JP2005521763A - 重合性組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
a)アクリル酸もしくはメタクリル酸、またはアクリル酸もしくはメタクリル酸の混合物と
b)置換もしくは非置換フェノール、C1〜C8ヒドロキシアルキルベンゼンまたはC1〜C8ヒドロキシアルコキシベンゼンの(メタ)アクリル酸エステル、およびメチル(メタ)アクリラートとを、
モル比が5:95〜100:0の範囲内で含み、ここで、該アクリル酸またはメタクリル酸単位の5〜95%は、グリシジルビニル化合物と反応させてある、反応生成物を提供する。
Rは、互いに独立して、HまたはCH3であり;
R1は、ビニル基により置換された有機基であり;
R2は、水素であるか、または、R1と一緒になって、そしてエチレン基が連結しているR1とR2を含めて、6〜8員の炭素環であって、ビニル基により置換された有機基を保持するものであり;そして
R3は、互いに独立して、メチル、置換もしくは非置換フェニル、置換もしくは非置換C1〜C8アルキルフェニル、置換もしくは非置換C1〜C8アルコキシフェニル、または置換もしくは非置換シクロアルキル、たとえばC5〜C8シクロアルキルであって、少なくとも1個のモノマー単位R3が、メチルと異なることを条件とする)
の構造要素を含むアクリラートポリマーに相当する。
R1は、好ましくは非置換の脂肪族基、脂環式基または芳香族基であって、C1〜C8アルキレンが好ましく、そして−CH2−が特に好ましい。
Rは、互いに独立して、HまたはCH3であり;
R1’は、置換または非置換C1〜C8アルキレンであり;そして
R3は、メチル、置換もしくは非置換フェニル、置換もしくは非置換C1〜C8アルキルフェニル、置換もしくは非置換C1〜C8アルコキシフェニル、または置換もしくは非置換シクロアルキル、たとえばC5〜C8シクロアルキルである)
の構造単位を含むアクリラートポリマーに相当する。
i)前述のような、本発明の反応生成物、
ii)所望ならば、少なくとも2個のエチレン性不飽和末端基を有する、モノマー性またはオリゴマー性アクリラート、
iii)フリーラジカル、カチオンまたはアニオンを生成し、光化学線による活性化が可能であり、そして追加的に1種類以上の増感剤を含有してもよい重合開始剤系、および
iv)所望ならば、有機または無機充填剤
を含む光重合性組成物を提供する。
i)前述した反応生成物、
ii)所望ならば、少なくとも2個のエチレン性不飽和末端基を有する、モノマー性またはオリゴマー性アクリラート、
iii)フリーラジカル、カチオンまたはアニオンを生成し、そして光化学線による活性化が可能な、重合開始剤または重合開始剤系、
iv)所望ならば、有機または無機充填剤、
v)熱重合インヒビター、および
vi)溶媒または溶媒系
を含む光重合性組成物を提供する。
i)前述した反応生成物 15〜70重量%、
ii)少なくとも2個のエチレン性不飽和末端基を有する、モノマー性またはオリゴマー性アクリラート 0〜30重量%、
iii)フリーラジカル、カチオンまたはアニオンを生成し、そして光化学線による活性化が可能な、重合開始剤または重合開始剤系 0.1〜15重量%、
iv)有機または無機充填剤 0〜60重量%、
v)熱重合インヒビター 0.01〜0.5重量%、および
vi)溶媒または溶媒系 20〜80重量%、
(ここで、成分のパーセント数は、重量の合計に基づいており、条件として重量パーセントの合計が100である)
を含む光重合性組成物を提供する。
乾燥後、ホトレジスト被覆を、たとえばホトマスクを通すか、または直接、レーザーに暴露し、ついで、たとえば水性アルカリ現像溶液(たとえば、0.3〜3%炭酸ナトリウム溶液)または有機溶媒(たとえば、ブチルジグリコール、エチルジグリコールまたはγ−ブチロラクトン)を用いて現像する。このようにして、被覆の露光されていない非架橋部分が除去される。金属(一般には銅)は、その後、この基材の露光されていない部分からエッチング溶液によって除去され、結果として、決められた構造が得られる。ついで、残留ホトレジストは、剥離溶液、たとえば2〜5%強度の水酸化ナトリウム溶液により、所望ならばて昇温下で、除去される。
