前記主および副位相パターンに足し合わせて前記位相パターンを作成する、請求項4または5に記載の光パターン形成方法。 - 読出し光を位相変調する位相変調型の空間光変調器と、
前記読出し光を前記空間光変調器に照射する発光装置と、
前記空間光変調器によって位相変調された前記読出し光をフーリエ変換して出力面上に結像させるレンズと、
を備える光パターン形成装置において、
前記位相変調された読出し光に含まれる0次光を前記出力面上でぼかすことを特徴とする光パターン形成装置。 - 前記出力面と異なる面上に前記0次光を結像させることにより前記0次光を前記出力面上でぼかす、請求項7に記載の光パターン形成装置。
- 前記空間光変調器の位相変調を制御する位相パターンを作成し、その位相パターンを前記空間光変調器に入力する制御装置を更に備え、
前記位相パターンは、前記レンズの光軸方向に沿って前記出力面を前記レンズの焦平面からずらすように位相変調を制御する、請求項7または8に記載の光パターン形成装置。 - 前記制御装置は、前記光パターンに対応する主位相パターンと、レンズ効果を有する副位相パターンとを足し合わせて前記位相パターンを作成する、請求項9に記載の光パターン形成装置。
- 前記副位相パターンがフレネルゾーンパターンである、請求項10に記載の光パターン形成装置。
- 前記発光装置は、平面波に所定の波面歪みを与えて前記読出し光を生成し、
前記制御装置は、前記波面歪みを補正する位相パターンを前記主および副位相パターンに足し合わせて前記位相パターンを作成する、
請求項10または11に記載の光パターン形成装置。 - 前記制御装置は、前記位相パターンを電気的な画像信号として前記空間光変調器に入力し、
前記空間光変調器は、前記画像信号に応じた光学像を表示する液晶表示装置と、前記液晶表示装置に照明光を照射して前記光学像を投影する照明装置と、前記読出し光および投影された前記光学像を受光し、その光学像の強度分布に応じて前記読出し光を位相変調する変調素子を有している、請求項9〜12のいずれかに記載の光パターン形成装置。 - 請求項7〜13のいずれかに記載の光パターン形成装置を備え、その光パターン形成装置によって形成された光パターンを試料に照射して前記試料を捕捉する光ピンセット装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP05018813A EP1630588B1 (en) | 2004-08-31 | 2005-08-30 | Method of forming an optical pattern, optical pattern formation system, and optical tweezer |
US11/214,060 US7527201B2 (en) | 2004-08-31 | 2005-08-30 | Method of forming an optical pattern, optical pattern formation system, and optical tweezer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US60557604P | 2004-08-31 | 2004-08-31 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006072279A true JP2006072279A (ja) | 2006-03-16 |
JP4664031B2 JP4664031B2 (ja) | 2011-04-06 |
Family
ID=36152941
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004290620A Active JP4606831B2 (ja) | 2004-08-31 | 2004-10-01 | 光パターン形成方法および装置、ならびに光ピンセット装置 |
JP2004290597A Active JP4664031B2 (ja) | 2004-08-31 | 2004-10-01 | 光パターン形成方法および装置、ならびに光ピンセット装置 |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004290620A Active JP4606831B2 (ja) | 2004-08-31 | 2004-10-01 | 光パターン形成方法および装置、ならびに光ピンセット装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7527201B2 (ja) |
JP (2) | JP4606831B2 (ja) |
CN (1) | CN100442106C (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2453285A1 (en) | 2010-11-16 | 2012-05-16 | Olympus Corporation | Illumination optical system |
WO2014073397A1 (ja) * | 2012-11-12 | 2014-05-15 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光照射装置 |
WO2014097996A1 (ja) * | 2012-12-20 | 2014-06-26 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光観察装置 |
JP2014202867A (ja) * | 2013-04-04 | 2014-10-27 | オリンパス株式会社 | パターン照射装置 |
CN104155834A (zh) * | 2014-07-25 | 2014-11-19 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 基于单个空间光调制器的彩色微型投影装置 |
JP2015087590A (ja) * | 2013-10-31 | 2015-05-07 | アルプス電気株式会社 | 画像投影装置 |
JP2016170440A (ja) * | 2016-06-08 | 2016-09-23 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光照射装置、顕微鏡装置、レーザ加工装置、及び光照射方法 |
JP2016176996A (ja) * | 2015-03-18 | 2016-10-06 | アルプス電気株式会社 | 画像投影装置 |
KR101803320B1 (ko) * | 2014-05-12 | 2017-12-05 | 한국전자통신연구원 | 복소 공간 광 변조기의 제조 방법 |
KR20180012831A (ko) * | 2016-03-03 | 2018-02-06 | 다크리 홀로그래픽스 리미티드 | 디스플레이 시스템 |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1690629B1 (en) * | 2005-02-09 | 2013-01-23 | Fanuc Corporation | Laser processing system |
