JP2005226028A - ガス中の硫化カルボニルの除去方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 硫化カルボニルとダストとを含むガスを固体触媒充填層に供給し、硫化カルボニルを硫化水素に変換した後に該硫化水素を脱硫してガス中の硫化カルボニルのを除去するに際し、集塵機によってガス中のダスト濃度を10mg/m3N以下としてから、固体触媒充填層に供給することによってダストによる触媒の被毒を防ぐ。
【選択図】 なし
Description
乾式法には、モレキュラーシーブ、吸着剤を用いる吸着法、吸収剤を用いる吸収法、触媒を用いて硫化カルボニルを加水分解する触媒法等が挙げられる。
COS+H2O → H2S+CO2
しかしながら、石炭ガスの精製のために上記の従来法を適用しても、触媒活性が低下し、安定した操業を行うことができないという問題があった。
(1)少なくとも硫化カルボニルとダストとを含むガスを固体触媒充填層に供給し、硫化カルボニルを硫化水素に変換した後に該硫化水素を脱硫するガス中の硫化カルボニルの除去方法において、該固体触媒充填層のガス入口におけるガス中のダスト濃度を10mg/m3N以下とすることを特徴とするガス中の硫化カルボニルの除去方法。
(2)上記ガスが塩化水素を含有することを特徴とする上記(1)のガス中の硫化カルボニル除去方法
(3)上記固体触媒充填層のガス入口におけるガス中の塩化水素濃度を50ppm以下にすることを特徴とする上記(2)の粗燃料ガスの硫化カルボニル除去方法
(4)上記ダスト濃度を10mg/m3N以下とする手段が湿式電気集塵機であることを特徴とする上記(1)〜(3)のガス中の硫化カルボニルの除去方法。
(5)上記ガスが、廃棄物を溶融ガス化改質処理又は廃棄物の焼却灰を溶融処理した際に発生する粗燃料ガスであることを特徴とする上記(1)〜(4)のガス中の硫化カルボニルの除去方法。
(6)上記ガスが石炭ガス化プロセスから得られた粗燃料ガスである上記(1)〜(4)のガス中の硫化カルボニルの除去方法。
(8)上記固体触媒がアルミナに炭酸カリウムおよび/または炭酸ナトリウムを担持した硫化カルボニルの加水分解用触媒であることを特徴とする上記(7)のガス中の硫化カルボニルの除去方法。
(9)上記固体触媒充填層のガス入口におけるガスの相対湿度が20%以下であることを特徴とする上記(8)のガス中の硫化カルボニル除去方法。
(10)上記固体触媒の温度を該固体触媒の活性度に応じて変化させることを特徴とする上記(6)〜(9)のガス中の硫化カルボニルの除去方法。
(11)上記固体触媒充填層でのガスの空間速度が500〜5000/hで、ガスの温度が40〜250℃であることを特徴とする上記(7)〜(10)のガス中の硫化カルボニルの除去方法。
(12)前記空間速度が500〜2000/hで、前記ガスの温度が80〜120℃であることを特徴とする上記(11)のガス中の硫化カルボニルの除去方法。
(14)少なくとも硫化カルボニルとダストと塩化水素とを含むガス中からの硫化カルボニルの除去装置において、硫化カルボニルを硫化水素に変換する固体触媒充填塔と、該固体触媒充填塔の前に配置された湿式電気集塵機と、該湿式電気集塵機の前に配置された塩化水素除去装置と、該固体触媒充填塔の後ろに配置された硫化水素除去装置とを少なくとも含むガス中の硫化カルボニルの除去装置。
(15)上記塩化水素除去装置と上記湿式電気集塵機との間に硫化水素除去装置を設けたことを特徴とする上記(14)の硫化カルボニル除去装置。
(16)上記湿式電気集塵機と上記固体触媒充填塔の間にガスを加熱する加熱装置を設けたことを特徴とする上記(12)〜(15)の硫化カルボニル除去装置。
(17)上記湿式電気集塵機と上記固体触媒充填塔の間に除湿装置を設けたことを特徴とする上記(12)〜(15)のガス中の硫化カルボニルの除去装置。
1.プレス・脱ガスチャンネル
(1)廃棄物の圧縮、(2)乾燥・熱分解
2.高温反応炉・均質化炉
(3)ガス化溶融、(4)スラグの均質化、(5)ガスの改質
3.ガス精製
(6)ガスの急冷(急冷・酸洗浄、酸洗浄)、(7)ガス精製(アルカリ洗浄、脱硫、除湿)
4.水処理
(8)水処理(沈殿、脱塩等)
5.ガスの利用
(9)ガスの発電利用
都市ごみ等の処理ごみはプレス機で圧縮された後、乾燥熱分解工程で間接加熱により加熱乾留されて高温反応炉内に送られる。高温反応炉の下部にはバーナーが配置され、このバーナーによって炉内に燃料ガスと酸素とが導入され、この酸素ガスが乾留物中の炭素をガス化し、一酸化炭素と二酸化炭素が生成する。また、高温水蒸気が存在する場合には炭素と水蒸気とによる水性ガス化反応が生じて一酸化炭素と水素とが生成される。更に、有機化合物は熱分解して一酸化炭素と水素が生成する。上記の反応の結果、高温反応炉の炉頂部から粗合成ガスが回収される。