乾燥後、ホトレジスト被覆を、たとえばホトマスクを通すか、または直接、レーザーに暴露し、ついで、たとえば水性アルカリ現像溶液(たとえば、0.3〜3%炭酸ナトリウム溶液)または有機溶媒(たとえば、ブチルジグリコール、エチルジグリコールまたはγ−ブチロラクトン)を用いて現像する。このようにして、被覆の露光されていない非架橋部分が除去され、そして露光された画像部分は、その後、被覆の後硬化達成のために、所望ならばて120〜200℃の温度範囲で3時間までの間、加熱される。
I.本発明の光重合性組成物の、基材への塗布;
II.基材上への光重合性組成物のフィルムの形成を伴う、塗布された組成物からの溶媒の除去;
III.所望ならば、被覆された基材の、光化学線への暴露;
IV.所望ならば、基材の露出を伴う、アルカリ性水媒体または有機溶媒を用いる被覆の非露光部分の除去、;そして
V.所望ならば、基材上に残留している被覆の熱硬化、および所望ならば、UV硬化
を含む、エッチングレジスト像またはソルダーレジスト像を生成させるための方法を提供する。
I.インクジェット法を用いる、本発明の光重合性組成物を基材への塗布;
II.基材上への乾燥された光重合性組成物の形成を伴う、塗布された組成物からの溶媒の除去;
III.所望ならば、被覆または構造付けされた基材の、光化学線への均一な暴露;そして
IV.所望ならば、熱硬化、および所望ならば、基材上に残留している被覆のUV硬化
を含む、エッチングレジスト像またはソルダーレジスト像を生成させるための方法もまた好ましい。
A)前述した本発明の反応生成物 25〜85重量%、
B)少なくとも2個のエチレン性不飽和末端基を有する、モノマー性またはオリゴマー性アクリラート 5〜40重量%、
C)フリーラジカル、カチオンまたはアニオンを生成し、そして光化学線により活性化が可能な、付加重合開始剤または付加重合開始剤系 1〜25重量%、
D)有機または無機充填剤 0〜60重量%、および
E)熱重合インヒビター 0.025〜1.重量%;
ここで、成分のパーセント数は、重量の合計に基づいており、条件として重量パーセントの合計は100であり、
厚さ0.1〜400μmを有する
光重合性層を保持する基材を含む光重合性要素を提供する。
層の厚さは3〜50μmが好ましい。
用いてある省略語は、以下の意味を有する。
MAA メタクリル酸
MMA メチルメタクリラート
BzMA ベンジルメタクリラート
MAGMA メタクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルメタクリラート
MGIP メタクリロイルオキシ−2−ヒドロキシプロピルイソプロピルエ
ーテル
MPA=PMA メトキシプロピル酢酸エステル
MP メトキシプロパノール
Cr−Hex−CEM クロム(III)2−エチルヘキサノアート
TMPTA トリメチルプロパントリアクリラート、(Cray Valley)
Ebecryl 160 ポリ[オキシ−1,2−エタンジイル,α,ヒドロ−ω−[(1
−オキソ−2−プロペニル)オキシ]]エーテルおよび
2−エチル−2−(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオ
ール(3:1)、(UCB)
Irgacure 907 2−メチル−1−(4−メチルチオ)フェニル−2−モルホリノ
−1−プロパノン、(Ciba)
Orasolblau GN フタロシアニン染料、(Ciba)
Quantacure ITX 2,4−イソプロピルチオキサントン、(Rahn)
Silbond FW 600AST SiO2、(Quartzwerk Frechen)
Dyhard UR 200 置換された芳香族尿素、(Rahn)
Tego 900 ポリシロキサン、(Tego)
Syloid 161 無定形シリカ,SiO2、(Dow)
DER 331 ビスフェノールAエポキシ樹脂、(Dow)
Lionol Green 2Y-301 フタロシアニン染料、(Toyo)
合成例1
メチルメタクリラート35重量部、ベンジルメタクリラート35重量部、およびメタクリル酸30重量部を含む完全混合溶液の10%を、最初に溶媒混合物MPA/MP(70:30)を200mL仕込んでおいた反応器中に導入した。MPA/MPの100mL、および2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)の2重量部を、残りのモノマー溶液に加えた。反応器中の初めに導入した混合物を90℃に加熱し、そして十分に混合したモノマー/開始剤溶液を、反応器中の初めに導入した混合物に、窒素下で2時間かけて滴下して加えた。モノマー混合物の添加が終了した後、反応溶液を90℃でさらに5時間、ついで135℃で1時間反応させた。