CA2656048C (en) * | 2006-06-19 | 2014-09-09 | Danmarks Tekniske Universitet | Light beam generation |
US8749463B2 (en) | 2007-01-19 | 2014-06-10 | Hamamatsu Photonics K.K. | Phase-modulating apparatus |
JP4947639B2 (ja) * | 2007-01-19 | 2012-06-06 | 浜松ホトニクス株式会社 | 反射型位相変装置及び反射型位相変調装置の設定方法 |
DE102007051521A1 (de) * | 2007-10-19 | 2009-04-23 | Seereal Technologies S.A. | Dynamische Wellenformereinheit |
JP2012503798A (ja) * | 2008-09-25 | 2012-02-09 | ザ トラスティーズ オブ コロンビア ユニヴァーシティ イン ザ シティ オブ ニューヨーク | 構造物の光刺激およびイメージングを提供するためのデバイス、装置、および方法 |
JP5302705B2 (ja) * | 2009-02-12 | 2013-10-02 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ光照射装置及び照射方法 |
ES2393896B1 (es) * | 2009-06-10 | 2013-11-11 | Easy Laser S.L. | Sistema de proyección de imágenes por láser aplicable al marcaje de objetos y método para la generación de hologramas. |
JP5554965B2 (ja) * | 2009-11-06 | 2014-07-23 | オリンパス株式会社 | 位相変調型空間光変調器を用いたレーザ顕微鏡 |
LU91737B1 (en) * | 2010-09-17 | 2012-03-19 | Iee Sarl | Lidar imager |
JP5616824B2 (ja) | 2011-03-10 | 2014-10-29 | オリンパス株式会社 | 顕微鏡装置 |
CN102745643A (zh) * | 2011-04-19 | 2012-10-24 | 金石琦 | 激光光镊装置 |
JP5802109B2 (ja) * | 2011-10-26 | 2015-10-28 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光変調制御方法、制御プログラム、制御装置、及びレーザ光照射装置 |
GB2499579B (en) * | 2012-02-07 | 2014-11-26 | Two Trees Photonics Ltd | Lighting device |
JP6047325B2 (ja) * | 2012-07-26 | 2016-12-21 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光変調方法、光変調プログラム、光変調装置、及び光照射装置 |
DE112012006900B4 (de) * | 2012-09-13 | 2024-05-16 | Hamamatsu Photonics K.K. | Steuerverfahren für optische Modulation, Steuerprogramm, Steuervorrichtung und Laserlicht-Bestrahlungsvorrichtung |
JP6360825B2 (ja) * | 2013-04-03 | 2018-07-18 | オリンパス株式会社 | 結像光学系、照明装置および観察装置 |
CN104101993B (zh) * | 2014-07-10 | 2017-04-19 | 深圳职业技术学院 | 傅立叶显微镜装置及信息共享系统及其信息共享方法 |
CN107076974A (zh) * | 2014-10-03 | 2017-08-18 | 奥林巴斯株式会社 | 光轴方向扫描型显微镜装置 |
JP6516555B2 (ja) | 2015-05-15 | 2019-05-22 | 浜松ホトニクス株式会社 | 変調パターン算出装置、光制御装置、変調パターン算出方法および変調パターン算出プログラム |
JP6644563B2 (ja) | 2016-01-28 | 2020-02-12 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ光照射装置 |
CN109683312B (zh) * | 2019-01-22 | 2021-03-12 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种自适应光学系统像传递关系的调节方法 |
JP7303079B2 (ja) * | 2019-09-11 | 2023-07-04 | 浜松ホトニクス株式会社 | レーザ加工装置及びレーザ加工方法 |
TW202138867A (zh) * | 2019-12-06 | 2021-10-16 | 美商伊路米納有限公司 | 提供參數估計的裝置和方法 |
JP2023043819A (ja) * | 2021-09-16 | 2023-03-29 | 日本精機株式会社 | 虚像表示装置及び虚像表示方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08286590A (ja) * | 1995-04-12 | 1996-11-01 | Toppan Printing Co Ltd | Cgh作製方法および作製装置 |
JP2000039831A (ja) * | 1998-07-10 | 2000-02-08 | Lucent Technol Inc | ホログラフィ―デ―タ記憶の方法および装置 |
JP2000266937A (ja) * | 1999-03-17 | 2000-09-29 | Victor Co Of Japan Ltd | ホログラフィー光学素子及びその製造方法 |
JP2001272636A (ja) * | 2000-01-19 | 2001-10-05 | Hamamatsu Photonics Kk | レーザ加工装置 |
JP2004325944A (ja) * | 2003-04-25 | 2004-11-18 | Canon Inc | 微小物体処理装置 |