高温反応炉から回収される粗合成ガスに対して、冷却塔で循環水を噴射することによってガスの温度を約1200℃から約70℃にまで急速冷却し、ダイオキシン類の再合成を阻止する。
この回収ガスは、鉄キレートによりH2Sについては脱硫されている。しかしCOSが残るため、燃料ガスとしてエンジンを稼働させる場合、排煙SOX規制を遵守する条件として脱COSが必要となる場合がある。
COS+H2O → H2S+CO2
なお、本発明におけるダスト濃度とはJIS Z 8808で測定されるものである。
このため、本発明においては、固体触媒充填層に導入されるガス中の塩化水素濃度を50ppm以下にまで下げることが好ましい。
この方法は、CO含有の工程ガス中に含まれる硫黄化合物(COS,CS2)を選択的に接触加水分解するに際し、工程ガスをH2Oの存在下にアルカリ化酸化クロム−酸化アルミニウム触媒の上に通す選択接触加水分解法である。しかしながら、この方法は、反応温度が100〜350℃でかつ圧力が例えば9.2気圧と高く、設備的、経済的に問題がある。
アルミナと水酸化ナトリウムおよび/または水酸化カリウムからなる触媒を用いた硫化カルボニルの加水分解法である。この方法は、担持物が強塩基性物質であるため、触媒製造時に、アルミナ中に不純物として含まれている酸化ケイ素が溶解し、触媒としての強度低下、崩壊という問題を生じる。
炭酸カリウムおよび/または炭酸ナトリウムをアルミナに担持した触媒を用い、硫化カルボニルを含有するガスを触媒に接触させて硫化カルボニルを加水分解し硫化水素に転化するガス中の硫化カルボニルの除去方法である。本方法は常温に近い温度、かつ常圧付近で硫化カルボニルの除去を行うことができる。
本発明においては前記(3)の炭酸カリウム、炭酸ナトリウムをアルミナに担持した触媒を加水分解用の触媒として用いることが好ましい。
図3に、温度と相対湿度との関係を示す。
これについて更に説明すると、COSの転化反応(COS+H2O→H2S+CO2)はCOS濃度の一次反応で表される。
Ln(CCOS f/CCOS 0)=−km・τ
Ln(1/(1−X))=km/SV …(1)
但し、CCOS :COS濃度
CCOS 0 :入側COS濃度
CCOS f :出側COS濃度
X :脱硫率=(CCOS 0−CCOS f)/CCOS 0
τ :通ガス時間
SV :空間速度(ガス量/触媒量)
km=km0・exp(−Q/R(T−T0)) …(2)
但し、km0:基準の温度での反応定数
Q :活性化エネルギー
R :ガス定数
T :操業温度
T0 :基準温度
また、前述したように、高温反応炉から回収される粗合成ガスは冷却塔で水を噴射することによって急冷され、塩化水素は水に吸収されるが、粗合成ガスは多くの塩化水素を含むため冷却塔の循環液はpH2程度の酸性水となり、このpH2の循環液では塩化水素を十分回収できない。このため、冷却塔でPH2の循環液で冷却した後、酸洗塔などの塩化水素除去装置でガスとpH7の循環液とを接触させることによりガス中の塩化水素を回収する。
塩化水素除去装置として水洗浄方式のものを硫化水素除去装置の前に設けると、安価な水によってガスが洗浄されてHClが水に溶解して除去されると共にガスが冷却され、この冷却されたガスが硫化水素除去装置に供給されるので、脱硫剤が劣化することもない。また、ガス中に含まれるダストは冷却水と接触することにより液相側へ移行するが、ダストは沈殿することにより容易に水と分離でき、水の循環利用が可能である。またHClが溶解した冷却液はガス中の重金属類を溶解するため、ガス中の重金属類も除去できクリーンなガスが得られる。
更に、塩化水素は触媒を被毒するので、これを予め除去しておくことにより、触媒活性の低下を防ぐことができる。
触媒の適正使用温度域が80℃〜120℃であり、また、湿式電気集塵機は通常常温(10〜40℃)で運転することから、湿式電気集塵機の後で、固体触媒充填塔の前にガスを加熱する加熱装置を設け、この加熱装置を用いてガスを80℃以上に昇温して相対湿度を20%以下に抑えることによって、低コストで効率のよいCOSの除去が可能となる。
また、加熱装置に代えて除湿装置を用いることによって相対湿度を20%以下に抑えることもでき、両者を併用することもできる。
