JP2006066009A - 半導体集積回路 - Google Patents
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Abstract
【課題】 不揮発性メモリに対して読み出し速度の高速化と書き換え回数を多く保証することを両方させる。
【解決手段】 半導体集積回路は、閾値電圧の相違によって情報記憶を行う第1の不揮発性メモリ領域(PGM)と第2の不揮発性メモリ領域(DAT)とを有する。前記第1の不揮発性メモリ領域は、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、消去ベリファイ判定メモリゲート電圧、消去ベリファイ判定メモリ電流、書込みベリファイ判定メモリゲート電圧、書込みベリファイ判定メモリ電流、消去電圧、消去電圧印加時間、書込み電圧、及び書込み電圧印加時間のうちの何れか一つの条件又は複数の条件に差がつけれら、第1の不揮発性メモリ領域は第2の不揮発性メモリ領域よりも記憶情報の読み出し速度が速く、第2の不揮発性メモリ領域は第1の不揮発性メモリ領域よりも書き換え保証回数が多くされる。
【選択図】 図1
Description
図1にはマイクロコンピュータが例示される。マイクロコンピュータ(MCU)1は例えばCMOS集積回路製造技術によって単結晶シリコンなどの1個の半導体基板に形成される。マイクロコンピュータ1は、中央処理装置(CPU)2、CPU2のワーク領域などに用いられる揮発性メモリとしてのランダムアクセスメモリ(RAM)3、前記CPU2及びRAM3などが接続される第1バスとしてのCPUバス(BUSc)4、前記CPUバス4に接続されたバスコントローラ(BSC)5、バスコントローラ5に接続された第2バスとしての周辺バス(BUSp)6などを有し、階層化されたバス構成を備える。前記周辺バス6にはタイマ(TMR)7、アナログ・ディジタル変換回路(A/D)8、入出力ポート(I/Oprt)9及びシリアルインタフェースコントローラ(SCI)10などの周辺回路が接続される。前記CPUバス4には閾値電圧の相違によって情報記憶を行なう電気的に書き換え可能な第1の不揮発性メモリとしてのフラッシュメモリ11が接続される。前記周辺バス6には閾値電圧の相違によって情報記憶を行なう電気的に書き換え可能な第2の不揮発性メモリとしてのフラッシュメモリ12が接続される。前記フラッシュメモリ11は第1の不揮発性メモリ領域として、CPU2が実行するプログラムの格納領域(プログラム領域PGM)を有する。前記フラッシュメモリ12は第2の不揮発性メモリ領域として、CPU2がプログラムを実行するとき利用するデータの格納領域(データ領域DAT)を有する。
図2にはフラッシュメモリ11の構成が例示される。フラッシュメモリ11は、電気的に消去及び書き込み可能な多数の不揮発性メモリセル(MC11〜MCmn)20がマトリクス配置されたメモリアレイ(MARY)21を有する。前記不揮発性メモリセル20は、特に制限されないが、スプリットゲート構造とされ、ソース、ドレイン、チャネル、前記チャネル上で隣合って相互に絶縁形成された選択ゲート(コントロールゲート)及びメモリゲートを持つ。ソースは対応行のソース線SLに接続され、ドレインは対応列のビット線BLに接続され、選択ゲートは対応行のコントロールゲート制御線(ワード線)CLに接続され、メモリゲートは対応行のメモリゲート制御線MLに接続される。不揮発性メモリセル20には、ソース(ソース線接続)、ドレイン(ビット線接続)、チャネル、チャネル上に相互に絶縁形成されて積み上げられたフローティングゲート及びコントロールゲート(ワード線接続)を持つスタックドゲート構造を採用してもよい。
図3には不揮発性メモリセル20のデバイス構造が例示される。不揮発性メモリセル20は、シリコン基板上に設けたp型ウエル領域35に、情報記憶に用いるMOS型の第1トランジスタ36と、前記第1トランジスタ36を選択するMOS型の第2トランジスタ37(選択MOSトランジスタ)とを有して成る。第1トランジスタ36は、ソース線に接続するソース線電極となるn型拡散層(n型不純物領域)38、電荷蓄積領域(例えばシリコン窒化膜)39、電荷蓄積領域39の表裏に配置された絶縁膜(例えば酸化シリコン膜)40,41、書込み・消去時に高電圧を印加するためのメモリゲート電極(例えばn型ポリシリコン層)42、及びメモリゲート電極保護用の酸化膜(例えば酸化シリコン膜)43を有する。前記第2トランジスタ37は、ビット線に接続するビット線電極となるn型拡散層(n型不純物領域)44、ゲート絶縁膜(例えば酸化シリコン膜)45、コントロールゲート電極(例えばn型ポリシリコン層)46、前記コントロールゲート電極46とメモリゲート電極42を絶縁する絶縁膜(例えば酸化シリコン膜)47を有する。