JP2006078686A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Fuji Xerox Co Ltd | ホログラム記録方法及び装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3744871A (en) * | 1970-02-25 | 1973-07-10 | Hitachi Ltd | Holographic memory system for recording digital information |
JP3475947B2 (ja) * | 1991-05-21 | 2003-12-10 | セイコーエプソン株式会社 | 光学装置 |
EP0540759B1 (en) | 1991-05-21 | 1997-09-10 | Seiko Epson Corporation | Optical device and optical machining system using the optical device |
JP3337767B2 (ja) | 1993-07-13 | 2002-10-21 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光アドレス型空間光変調装置 |
JP3918044B2 (ja) | 1996-11-01 | 2007-05-23 | 浜松ホトニクス株式会社 | 画像形成装置 |
DE10085411B3 (de) | 2000-01-19 | 2017-03-02 | Hamamatsu Photonics K.K. | Laserlichtbearbeitungsvorrichtung mit einem räumlichen Lichtmodulator |
GB0124807D0 (en) * | 2001-10-16 | 2001-12-05 | Geola Technologies Ltd | Fast 2-step digital holographic printer |
DE10297383B4 (de) * | 2001-10-25 | 2016-07-28 | Hamamatsu Photonics K.K. | Phasenmodulationseinrichtung und Phasenmodulationsverfahren |
US7109473B2 (en) * | 2002-09-16 | 2006-09-19 | University Of Chicago | Transverse optical accelerator and generalized optical vortices |
US6762865B1 (en) | 2003-02-07 | 2004-07-13 | Imation Corp. | Self-referenced holography using diffusive element |
-
2004
- 2004-10-01 JP JP2004290620A patent/JP4606831B2/ja active Active
- 2004-10-01 JP JP2004290597A patent/JP4664031B2/ja active Active
-
2005
- 2005-08-30 US US11/214,060 patent/US7527201B2/en active Active
- 2005-08-31 CN CNB2005100938658A patent/CN100442106C/zh active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08286590A (ja) * | 1995-04-12 | 1996-11-01 | Toppan Printing Co Ltd | Cgh作製方法および作製装置 |
JP2000039831A (ja) * | 1998-07-10 | 2000-02-08 | Lucent Technol Inc | ホログラフィ―デ―タ記憶の方法および装置 |
JP2000266937A (ja) * | 1999-03-17 | 2000-09-29 | Victor Co Of Japan Ltd | ホログラフィー光学素子及びその製造方法 |
JP2001272636A (ja) * | 2000-01-19 | 2001-10-05 | Hamamatsu Photonics Kk | レーザ加工装置 |
JP2004325944A (ja) * | 2003-04-25 | 2004-11-18 | Canon Inc | 微小物体処理装置 |
JP2006078686A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Fuji Xerox Co Ltd | ホログラム記録方法及び装置 |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012123385A (ja) * | 2010-11-16 | 2012-06-28 | Olympus Corp | 照明光学装置 |
EP2453285A1 (en) | 2010-11-16 | 2012-05-16 | Olympus Corporation | Illumination optical system |
US9739992B2 (en) | 2012-11-12 | 2017-08-22 | Hamamatsu Photonics K.K. | Light irradiation device |
WO2014073397A1 (ja) * | 2012-11-12 | 2014-05-15 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光照射装置 |
JP2014095863A (ja) * | 2012-11-12 | 2014-05-22 | Hamamatsu Photonics Kk | 光照射装置 |
US10295812B2 (en) | 2012-11-12 | 2019-05-21 | Hamamatsu Photonics K.K. | Light irradiation device |
US9846267B2 (en) | 2012-12-20 | 2017-12-19 | Hamamatsu Photonics K.K. | Optical observation device |
WO2014097996A1 (ja) * | 2012-12-20 | 2014-06-26 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光観察装置 |
JP2014202867A (ja) * | 2013-04-04 | 2014-10-27 | オリンパス株式会社 | パターン照射装置 |
US10168522B2 (en) | 2013-04-04 | 2019-01-01 | Olympus Corporation | Pattern irradiation apparatus having spatial light modulator and light blocking member for blocking 0-order light generated by spatial light modulator |