図2における(a)〜(e)は本発明の方法を実施するためのフローシートの例を示すものであり、図2の(f)はガス中のダストを除去しない場合のフローシートを示すものである。
(e)は、前記の(b)において、ダスト捕集装置と固体触媒充填塔との間に加熱装置を設けて、ガスの相対湿度を低めることにより、固体触媒充填塔における触媒の水分による被毒を防ぐようにしたものである。
廃棄物ガス化改質処理炉および廃棄物灰溶融炉から得られる燃料ガスについて、ダスト捕集装置と固体触媒充填塔とを連結した装置を用いて試験を行った。ダスト捕集装置としては湿式電気集塵機(サンテクノ(株)製熱分解ガス用湿式電気集塵機(SEW−1−4VL−2型):加湿式2室タテ型湿式電気集塵機 )を用いた。また、ダスト捕集装置を用いなかったものを比較例とした。通ガス時間100時間後における結果を表1に示す。
また、触媒としては、JFEケミカル製KDS−600(COS転化触媒)、平均粒径:2.3−3.3mmφ×3−12mmLを用い、SV:1000/h、ガス量:1000m3N/h、ガス温度:100℃の条件で処理した。
表1の試験番号A01〜A04とA05〜A07との対比、及び試験番号A08〜A11とA12〜A14との対比から明らかなように、固体触媒充填層前での粗ガス中ダスト濃度を10mg/m3N以下にすることにより、固体触媒充填層での圧力損失を0.2kPa以下に抑えることができた。
比較例では、100時間程度の通ガスで固体触媒充填塔の圧力損失が上昇し、1kPa以上となり使用できなくなった。
実施例1において、ダスト捕集装置の前に水洗浄式のHCl除去装置を設け、その洗浄能力を調節して、固体触媒充填層の前での粗ガス中の塩化水素濃度が種々の値となるような条件で試験し、その結果を表2に示す。
表2の試験番号B01〜B05とB06〜B08との対比から明らかなように、固体触媒充填層前での粗ガス中塩化水素濃度を50ppm以下とすることにより、通ガス1000時間後の固体触媒充填層の転化率を80%以上に維持することができる。
実施例1において、ダスト捕集装置として、湿式電気集塵機、乾式電気集塵機、バグフィルターを用いて試験をし、その結果を表3に示した。
湿式電気集塵機を用いた場合には、ダスト捕集装置および固体触媒充填層での圧力損失は小さかった。また、塩化水素も湿式電気集塵機によって除去された。
バグフィルター(C03)を用いた場合には、10時間程度で目詰まりを起しダスト捕集装置での圧力損失が1.0kPa以上になった。
乾式電気集塵機は10時間程度では圧力損失上昇の問題はなかったが、300時間通ガス時、圧力損失が上昇し1.0kPa以上になった。
またバグフィルター、乾式電気集塵機は粗ガス中の塩素除去効果がないため入側ガス中塩素がそのままダスト捕集装置を通過するため固体触媒充填層前での粗ガス中の塩化水素の除去ができなかった。
[実施例4]
脱COS触媒として表4に示される触媒を用いて、表4に示される条件で試験を行い、それぞれの触媒による転化率を評価した。
評価は転化率を下記の基準に基づいて◎、○、△、×で評価した。
◎:SV=3000/hで100時間通ガスした場合の転化率が95%以上
○:SV=3000/hで100時間通ガスした場合の転化率が80%以上
△:SV=3000/hで100時間通ガスした場合の転化率が50%以上
×:SV=3000/hで100時間通ガスした場合の転化率が50%未満
表4には、水分1%以下の40℃、100℃、170℃、200℃、250℃の合成ガスを通ガスして転化率を評価した結果を示した。
上記のように、アルミナ−炭酸カリウム触媒のみが40℃からの低温域で転化率80%以上を示した。
表5に示すように、アルミナ−炭酸カリウム触媒及びアルミナ−酸化クロム触媒ではともに転化率80%以上を示したが、チタン系触媒は50%未満の転化率であった。
表7に示されているように、炭酸カリウムを活性物質としたものが最も除去率が高かった。
SV=3000/h、100℃の合成ガスで相対湿度を5%、10%、15%、20%、25%と変えた場合の転化率を評価し、その結果を表8に示した。表から、相対湿度が20%以下の場合80%以上の転化率を得ることができることがわかる。
触媒を用いたCOSの加水分解反応は経時的に転化率が低下する。
そこで、転化率が低下した時点で通ガス温度を10℃上げる操作を行った。その様子を図4に示す。図4に示すように、転化率が低下した時点で通ガス温度を10℃上げることによって転化率が回復した。
合成ガス温度および空間速度(SV)を変化させた場合の転化率を経過時間、1時間後、100時間後、1000時間後、4320時間後について試験し、その結果を表9〜12に示した。