フラッシュメモリ11のプログラム領域PGMには高速読み出しに必要な十分なメモリ電流を確保できるように、他方のフラッシュメモリ12のデータ領域DATには電圧ストレスが軽減されるように(多くの書き換え回数を保証できるように)、不揮発性メモリセルの書き換え条件を最適化する。その最適化の手法として、プログラム領域PGMとデータ領域DATに対して、消去ベリファイ判定メモリゲート電圧、消去ベリファイ判定メモリ電流、書込みベリファイ判定メモリゲート電圧、書込みベリファイ判定メモリ電流、消去電圧、消去電圧印加時間、書込み電圧、及び書込み電圧印加時間のうちの何れか一つの条件又は複数の条件を相違させ、フラッシュメモリ11のプログラム領域PGMにはフラッシュメモリ12のデータ領域DSATよりも読み出し速度性能に優位性をもたせ、フラッシュメモリ12のデータ領域DATにはフラッシュメモリ11のプログラム領域PGM領域よりも書き換え保証回数において優位性を持たせる。
書き換え条件の最適化の第1の例として、消去ベリファイ判定メモリゲート電圧条件を相違させる場合について説明する。消去ベリファイ処理S3においてプログラム領域PGMに対しデータ領域DATより低い消去ベリファイ判定メモリゲート電圧を印加する。消去対象がフラッシュメモリ11かフラッシュメモリ12かに応じて消去ベリファイ判定メモリゲート電圧を変えればよい。図7に例示されるように、プログラム領域PGMの消去ベリファイ判定メモリゲート電圧をVev1、データ領域DATの消去ベリファイ判定メモリゲート電圧をVev2とするとき、Vev1<Vev2とされる。図8にはそのときの閾値電圧分とメモリ電流との関係が示される。不揮発性メモリセル20のメモリゲートに読出し電圧Vrvが与えられたとき、消去状態のメモリセルに流れる読出し電流はプログラム領域PGMの方がデータ領域DATに比べて大きくなる。図7においてプログラム領域PGMの読出し速度をS1、データ領域DATの読出し速度をS2とするとき、S1>S2とされる。図9には読み出し系の回路例が示される。ビット線BL1とビット線BL2の負荷は等しくし、読出し動作の開始前に双方のビット線BL1,BL2はチャージMOSトランジスタ60,61を介してプリチャージされる。定電流回路62、63は、消去状態のメモリ電流の約1/2の電流を発生する。ビット線BL1側のメモリセル(MCi)20を読み出し対象とするとき、対象メモリセル(MCi)20のコントロールゲートとメモリゲートに選択電圧を印加するとともにセンス期間制御信号ビットφSP1にて線BL2側の定電流回路63を活性化する。要するに、ビット線BL1側をセンス側、ビット線BL2側をリファレンス側とする。センスアンプ64の最小検知信号量δ以上にビット線電位差が生ずるタイミングでセンスアンプ64を起動し、メモリ閾値電圧判定信号66が確定する。φSEはセンスアンプ64の活性化制御信号、φPCはプリチャージ制御信号である。図10にはプログラム領域PGMにおける消去状態のメモリセルに対する読出し信号波形が示される。図11にはデータ領域DATにおける消去状態のメモリセルに対する読出し信号波形が示される。プリチャージをやめて定電流回路63を活性化させてから、センスアンプ64を起動するまでがセンス時間Tspである。プログラム領域PGMの方がデータ領域DATに比べて消去状態のメモリセル20の閾値電圧が低くされるから、センス時間Tspはプログラム領域PGMの方がデータ領域DATよりも短い。したがってプログラム領域PGMの方がデータ領域DATに比べてデータ読み出し速度を高速化でききる。
書き換え条件の最適化の第2の例として、消去ベリファイ判定メモリ電流条件を相違させる場合について説明する。消去ベリファイ処理S3においてプログラム領域PGMに対しデータ領域DATより大きな消去ベリファイ判定メモリ電流を用いてベリファイを行う。消去対象がフラッシュメモリ11かフラッシュメモリ12かに応じて消去ベリファイ判定メモリ電流を変えればよい。図14に例示されるように、プログラム領域PGMの消去ベリファイ判定メモリ電流をIev1、データ領域DATの消去ベリファイ判定メモリ電流をIev2とするとき、Iev1>Iev2とされる。図15にはそのときの閾値電圧分とメモリ電流との関係が示される。不揮発性メモリセル20のメモリゲートに読出し電圧Vrvが与えられたとき、消去状態のメモリセルに流れる読出し電流はプログラム領域PGMの方がデータ領域DATに比べて大きくなる。図14においてプログラム領域PGMの読出し速度をS1、データ領域DATの読出し速度をS2とするとき、S1>S2とされる。消去ベリファイ判定メモリゲート電圧Veは双方の領域で同じとする。
