JP2006060117A - 熱処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】熱処理装置のチャンバ本体内には、基板9の下面に当接して基板9を支持するとともに、外縁部723から中央部724に向かって僅かに漸次高くなる凸状の支持面722を有するサセプタ72が設けられ、サセプタ72の下側に取り付けられたホットプレート71により支持面722が加熱される。熱処理装置1では、チャンバ本体内へと搬送された基板9に対して、凸状の支持面722の中央部724が外縁部723に先行して基板9の下面に当接し、基板9の中央部が外縁部より僅かに早く加熱される。これにより、サセプタ72を介した加熱による基板9の反りを防止することができる。
【選択図】図5
Description
4 保持部昇降機構
9 基板
51 フラッシュランプ
71 ホットプレート
722 支持面
723 外縁部
724 中央部
Claims (5)
- 基板に加熱を伴う処理を行う熱処理装置であって、
基板の下面に当接して前記基板を支持するとともに外縁部から中央部に向かって僅かに漸次高くなる凸状の支持面と、
前記支持面を下側から加熱する加熱部と、
を備えることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項1に記載の熱処理装置であって、
前記支持面に支持された基板の上面へと光を照射する少なくとも1つのフラッシュランプをさらに備えることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項2に記載の熱処理装置であって、
前記加熱部による前記支持面を介した加熱により、前記支持面上に載置された基板の前記支持面の前記外縁部に対向する部位が前記中央部に対向する部位よりも高温とされることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項2または3に記載の熱処理装置であって、
他の機構により前記支持面の上方の受け渡し位置へと搬送された基板を、前記受け渡し位置から前記支持面に対して相対的かつ連続的に移動して前記支持面上に載置する基板移載機構をさらに備えることを特徴とする熱処理装置。 - 請求項1ないし4のいずれかに記載の熱処理装置であって、
前記支持面の前記外縁部と前記中央部との高さの差が0.1mm以上0.2mm以下であることを特徴とする熱処理装置。
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