表9〜12に示された結果から次のことがわかる。
(2)260℃以上の温度域でもいずれも転化率が50%以下である。
(3)通ガス1000時間後の転化率は空間速度が5000/h以下であれば80%の転化率を保持できる(表11参照)。
(4)通ガス4320時間後の転化率は空間速度が2000/h以下であれば80%の転化率を保持できる(表12参照)。
(5)通ガス4320時間後の転化率は空間速度が2000/h以下で、特に80〜120℃の温度域において80%以上の転化率を保持できる(表12参照)。
Claims (17)
- 少なくとも硫化カルボニルとダストとを含むガスを固体触媒充填層に供給し、硫化カルボニルを硫化水素に変換した後に該硫化水素を脱硫するガス中の硫化カルボニルの除去方法において、該固体触媒充填層のガス入口におけるガス中のダスト濃度を10mg/m3N以下とすることを特徴とするガス中の硫化カルボニルの除去方法。
- 上記ガスが塩化水素を含有することを特徴とする請求項1記載のガス中の硫化カルボニル除去方法
- 上記固体触媒充填層のガス入口におけるガス中の塩化水素濃度を50ppm以下にすることを特徴とする請求項2記載の粗燃料ガスの硫化カルボニル除去方法
- 上記ダスト濃度を10mg/m3N以下とする手段が湿式電気集塵機であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のガス中の硫化カルボニルの除去方法。
- 上記ガスが、廃棄物を溶融ガス化改質処理又は廃棄物の焼却灰を溶融処理した際に発生する粗燃料ガスであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のガス中の硫化カルボニルの除去方法。
- 上記ガスが石炭ガス化プロセスから得られた粗燃料ガスであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のガス中の硫化カルボニルの除去方法。
- 上記固体触媒が硫化カルボニルを加水分解するタイプの固体触媒であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のガス中の硫化カルボニルの除去方法。
- 上記固体触媒がアルミナに炭酸カリウムおよび/または炭酸ナトリウムを担持した硫化カルボニルの加水分解用触媒であることを特徴とする請求項7記載のガス中の硫化カルボニルの除去方法。
- 上記固体触媒充填層のガス入口におけるガスの相対湿度が20%以下であることを特徴とする請求項8記載のガスの硫化カルボニル除去方法。
- 上記固体触媒の温度を該固体触媒の活性度に応じて変化させることを特徴とする請求項6〜9のいずれかに記載のガス中の硫化カルボニルの除去方法。
- 上記固体触媒充填層でのガスの空間速度が500〜5000/hで、ガスの温度が40〜250℃であることを特徴とする請求項7〜10のいずれかに記載のガス中の硫化カルボニルの除去方法。
- 前記空間速度が500〜2000/hで、前記ガスの温度が80〜120℃であることを特徴とする請求項11記載のガス中の硫化カルボニルの除去方法。
- 少なくとも硫化カルボニルとダストとを含むガスから硫化カルボニルを除去する硫化カルボニル除去装置において、硫化カルボニルを硫化水素に変換する固体触媒充填塔と、該固体触媒充填塔の前に配置された湿式電気集塵機と、該固体触媒充填塔の後ろに配置された硫化水素除去装置とを少なくとも含むガス中の硫化カルボニルの除去装置。
- 少なくとも硫化カルボニルとダストと塩化水素とを含むガス中からの硫化カルボニルの除去装置において、硫化カルボニルを硫化水素に変換する固体触媒充填塔と、該固体触媒充填塔の前に配置された湿式電気集塵機と、該湿式電気集塵機の前に配置された塩化水素除去装置と、該固体触媒充填塔の後ろに配置された硫化水素除去装置とを少なくとも含むガス中の硫化カルボニルの除去装置。
- 上記塩化水素除去装置と上記湿式電気集塵機との間に硫化水素除去装置を設けたことを特徴とする請求項14記載のガス中の硫化カルボニルの除去装置。
- 上記湿式電気集塵機と上記固体触媒充填塔の間にガスを加熱する加熱装置を設けたことを特徴とする請求項12〜15のいずれかに記載のガス中の硫化カルボニルの除去装置。
- 上記湿式電気集塵機と上記固体触媒充填塔の間に除湿装置を設けたことを特徴とする請求項12〜15のいずれかに記載のガス中の硫化カルボニルの除去装置。
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