書き換え条件の最適化の第3の例として、書き込みベリファイ判定メモリゲート電圧条件を相違させる場合について説明する。書き込みベリファイ処理S14においてプログラム領域PGMに対しデータ領域DATより高い書き込みベリファイ判定メモリゲート電圧を印加する。書き込み対象がフラッシュメモリ11かフラッシュメモリ12かに応じて書き込みベリファイ判定メモリゲート電圧を変えればよい。図17に例示されるように、プログラム領域PGMの書き込みベリファイ判定メモリゲート電圧をVpv1、データ領域DATの書き込みベリファイ判定メモリゲート電圧をVpv2とするとき、Vpv1>Vpv2とされる。図18にはそのときの閾値電圧分とメモリ電流との関係が示される。不揮発性メモリセル20のメモリゲートに読出し電圧Vrvが与えられたとき、書き込み状態のメモリセルに対する読出し電流(この場合はオフ電流)は、プログラム領域PGMの方がデータ領域DATに比べて小さく抑えられる。図19にはプログラム領域PGMにおける書き込み状態のメモリセルに対する読出し信号波形が示される。図20にはデータ領域DATにおける書き込み状態のメモリセルに対する読出し信号波形が示される。プログラム領域PGMの方がデータ領域DATに比べて書き込み状態のメモリセル20の閾値電圧が高くされるから、センス時間Tspはプログラム領域PGMの方がデータ領域DATよりも短い。したがってプログラム領域PGMの方がデータ領域DATに比べてデータ読み出し速度を高速化できる。図17においてプログラム領域PGMの読出し速度をS1、データ領域DATの読出し速度をS2とするとき、S1>S2とされる。フラッシュメモリ12のデータ領域DATにおいては、メモリ閾値電圧変化が小さいため、書き換え保証回数を大きくすることができる。
書き換え条件の最適化の第4の例として、書き込みベリファイ判定メモリ電流条件を相違させる場合について説明する。書き込みベリファイ処理S14においてプログラム領域PGMに対しデータ領域DATより小さな書き込みベリファイ判定メモリ電流を用いてベリファイを行う。書き込み対象がフラッシュメモリ11かフラッシュメモリ12かに応じて書き込みベリファイ判定メモリ電流を変えればよい。図21に例示されるように、プログラム領域PGMの書き込みベリファイ判定メモリ電流をIpv1、データ領域DATの書き込みベリファイ判定メモリ電流をIpv2とするとき、Ipv1<Ipv2とされる。図22にはそのときの閾値電圧分とメモリ電流との関係が示される。不揮発性メモリセル20のメモリゲートに読出し電圧Vrvが与えられたとき、書き込み状態のメモリセルに対する読出し電流(この場合はオフ電流)は、プログラム領域PGMの方がデータ領域DATに比べて小さく抑えられる。プログラム領域PGMの方がデータ領域DATに比べて書き込み状態のメモリセル20の閾値電圧が高くされるから、センス時間Tspはプログラム領域PGMの方がデータ領域DATよりも短い。したがってプログラム領域PGMの方がデータ領域DATに比べてデータ読み出し速度を高速化できる。図21においてプログラム領域PGMの読出し速度をS1、データ領域DATの読出し速度をS2とするとき、S1>S2とされる。フラッシュメモリ12のデータ領域DATにおいては、メモリ閾値電圧変化が小さいため、書き換え保証回数を大きくすることができる。尚、書き込みベリファイ判定メモリゲート電圧Vpvは双方の領域で同じとする。
書き換え条件の最適化の第5の例として、消去ベリファイ判定メモリゲート電圧条件と書き込みベリファイ判定メモリゲートで電圧条件の双方を相違させる場合について説明する。消去ベリファイ処理S3においてプログラム領域PGMに対しデータ領域DATより低い消去ベリファイ判定メモリゲート電圧を印加する。消去対象がフラッシュメモリ11かフラッシュメモリ12かに応じて消去ベリファイ判定メモリゲート電圧を変えればよい。更に、書き込みベリファイ処理S14においてプログラム領域PGMに対しデータ領域DATより高い書き込みベリファイ判定メモリゲート電圧を印加する。書き込み対象がフラッシュメモリ11かフラッシュメモリ12かに応じて書き込みベリファイ判定メモリゲート電圧を変えればよい。図23に例示されるように、Vev1<Vev2、VpV1>Vpv2とされる。図24にはそのときの閾値電圧分とメモリ電流との関係が示される。不揮発性メモリセル20のメモリゲートに読出し電圧Vrvが与えられたとき、消去状態のメモリセルに流れる読出し電流はプログラム領域PGMの方がデータ領域DATに比べて大きくなる。また、不揮発性メモリセル20のメモリゲートに読出し電圧Vrvが与えられたとき、書き込み状態のメモリセルに対する読出し電流(この場合はオフ電流)は、プログラム領域PGMの方がデータ領域DATに比べて小さく抑えられる。書き換え条件の最適化の第1の例と第2の例の双方の効果を併せ持つことができる。
書き換え条件の最適化の第6の例として、消去電圧条件を相違させる場合について説明する。消去電圧印加処理S2においてプログラム領域PGMに対しデータ領域DATより絶対値的に高い消去電圧を印加する。消去対象がフラッシュメモリ11かフラッシュメモリ12かに応じて消去電圧を変えればよい。或いは、消去電圧印加処理S2においてプログラム領域PGMに対しデータ領域DATより消去電圧印時間を長くする。消去電圧と消去電圧印加時間の双方を相違させてもよい。図25に例示されるように、プログラム領域PGMの消去電圧をVe1、データ領域DATの消去電圧をVe2とするとき、|Ve1|>|Ve2|とされる。また、プログラム領域PGMの消去電圧印加時間をPe1、データ領域DATの消去電圧印加時間をPe2とするとき、Pe1>Pe2とされる。図26にはそのときの閾値電圧分とメモリ電流との関係が示される。プログラム領域PGMにおいては、メモリ閾値電圧を低く下げることができ、データ領域DATの読出し電流よりもプログラム領域の読出し電流を大きくすることができる。データ領域DATにおいては、メモリ閾値電圧が下がり過ぎず、また電圧印加後のメモリ閾値電圧分布が狭まるため、メモリ閾値電圧変化を抑えることができる。そのため、書き換え保証回数を大きくすることができる。
書き換え条件の最適化の第7の例として、書き込み電圧条件を相違させる場合について説明する。書き込み電圧印加処理S13においてプログラム領域PGMに対しデータ領域DATより絶対値的に高い書き込み電圧を印加する。書き込み対象がフラッシュメモリ11かフラッシュメモリ12かに応じて書き込み電圧を変えればよい。或いは、書き込み電圧印加処理S13においてプログラム領域PGMに対しデータ領域DATより書き込み電圧印時間を長くする。書き込み電圧と書き込み電圧印加時間の双方を相違させてもよい。図29に例示されるように、プログラム領域PGMの書き込み電圧をVp1、データ領域DATの書き込み電圧をVp2とするとき、|Vp1|>|Vp2|とされる。また、プログラム領域PGMの書き込み電圧印加時間をPp1、データ領域DATの書き込み電圧印加時間をPp2とするとき、Pp1>Pp2とされる。図30にはそのときの閾値電圧分とメモリ電流との関係が示される。書き込み処理ではプログラム領域PGMのメモリ閾値電圧を高く上げることができ、書き込み状態のメモリセルに対する読み出し電流を小さな電流に抑えることができるため、相対的に消去状態のメモリセルに対する読み出し速度を高速化することができる。データ領域DATにおいては、メモリ閾値電圧が上がり過ぎず、また電圧印加後のメモリ閾値電圧分布が狭まるため、メモリ閾値電圧変化を比較的小さく抑えることができる。そのため、書き換え保証回数を大きくすることができる。書き込み電圧印加パルスの発生には図27及び図28と類似の回路を採用すればよい。
データ領域とプログラム領域の用途の相違に対するメモリセル特性の最適化には上記書き換え条件の相違のほかに、メモリセルのデバイス構造的条件を相違させて最適化を図ることも可能である。すなわち、前記プログラム領域PGMは、前記データ領域DATに対して、メモリセルゲート長、メモリセルゲート幅のうちの何れか一方又は双方の条件に相違を有し、プログラム領域はデータ領域DATよりも読み出し速度性能において優位性を有し、データ領域DATはプログラム領域PGMよりも書き換え保証回数において優位性を有する。具体的には、プログラム領域PGMは前記データ領域DATに対してメモリセルゲート長が短く設定される。プログラム領域PGMは前記データ領域DATに対してメモリセルゲート幅が大きく設定される。メモリセルゲート長が短いほど、メモリゲート幅が大きいほど、メモリセルトランジスタのコンダクタンスが大きくなり、読み出し速度の高速化に資することができる。なお、上記消去・書き込み条件の相違と共に、不揮発性メモリセルのゲート長等の構造の相違の双方を採用することも可能である。図31には上記メモリセルゲート長とメモリセルゲート幅の相違による特性の優劣が例示される。
2 CPU
PGM プログラム領域
DAT データ領域
11 プログラム領域に割り当てられるフラッシュメモリ
12 データ領域に割り当てられるフラッシュメモリ
20 不揮発性メモリセル
Claims (20)
- 中央処理装置と、前記中央処理装置のアドレス空間に配置された書き換え可能な不揮発性メモリ領域とを有し、
前記不揮発性メモリ領域は閾値電圧の相違によって情報記憶を行う第1の不揮発性メモリ領域と第2の不揮発性メモリ領域とを有し、
前記第1の不揮発性メモリ領域は、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、消去ベリファイ判定メモリゲート電圧、消去ベリファイ判定メモリ電流、書込みベリファイ判定メモリゲート電圧、書込みベリファイ判定メモリ電流、消去電圧、消去電圧印加時間、書込み電圧、及び書込み電圧印加時間のうちの何れか一つの条件又は複数の条件に相違を有し、
前記第1の不揮発性メモリ領域は第2の不揮発性メモリ領域よりも記憶情報の読み出し速度が速く、
前記第2の不揮発性メモリ領域は第1の不揮発性メモリ領域よりも書き換え保証回数が多い半導体集積回路。 - 前記第1の不揮発性メモリ領域は、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、消去ベリファイ判定メモリゲート電圧に相違を有するとき、第1の不揮発性メモリ領域は前記第2の不揮発性メモリ領域に対して消去ベリファイ判定メモリゲート電圧が低く設定される請求項1記載の半導体集積回路。
- 前記第1の不揮発性メモリ領域は、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、消去ベリファイ判定メモリ電流に相違を有するとき、第1の不揮発性メモリ領域は前記第2の不揮発性メモリ領域に対して消去ベリファイ判定メモリ電流が大きく設定される請求項1記載の半導体集積回路。
- 前記第1の不揮発性メモリ領域は、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、書込みベリファイ判定メモリゲート電圧に相違を有するとき、第1の不揮発性メモリ領域は前記第2の不揮発性メモリ領域に対して書込みベリファイ判定メモリゲート電圧が高く設定される請求項1記載の半導体集積回路。
- 前記第1の不揮発性メモリ領域は、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、書込みベリファイ判定メモリ電流に相違を有するとき、第1の不揮発性メモリ領域は前記第2の不揮発性メモリ領域に対して書込みベリファイ判定メモリ電流が小さく設定される請求項1記載の半導体集積回路。
- 前記第1の不揮発性メモリ領域は、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、書込みベリファイ判定メモリゲート電圧と消去ベリファイ判定メモリゲート電圧に相違を有するとき、第1の不揮発性メモリ領域は前記第2の不揮発性メモリ領域に対して書込みベリファイ判定メモリゲート電圧が高く設定され、且つ消去ベリファイ判定メモリゲート電圧が低く設定される請求項1記載の半導体集積回路。
- 前記第1の不揮発性メモリ領域は、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、消去電圧に相違を有するとき、第1の不揮発性メモリ領域は前記第2の不揮発性メモリ領域に対して消去電圧が高く設定される請求項1記載の半導体集積回路。
- 前記第1の不揮発性メモリ領域は、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、消去電圧印加時間に相違を有するとき、第1の不揮発性メモリ領域は前記第2の不揮発性メモリ領域に対して消去電圧印加時間が長く設定される請求項1記載の半導体集積回路。
- 前記第1の不揮発性メモリ領域は、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、書込み電圧に相違を有するとき、第1の不揮発性メモリ領域は前記第2の不揮発性メモリ領域に対して書込み電圧が高く設定される請求項1記載の半導体集積回路。
- 前記第1の不揮発性メモリ領域は、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、書込み電圧印加時間に相違を有するとき、第1の不揮発性メモリ領域は前記第2の不揮発性メモリ領域に対して書込み電圧印加時間が長く設定される請求項1記載の半導体集積回路。
- 前記第1の不揮発性メモリ領域は更に、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、メモリセルゲート長、メモリセルゲート幅のうちの何れか一方又は双方に相違を有する請求項1記載の半導体集積回路。
- 前記第1の不揮発性メモリ領域は、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、メモリセルゲート長に相違を有するとき、第1の不揮発性メモリ領域は前記第2の不揮発性メモリ領域に対してメモリセルゲート長が短く設定される請求項11記載の半導体集積回路。
- 前記第1の不揮発性メモリ領域は、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、メモリセルゲート幅に相違を有するとき、第1の不揮発性メモリ領域は前記第2の不揮発性メモリ領域に対してメモリセルゲート幅が大きく設定される請求項12記載の半導体集積回路。
- 前記第1の不揮発性メモリ領域を備えた第1の不揮発性メモリと、前記第2の不揮発性メモリ領域を備えた第2の不揮発性メモリとを別々に有する請求項1記載の半導体集積回路。
- 前記第1の不揮発性メモリ領域と前記第2の不揮発性メモリ領域の双方を備えた一つの不揮発性メモリを有する請求項1記載の半導体集積回路。
- 前記第1の不揮発性メモリ領域はプログラムの格納に用いられ、前記第2の不揮発性メモリ領域はデータの格納に用いられる請求項1記載の半導体集積回路。
- 中央処理装置と、前記中央処理装置のアドレス空間に配置された書き換え可能な不揮発性メモリ領域とを有し、
前記不揮発性メモリ領域は閾値電圧の相違によって情報記憶を行う第1の不揮発性メモリ領域と第2の不揮発性メモリ領域とを有し、
前記第1の不揮発性メモリ領域は、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、メモリセルゲート長、メモリセルゲート幅のうちの何れか一方又は双方のに相違を有し、
前記第1の不揮発性メモリ領域は第2の不揮発性メモリ領域よりも記憶情報の読み出し速度が速く、
前記第2の不揮発性メモリ領域は第1の不揮発性メモリ領域よりも書き換え保証回数が多い半導体集積回路。 - 前記第1の不揮発性メモリ領域は、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、メモリセルゲート長に相違を有するとき、第1の不揮発性メモリ領域は前記第2の不揮発性メモリ領域に対してメモリセルゲート長が短く設定される請求項17記載の半導体集積回路。
- 前記第1の不揮発性メモリ領域は、前記第2の不揮発性メモリ領域に対して、メモリセルゲート幅に相違を有するとき、第1の不揮発性メモリ領域は前記第2の不揮発性メモリ領域に対してメモリセルゲート幅が大きく設定される請求項17記載の半導体集積回路。
- 閾値電圧の相違によって情報記憶を行う第1の不揮発性メモリ領域と第2の不揮発性メモリ領域と、前記第1のメモリ領域と第2のメモリ領域とをアクセス可能な中央処理装置とを有するデータ処理システムにおいて、前記第1の不揮発性メモリ領域と第2の不揮発性メモリ領域に対して書き換えを行うデータ処理方法であって、
前記第1の不揮発性メモリ領域と前記第2の不揮発性メモリ領域との間では、消去ベリファイ判定メモリゲート電圧、消去ベリファイ判定メモリ電流、書込みベリファイ判定メモリゲート電圧、書込みベリファイ判定メモリ電流、消去電圧、消去電圧印加時間、書込み電圧、及び書込み電圧印加時間のうちの何れか一つの条件又は複数の条件を相違させ、
前記第1の不揮発性メモリ領域は第2の不揮発性メモリ領域よりも記憶情報の読み出し速度を速くし、
前記第2の不揮発性メモリ領域は第1の不揮発性メモリ領域よりも書き換え保証回数を多くするデータ処理方法。
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