合成例1の記述と同様に、ただしグリシジルメタクリラートとの反応は省いて、樹脂を合成した。
処方例1
表に示した成分を混合し、Dispermatで処理して(2,000rpm、60℃、30分)、均質な溶液を得て、そしてろ過した(フィルターのポアサイズ:2)。
表に示した2成分形調製品の構成成分を混合し、そして三本ロールミルを用いて混練して、均質な材料を生成させた。調製した調合品の固体成分の最大の粒径が3μmより大きくないように、この工程を3回繰り返した。樹脂成分と硬化剤成分を、使用する直前に、記載の比率で混合した。
同一モノマー組成物の、官能化された不飽和樹脂および非官能化樹脂を、エッチングレジスト用途の処方の中のバインダーポリマーとして使用した。この調合品は、処方例1の記載と同様にして調製した。
表6に示した成分を、処方例2の記載と同様にして混合した。
表7に示した成分を、処方例1の記載と同様に処理して、均質な溶液を得た。
使用例1(従来のエッチングレジスト)
調合品を、水平ローラーコーターを用いて、ガラス繊維強化エポキシ銅張積層板に塗布した。被覆された積層板を、対流炉中、80℃で3分間乾燥し、その後、マスクを通してUV光に暴露した(365nm、120mJ/cm2)。被覆層厚(9〜11μm)は、イソスコープ(Fischer)を用いて測定した。被覆の非架橋部分を、1%水性Na2CO3を用い、スプレー圧0.196MPa{2.0kgf/cm2}で60秒間かけて除去した。積層板の露出した銅を、エッチング溶液(2〜3Nの水性HCl、80〜140g銅/L)を用い、スプレー圧0.2MPa{2bar}で除去した。液状エッチングレジスト用途におけるこの調合品の性質を決定するために、一連の試験を実施した。すべての試験を、内部標準としての対照調合品との比較において実施した。
1.乾燥後の硬度
調合品を、銅張積層板に塗布し、室温で5分間予備乾燥した。その後、該積層板を、対流炉中、80℃で3分間乾燥し、そして室温に冷却した。被膜の硬度は、鉛筆硬度を決定することにより評価した。表に記した鉛筆硬度は、鉛筆を表面に沿って45°の角度で、穏やかに一定の押圧で移動させたときに、表面に何らの損傷も生じない鉛筆の硬度に基づいている。用いる鉛筆の硬度は、6B、5B、4B、3B、2B、HB、H、2Hおよび3Hで、ここでは6Bは最も軟らかく、そして3Hは最も硬いものをいう。
UV光に暴露後、被覆されている銅張積層板を現像溶液中に30℃で1分間浸漬した。その積層板をその浴から取り出し、そして湿潤表面の鉛筆硬度を、1項記載のようにして決定した。
被覆して乾燥した積層板を、マスクを通してUV光(365nm、120mJ/cm2)に暴露した。被覆の光反応性は、Stouffer感度スケール21(SSG21)を用いて決定した。
被覆して乾燥した積層板を、マスクを通してUV光(365nm、120mJ/cm2)に暴露した。解像度は、Stouffer解像度スケール(SRG)を用いて決定した。
被覆して乾燥した積層板を、穏やかに撹拌されている現像溶液(1%強度の水性Na2CO3)含有浴の中に温度30℃で浸漬し、そして被膜が積層板から脱離し始めるまでの所要時間を測定した。
被覆し、乾燥し、そして露光した積層板を、激しく撹拌されている剥離溶液(4%強度の水性NaOH)含有浴の中に温度45℃で浸漬し、そして被膜が積層板から脱離し始めるまでの所要時間を測定した。
エッチング後の銅トラックの品質を、光学顕微鏡法および電子顕微鏡法(Electron Microscope DSM950、Zeiss)の両方によって査定した。
査定基準:
oo:一定銅厚の直線
o: 銅厚にわずかな偏差を有する直線
x: 一定銅厚の波状線
xx:銅厚にわずかな偏差を有する波状線
調合品を、ドクターブレードを用いて銅張積層板の表面に塗布し、対流炉中、80℃で20分間乾燥した。被覆された表面を、ホトマスクを通してUV光(365nm、120mJ/cm2)に暴露した。被覆の非露光部分を、1%強度の水性Na2O3を用い、スプレー圧0.196MPa{2kgf/cm2}で60秒間かけて積層板から除去した。その後、被覆を熱硬化(150℃、60分間)させた。
表面被膜が、ホトマスクが露光後にその表面に対して接着性を示さない場合、非粘着性(nt)であると格付けした。
被覆して乾燥した積層板を、マスクを通してUV光(365nm、120mJ/cm2)に暴露した。被覆の光反応性は、Stouffer感度スケール21(SSG21)を用いて決定した。
被覆、乾燥そしてUV露光した積層板を、1%強度の水性Na2CO3溶液を用い、30℃において3barのスプレー圧下、0.65m/minで現像した。
被覆して乾燥した積層板を、マスクを通してUV光(365nm、120mJ/cm2)に暴露した。現像後、被覆された表面を、150℃で60分間熱硬化した。硬化させた被覆の銅表面への付着性を、碁盤目試験を実施して決定した。この目的には、被覆された表面に、まず決められたパターンで引っかき傷を入れ、ついで接着テープ(Scotch Brand 9898)をそのパターン上に押し付け、ついで再び剥がした(接着テープ試験)。
oo:かき傷パターンの角部において、被膜の縁の欠けを生じない
o: かき傷パターンの角部において、被膜の縁にわずかな損傷あり
x: かき傷パターンの角部において、被膜の縁に激しい損傷あり
xx:かき傷パターンの角部において、被膜が完全に除去されている
被覆、乾燥、露光、現像、そして熱硬化した積層板を、CH2Cl2中において室温で5分間、インキュベートした。インキュベート後の被膜の状態を、鉛筆硬度(液状エッチングレジスト用途の1参照)の測定によって、以下のように査定した。
oo:被膜表面の鉛筆硬度が、恒温熟成前の測定値と一致した
o: 恒温熟成後の鉛筆硬度に、わずかな偏移あり
x: 恒温熟成後の鉛筆硬度に、強い偏移あり
xx:泡形成、膨潤、および表面からの被膜の脱離あり
処理加工した積層板への化学的Ni−Au表面コーティング処理を、標準化された方法(Shipley, Atotech)によって実施した。ソルダーマスクの銅表面に対する付着性の減少の度合いを、接着テープ試験(D参照)の実施により決定し、そして以下のように査定した。
oo:付着性の減少なし
o: 付着性にわずかな減少あり
x: 付着性に大きな減少あり
xx:付着性を完全に喪失した
被覆、乾燥、露光、現像、そして熱硬化した積層板を、まずフラックス(ロジンの25%イソプロパノール溶液)の中に浸漬した。ついで積層板を60秒間乾燥させ、そして、はんだ浴(265℃)の中に毎回10秒間ずつ3回浸漬した。その後、被膜の状態を、以下のように査定した。
oo:被覆された表面に変化なし
o: 被覆された表面にわずかな変化あり
x: 被覆された表面に強い変化あり
xx:被覆された表面の、泡形成、膨潤、および脱離あり
被覆して乾燥した積層板を、マスクを通してUV光(365nm、120mJ/cm2)に暴露した。解像度は、Stouffer解像度スケール(SRG)を用いて決定した。
被覆して乾燥した積層板を、マスクを通してUV光(365nm、120mJ/cm2)に暴露し、その後、プレッシャークッカー中、120℃、1.5barで、72時間インキュベートした。その後、被覆された表面の状態を、以下のように査定した。
oo:被覆された表面に変化なし
o: 被覆された表面にわずかな変化あり
x: 被覆された表面に強い変化あり
xx:被覆された表面の、泡形成、膨潤、および脱離あり
調合品を、スクリーン印刷法によってガラス繊維強化エポキシ銅張積層板(積層板厚1mm、0.2mm径で削孔、銅厚40μm)に塗布した。80℃で40分間乾燥した後、LDI装置(Etek)を用い、露光エネルギー50mJで露光を実施した。その後、使用例2(従来のソルダーマスク塗布)の記載と同様にして、積層板のさらなる処理加工を実施した。
調合品を、インクジェット印刷装置(Stork, Muehlheim製;ピエゾプリントヘッド、径48μmのノズル256個、Spectra)を用いて塗布した。塗布は、35℃、ファイアパルス周波数2〜8kHzで、予備洗浄したガラス繊維強化エポキシ銅張積層板(1.2mm厚、35μm銅厚)の上に実施した。その後、被覆された積層板を80℃で2分間乾燥して冷却し、ついで均一に露光し(水銀ランプ、25〜30mJ/cm2)、そして使用例1(従来のエッチングレジスト)の記載と同様にしてエッチングを実施した。使用例1の表8に記載したものに匹敵する結果を得た。
Claims (16)
- 少なくとも以下:
a)アクリル酸もしくはメタクリル酸、またはアクリル酸もしくはメタクリル酸の混合物と
b)置換もしくは非置換フェノール、C1〜C8ヒドロキシアルキルベンゼンまたはC1〜C8ヒドロキシアルコキシベンゼンの(メタ)アクリル酸エステル、およびメチル(メタ)アクリラートとを、
モル比が5:95〜100:0の範囲内で含み、該アクリル酸またはメタクリル酸単位の5〜95%は、グリシジルビニル化合物と反応させてある反応生成物。 - 成分(a)が、メタクリル酸である、請求項1記載の反応生成物。
- 成分(b)の(メタ)アクリル酸エステルが、ベンジルメタクリラートである、請求項1記載の反応生成物。
- グリシジルビニル化合物が、グリシジルメタクリラートである、請求項1記載の反応生成物。
- 成分a)の成分b)に対するモル比が、85:15〜15〜85である、請求項1記載の反応生成物。
- 反応生成物の分子量が、10,000〜120,000g/molである、請求項1記載の反応生成物。
- 反応生成物の分子量が、20,000〜90,000g/molである、請求項1記載の反応生成物。
- 反応生成物が、酸価0.4〜5.0mol/kgを有する、請求項1記載の反応生成物。
- 実質的に以下:
i)請求項1記載の反応生成物、
ii)少なくとも2個のエチレン性不飽和末端基を有する、モノマー性またはオリゴマー性アクリラート、
iii)フリーラジカル、カチオン、またはアニオンを生成し、そして光化学線による活性化が可能な、重合開始剤または重合開始剤系、および
iv)所望ならば、有機または無機充填剤
を含む、光重合性組成物。 - 実質的に以下:
i)請求項1記載の反応生成物、
ii)所望ならば、少なくとも2個のエチレン性不飽和末端基を有する、モノマー性またはオリゴマー性アクリラート、
iii)フリーラジカル、カチオンまたはアニオンを生成し、そして光化学線による活性化が可能な、重合開始剤または重合開始剤系、
iv)所望ならば、有機または無機充填剤、
v)熱重合インヒビター、および
vi)溶媒または溶媒系
を含む、光重合性組成物。 - 実質的に以下:
i)請求項1記載の反応生成物 15〜70重量%、
ii)少なくとも2個のエチレン性不飽和末端基を有する、モノマー性またはオリゴマー性アクリラート 0〜30重量%、
iii)フリーラジカル、カチオンまたはアニオンを生成し、そして光化学線による活性化が可能な、重合開始剤または重合開始剤系 0.1〜15重量%、
iv)有機または無機充填剤 0〜60重量%、
v)熱重合インヒビター 0.01〜0.5重量%、および
vi)溶媒または溶媒系 20〜80重量%;
(ここで、成分のパーセント数は、重量の合計に基づいており、条件として重量パーセントの合計が100である)
を含む、光重合性組成物。 - 以下の処理工程:
I.請求項10記載の光重合性組成物の基材への塗布;
II.基材上への光重合性組成物のフィルムの形成を伴う、塗布された組成物からの溶媒の除去;
III.所望ならば、被覆された基材の光化学線への暴露;
IV.所望ならば、基材の露出を伴う、アルカリ性水媒体または有機溶媒を用いる被覆の非露光部分の除去;そして
V.所望ならば、基材上に残留している被覆の熱硬化、および所望ならば、UV硬化
を含む、エッチングレジスト像またはソルダーレジスト像の製造方法。 - 暴露(III)を、レーザーによって、ホトマスクを介するか、または直接実施する、請求項12記載の方法。
- 以下の処理工程:
I.インクジェット法を用いる、請求項10記載の光重合性組成物の基材への塗布;
II.基材上に乾燥された光重合性組成物の形成を伴う、塗布された組成物から溶媒の除去;
III.所望ならば、被覆または構造付けされた基材の、光化学線への均一な暴露;そして
IV.所望ならば、熱硬化、および所望ならば、基材上に残留している被覆のUV硬化
を含む、エッチングレジスト像またはソルダーレジスト像の製造方法。 - 実質的に以下:
A)請求項1記載の反応生成物 25〜85重量%、
B)少なくとも2個のエチレン性不飽和末端基を有する、モノマー性またはオリゴマー性アクリラート 5〜40重量%、
C)フリーラジカル、カチオンまたはアニオンを生成し、そして光化学線による活性化が可能な、付加重合開始剤または付加重合開始剤系 1〜25重量%、
D)有機または無機充填剤 0〜60重量%、および
E)熱重合インヒビター 0.025〜1.重量%;
(ここで、成分のパーセント数は、重量の合計に基づいており、条件として重量パーセントの合計は100であり)を含み、
厚さ0.1〜400μmを有する、光重合性層を保持している基材を含む、光重合性要素。 - 光重合性層の厚さが3〜50μmである、請求項15記載の光重合性要素。
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