JP2015087590A (ja) * | 2013-10-31 | 2015-05-07 | アルプス電気株式会社 | 画像投影装置 |
KR101803320B1 (ko) * | 2014-05-12 | 2017-12-05 | 한국전자통신연구원 | 복소 공간 광 변조기의 제조 방법 |
CN104155834A (zh) * | 2014-07-25 | 2014-11-19 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 基于单个空间光调制器的彩色微型投影装置 |
JP2016176996A (ja) * | 2015-03-18 | 2016-10-06 | アルプス電気株式会社 | 画像投影装置 |
KR20180012831A (ko) * | 2016-03-03 | 2018-02-06 | 다크리 홀로그래픽스 리미티드 | 디스플레이 시스템 |
JP2018525660A (ja) * | 2016-03-03 | 2018-09-06 | デュアリタス リミテッド | ディスプレイシステム |
KR102047544B1 (ko) * | 2016-03-03 | 2019-11-21 | 듀얼리타스 리미티드 | 디스플레이 시스템 |
JP2016170440A (ja) * | 2016-06-08 | 2016-09-23 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光照射装置、顕微鏡装置、レーザ加工装置、及び光照射方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4606831B2 (ja) | 2011-01-05 |
CN100442106C (zh) | 2008-12-10 |
US20060043184A1 (en) | 2006-03-02 |
CN1755429A (zh) | 2006-04-05 |
US7527201B2 (en) | 2009-05-05 |
JP4664031B2 (ja) | 2011-04-06 |
JP2006072280A (ja) | 2006-03-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4664031B2 (ja) | 光パターン形成方法および装置、ならびに光ピンセット装置 | |
JP7082655B2 (ja) | ディスプレイ投影方法 | |
KR101620852B1 (ko) | 홀로그래픽 보정을 갖는 홀로그래픽 이미지 프로젝션 | |
JP3962088B2 (ja) | 位相コントラスト画像形成 | |
CN112154379B (zh) | 平视显示器 | |
KR20150072151A (ko) | Slm을 이용하여 홀로그램 엘리먼트 이미지들을 기록하는 홀로그램 기록 장치 및 방법 | |
Damberg et al. | High brightness HDR projection using dynamic freeform lensing | |
JP2003121749A (ja) | 顕微鏡 | |
US8867113B2 (en) | Laser processing device and laser processing method | |
WO2002052332A2 (en) | A method and an apparatus for generating a phase-modulated wave front of electromagnetic radiation | |
KR101605219B1 (ko) | 광 제어 장치 및 광 제어 방법 | |
Makowski et al. | Complex light modulation for lensless image projection | |
KR101577096B1 (ko) | 광 제어 장치 및 광 제어 방법 | |
EP1630588B1 (en) | Method of forming an optical pattern, optical pattern formation system, and optical tweezer | |
US20120195519A1 (en) | Method of Generating Corrected Image Data and Display Apparatus | |
CN110494795B (zh) | 伪散斑图案生成装置、伪散斑图案生成方法、观察装置和观察方法 | |
JP2013195801A (ja) | ホログラフィックステレオグラム記録装置及び方法 | |
JP7195556B2 (ja) | 超解像計測装置および超解像計測装置の作動方法 | |
TWI802893B (zh) | 消除零階繞射光線的方法與系統 | |
Takaki | Holographic 3D display using MEMS spatial light modulator | |
US11665324B2 (en) | High fidelity configuration for two-photon SLM microscopy | |
WO2023171050A1 (ja) | ホログラム用データ生成システム及びホログラム用データ生成方法 | |
CN115480392A (zh) | 消除零阶衍射光线的方法与系统 | |
Lee et al. | 2D/3D imaging screen using spatially multiplexed holographic optical elements | |
JP2018088297A (ja) | ホログラム記録装置およびホログラム記録方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070927 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100521 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100706 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100903 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20110104 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20110106 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4664031 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140114 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |