JP2005223185A - 静電チャックとその製造方法 - Google Patents
静電チャックとその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005223185A JP2005223185A JP2004030398A JP2004030398A JP2005223185A JP 2005223185 A JP2005223185 A JP 2005223185A JP 2004030398 A JP2004030398 A JP 2004030398A JP 2004030398 A JP2004030398 A JP 2004030398A JP 2005223185 A JP2005223185 A JP 2005223185A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrostatic chuck
- electrodes
- adsorbed
- base material
- dielectric layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】 母材となる基材上に形成された入り組んで対をなした複数の電極間と、前記複数の電極を覆うように形成した誘電体層を備え、前記複数の電極間に電位差を与えた際に不均一電界が形成され、この不均一電界によって被吸着物である電気絶縁性基板がグラディエント力(gradient力)によて吸着される静電チャックにおいて、前記複数の電極の間隔は10μm〜300μmであり、前記複数の電極の間隔は10μm〜300μmであり、前記誘電体層の厚さは3μm〜100μmであることを特徴とする静電チャック。
【選択図】 図2
Description
数の電極間の距離を小さく誘電体層の厚さを薄くし、電極間に電位差を与え誘電体層の吸着面上に不均一電界を形成させることにより、その不均一電界に存在する被処理体である絶縁体は一部分極し、電界強度の強い方向へ引き寄せられるグラディエント力(gradient力)を利用し、電気絶縁性基板であるガラス基板でも吸着できる静電チャックが提案されている。(特許文献1参照)
従来のグラディエント力(gradient力)を利用した静電チャックは、一般的にグリーンシート印刷積層法で製作されている。その製法の一連の流れとしては、アルミナセラミックスのグリーンシートに、タングステンペーストをスクリーン印刷することにより、入り組んで対をなした複数の電極を形成する。その後複数の電極を形成したグリーンシートを埋設するように、グリーンシートを数枚から十数枚加圧積層し、生での成形体を得る。その成形体を所望の形状に切削加工し、還元雰囲気中で焼成することにより、複数の電極が内部に埋設された焼結体を得る。その後、研削や研磨加工を施すことにより、静電チャックとして完成させる。
ところがこの製法では、電極間隔を狭くしていくと、スクリーン印刷時のペーストはみ出しにより、隣り合った電極同士が短絡する問題が発生する。よって、電極間隔として500μm以下を形成するのは、生産技術的にも歩留まり的にも非常に困難であった。
またこの製法では、グリーンシートそのものの厚みばらつきや焼成時に発生する反りにより、誘電体層厚みのばらつきが、数十μm〜百数十μm程度発生する。よって誘電体層厚みを薄くするには限界があり、誘電体層厚みとして300μm以下を形成するのは、同じく生産技術的にも歩留まり的にも非常に困難であった。
これにより、低い印加電圧で、高い吸着力を発現することが可能となる。
ここで言うところの入り組んで対をなした複数の電極とは、直線的に櫛の歯状に並んだものだけでなく、曲線的、もしくは渦巻き状に入り組んだものも指す。
これにより、絶縁耐圧の優れ、かつ硬度が高く平面精度の高い静電チャックを提供することが出来る。
これにより、被吸着体へのパーティクル付着低減や、被吸着体の冷却用ヘリウムガス等を流入することが可能になる。
これにより、低い印加電圧で、高い吸着力を発現することが可能となる。
これにより、低い印加電圧で、より高い吸着力を発現することが可能となる。
ここでいうクーロン力とは電極と導電性を有する被処理体間に電位差を与え誘電体の厚み方向にほぼ均一な電界を形成させることにより被処理体を吸着せしめる力を指し、誘電体の抵抗を下げることによって生じるいわゆるジョンセンラーベック効果による力も含むものとする。
これにより、被吸着体が電気伝導性基板である場合、電気絶縁性基板である場合ともに、低い印加電圧で、高い吸着力を発現することが可能となる。
ここでいうクーロン力とは電極と導電性を有する被処理体間に電位差を与え誘電体の厚み方向にほぼ均一な電界を形成させることにより被処理体を吸着せしめる力を指し、誘電体の抵抗を下げることによって生じるいわゆるジョンセンラーベック効果による力も含むものとする。
これにより、被吸着体が電気伝導性基板である場合、電気絶縁性基板である場合ともに、低い印加電圧で、より高い吸着力を発現することが可能となる。
本発明における静電チャックは、低い印加電圧で高い吸着力を発生するので、2000V以下の印加電圧でも、十分な吸着力を発生できる。
また、電気用品取り扱い法では直流では750V以下、交流では600V以下が低電圧の定義なので、この値以下での印加電圧であれば周辺機器の配線等の取り扱いが簡便化できるので更に好ましい。
これにより、変形の少ない剛性の高い静電チャックを提供することが可能となる。
標準的なセラミック板は、表面にポアが多数存在し、場所によっては開孔径30μm程度のポアも存在する。この表面に、電極幅の狭い電極を形成すると、このポアの影響で電極が断線してしまうことがある。
つまり、あらかじめ緻密な絶縁膜でセラミックス板の表面を被覆しておけば、このような断線は発生しない。
ここで言うところの緻密な絶縁膜とは、表面に存在するポアの最大開孔径が20μm以下の絶縁膜を指し、例えば、グレーズ膜や、後で述べるエアロゾルデポジション法により形成されたセラミックス膜などの無機絶縁膜、ポリイミドなどの有機絶縁膜がある。
母材となる基板を、緻密な絶縁膜で被覆された金属板を用いることにより、金属板内部に流路を形成し、冷却ガスや冷却ガスなどを導入する構造を設けることが容易になる。
これにより、数十μm程度の電極幅の狭い電極を形成しても、断線すること無い静電チャックを提供することが可能となる。
これにより、寸法精度の優れた微細な電極パターンを形成することが可能になる。
これにより、厚みが薄い誘電体層を形成することが可能になる。
これにより、厚みが薄く、かつ絶縁耐圧の優れた誘電体層を形成することが可能になる。
また上記、脆性材料の微粒子をガス中に分散させたエアロゾルをノズルより噴射し、前記エアロゾルを前記基材表面に衝突させ、この衝突の衝撃によって前記微粒子を破砕・変形させて接合させ、前記微粒子の構成材料からなる誘電体層を形成する方法を、以後エアロゾルデポジション法と称す。
(電極の間隔)
本発明において電極の間隔とは、入り組んで対をなした複数の電極の、隣り合う電極の端部から端部までの直線距離を示す。
(電極の幅)
本発明において電極の幅とは、入り組んで対をなした複数の電極の、各電極の端部から端部までの直線距離を示す。
(誘電体層の厚み)
本発明において誘電体層の厚みとは、入り組んで対をなした複数の電極の上端部から、誘電体層の上端部までの直線距離を示す。
(グラディエント力)
本発明においてグラディエント力とは、電極間に不均一電界が形成された場合に生じる力である。
更に詳細に、図7および図8を用いて説明する。図8に示すように、従来の一般的な静電チャックは電極210上に誘電体層220を設け、この誘電体層220の上面に載置した半導体または導電性被吸着物300と電極210との間に電圧を印加することにより、二面間に垂直な方向の均一電界を形成せしめ、その均一電界により生じせしめた分極によるクーロン力及びジョンセン・ラーベック力によって半導体ウェーハなどの半導体または導電性被吸着物300を吸着している。即ち、従来の静電チャックは単極型、双極型であれ、いずれも半導体または導電性被吸着物300と電極210との間に生じるクーロン力及びジョンセン・ラーベック力によって吸着するメカニズムであるので、被吸着物は半導体ウェーハ等の半導体または導電性被吸着物300でなければならず、ガラスなどの電気絶縁性被吸着物290は吸着できない。それに対し図7に示すようにグラディエント力は入り組んで対をなした電極210間に形成される不均一電界を利用するものであり、この不均一電界は電極210間の距離を小さくし、且つ誘電体層220の厚さを薄くすることによって形成される。このグラディエント力は不均一電界に起因して生じるものでる。尚、図8にも示すように、従来の双極型電極にあっても電極210間の隙間にはグラディエント力は発生していると考えられるが、ガラスなどの電気絶縁性被吸着物290を吸着するほど大きな力にはなっていない。グラディエント力によってガラスなどの電気絶縁性被吸着物290を吸着するには誘電体層220の上面の全面に亘ってグラディエント力が発生していること、また当該グラディエント力が大きいことが必要となる。このためには、入り組んで対をなした複数の電極210が設けられ、これら対をなす電極210の間隔が狭いこと、及び電極210から被吸着物290までの距離、つまり誘電体層220の厚さが薄いことが必須要件となる。
突起物の形成方法としては、他に研削加工による凹部形成、エアロゾルデポジション法による凸部形成などがある。突起物の高さとしては、1μm〜20μm程度が望ましく、あまり高くしすぎると吸着力が低下してしまう。
本発明において、この構造物190が、誘電体層220および緻密な絶縁膜に相当する。
120…真空ポンプ
130…ガスボンベ
140…エアロゾル発生器
150…ノズル
160…エアロゾルビーム
170…XYステージ
180…基板
190…構造物
200…電気絶縁性基板
210…電極
220…誘電体層
230…電気伝導性基板
240…電気絶縁性誘電膜
250…突起物
260…電極の幅
270…電極の間隔
280…誘電体層の厚み
290…電気絶縁性被吸着物
300…半導体または導電性被吸着物
310…電気力線
Claims (15)
- 母材となる基材上に形成された入り組んで対をなした複数の電極間と、前記複数の電極を覆うように形成した誘電体層を備え、前記複数の電極間に電位差を与えた際に不均一電界が形成され、この不均一電界によって被吸着物である電気絶縁性基板がグラディエント力(gradient力)によて吸着される静電チャックにおいて、前記複数の電極の間隔は10μm〜300μmであり、前記誘電体層の厚さは3μm〜100μmであることを特徴とする静電チャック。
- 前記誘電体層は、セラミックスであることを特徴とする請求項1に記載の静電チャック。
- 前記誘電体層表面に突起構造を形成したことを特徴とする請求項1〜2に記載の静電チャック。
- 前記複数の電極に電圧を印加することにより、被吸着体が電気絶縁性基板の場合は主にグラディエント力により吸着をすることを特徴とする静電チャックであって、前記複数の電極の幅が10μm〜300μmであることを特徴とする請求項1〜3に記載の静電チャック。
- 前記複数の電極に電圧を印加することにより、被吸着体が電気絶縁性基板の場合は主にグラディエント力により吸着をすることを特徴とする静電チャックであって、前記複数の電極の幅が10μm〜150μmであることを特徴とする請求項1〜3に記載の静電チャック。
- 前記複数の電極に電圧を印加することにより、被吸着体が電気伝導性基板の場合はクーロン力またはジョンセンラーベック力により吸着し、被吸着体が電気絶縁性基板の場合は主にグラディエント力により吸着をすることを特徴とする静電チャックであって、前記複数の電極の幅が300μm〜2000μmであることを特徴とする請求項1〜3に記載の静電チャック。
- 前記複数の電極に電圧を印加することにより、被吸着体が電気伝導性基板の場合はクーロン力またはジョンセンラーベック力により吸着し、被吸着体が電気絶縁性基板の場合は主にグラディエント力により吸着をすることを特徴とする静電チャックであって、前記複数の電極の幅が1000μm〜2000μmであることを特徴とする請求項1〜3に記載の静電チャック。
- 前記対をなす複数の電極に印加する電圧は、20V〜2000Vであることを特徴とする請求項1〜7に記載の静電チャック。
- 前記母材となる基材は、セラミックス板またはガラス板であることを特徴とする請求項1〜8に記載の静電チャック。
- 前記母材となる基材は、緻密な絶縁膜で被覆されたセラミックス板であることを特徴とする請求項1〜8に記載の静電チャック。
- 前記母材となる基材は、緻密な絶縁膜で被覆された金属板であることを特徴とする請求項1〜8に記載の静電チャック。
- 前記母材となる基材の、前記対をなす複数の電極を形成する面側表面に存在するポアの最大開孔径が、10μm以下であることを特徴とする請求項1〜8に記載の静電チャック。
- 前記複数の電極は、前記母材となる基材上に、予め金属材料または導電性セラミックスなどの電気伝導性材料をPVD、またはCVD、スパッタ、イオンプレーティング、メッキにより膜付けした後、ショットブラスト、またはエッチング処理によりパターン形成されることを特徴とする請求項1〜12に記載の静電チャック。
- 前記誘電体層は、セラミックスまたはガラスなどの無機絶縁材料、ポリイミドなどの有機絶縁材料を、PVD、またはCVD、スパッタ、イオンプレーティング、溶射により形成されたことを特徴とする請求項1〜13に記載の静電チャック。
- 前記誘電体層は、脆性材料の微粒子をガス中に分散させたエアロゾルをノズルより噴射し、前記エアロゾルを前記基材表面に衝突させ、この衝突の衝撃によって前記微粒子を破砕・変形させて接合させ、前記微粒子の構成材料からなる誘電体層を形成するエアロゾルデポジション法により形成したことを特徴とする請求項1〜14に記載の静電チャック。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004030398A JP2005223185A (ja) | 2004-02-06 | 2004-02-06 | 静電チャックとその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004030398A JP2005223185A (ja) | 2004-02-06 | 2004-02-06 | 静電チャックとその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005223185A true JP2005223185A (ja) | 2005-08-18 |
Family
ID=34998565
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004030398A Pending JP2005223185A (ja) | 2004-02-06 | 2004-02-06 | 静電チャックとその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005223185A (ja) |
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007053152A (ja) * | 2005-08-16 | 2007-03-01 | Ulvac Japan Ltd | 吸着装置、真空処理装置 |
JP2007059694A (ja) * | 2005-08-25 | 2007-03-08 | Ulvac Japan Ltd | 吸着装置、その製造方法、真空処理装置 |
JP2007073892A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Ulvac Japan Ltd | 吸着装置、貼り合わせ装置、封着方法 |
JP2007109827A (ja) * | 2005-10-12 | 2007-04-26 | Toto Ltd | 静電チャック |
JP2008037498A (ja) * | 2006-07-11 | 2008-02-21 | Kirin Brewery Co Ltd | プラスチックキャップ及びそれで密封された製品又は容器 |
JP2008141102A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Toto Ltd | 静電機能部材とその製造方法 |
JP2008160009A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 双極型静電チャック装置 |
JP2009105162A (ja) * | 2007-10-22 | 2009-05-14 | Toshiba Mach Co Ltd | 静電チャック装置および静電チャック装置の製造方法 |
JP2009141220A (ja) * | 2007-12-07 | 2009-06-25 | Taiheiyo Cement Corp | 静電チャック |
WO2010087345A1 (ja) * | 2009-01-28 | 2010-08-05 | 旭硝子株式会社 | Euvリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法 |
JP2011181940A (ja) * | 2011-04-13 | 2011-09-15 | Ulvac Japan Ltd | 吸着装置の製造方法 |
KR101071248B1 (ko) * | 2008-12-31 | 2011-10-10 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 정전척 및 정전척의 제조방법 |
JP2012044200A (ja) * | 2011-10-05 | 2012-03-01 | Ulvac Japan Ltd | 吸着装置 |
KR101403328B1 (ko) * | 2007-02-16 | 2014-06-05 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 돌기 모양의 전극 패턴을 가지는 바이폴라 정전척 및 이를이용한 기판 처리 방법 |
KR20200089614A (ko) | 2019-01-17 | 2020-07-27 | 신꼬오덴기 고교 가부시키가이샤 | 세라믹 부재 |
JP2020124867A (ja) * | 2019-02-05 | 2020-08-20 | 新光電気工業株式会社 | 複合グリーンシート、セラミック部材、複合グリーンシートの製造方法及びセラミック部材の製造方法 |
CN111725125A (zh) * | 2020-06-11 | 2020-09-29 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种微阵列吸附基板、驱动电路以及显示装置 |
CN111806589A (zh) * | 2020-07-31 | 2020-10-23 | 苏州荣坤智能机器科技有限公司 | 一种基于电磁吸附的爬壁机器人足垫 |
JP2021064657A (ja) * | 2019-10-11 | 2021-04-22 | 日本特殊陶業株式会社 | 静電チャック |
CN114347457A (zh) * | 2021-12-28 | 2022-04-15 | 广州国显科技有限公司 | 贴附系统及贴附方法 |
WO2023191999A1 (en) * | 2022-04-01 | 2023-10-05 | Applied Materials, Inc. | Ceramic engineering by grading materials |
JP7496486B2 (ja) | 2020-03-03 | 2024-06-07 | 日本特殊陶業株式会社 | 静電チャック |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02288352A (ja) * | 1989-04-10 | 1990-11-28 | Applied Materials Inc | ウェーハを絶縁されたブレードにより静電的にクランプする方法 |
JPH0434953A (ja) * | 1990-05-30 | 1992-02-05 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 静電チャック板 |
JPH0647642A (ja) * | 1992-01-21 | 1994-02-22 | Applied Materials Inc | 絶縁型静電チャックと励起方法 |
JPH10107132A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-04-24 | Kyocera Corp | 静電チャック |
JPH10150100A (ja) * | 1996-09-19 | 1998-06-02 | Hitachi Ltd | 静電チャックとそれを用いた試料処理方法及び装置 |
JPH10242256A (ja) * | 1997-02-26 | 1998-09-11 | Kyocera Corp | 静電チャック |
JP2003273194A (ja) * | 2002-03-19 | 2003-09-26 | Toto Ltd | 静電チャック |
JP2004031502A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Ulvac Japan Ltd | 静電吸着装置及びこれを用いた真空処理装置 |
-
2004
- 2004-02-06 JP JP2004030398A patent/JP2005223185A/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02288352A (ja) * | 1989-04-10 | 1990-11-28 | Applied Materials Inc | ウェーハを絶縁されたブレードにより静電的にクランプする方法 |
JPH0434953A (ja) * | 1990-05-30 | 1992-02-05 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 静電チャック板 |
JPH0647642A (ja) * | 1992-01-21 | 1994-02-22 | Applied Materials Inc | 絶縁型静電チャックと励起方法 |
JPH10150100A (ja) * | 1996-09-19 | 1998-06-02 | Hitachi Ltd | 静電チャックとそれを用いた試料処理方法及び装置 |
JPH10107132A (ja) * | 1996-09-30 | 1998-04-24 | Kyocera Corp | 静電チャック |
JPH10242256A (ja) * | 1997-02-26 | 1998-09-11 | Kyocera Corp | 静電チャック |
JP2003273194A (ja) * | 2002-03-19 | 2003-09-26 | Toto Ltd | 静電チャック |
JP2004031502A (ja) * | 2002-06-24 | 2004-01-29 | Ulvac Japan Ltd | 静電吸着装置及びこれを用いた真空処理装置 |
Cited By (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4522926B2 (ja) * | 2005-08-16 | 2010-08-11 | 株式会社アルバック | 吸着装置の製造方法 |
JP2007053152A (ja) * | 2005-08-16 | 2007-03-01 | Ulvac Japan Ltd | 吸着装置、真空処理装置 |
JP2007059694A (ja) * | 2005-08-25 | 2007-03-08 | Ulvac Japan Ltd | 吸着装置、その製造方法、真空処理装置 |
JP4763380B2 (ja) * | 2005-08-25 | 2011-08-31 | 株式会社アルバック | 吸着装置の製造方法 |
JP2007073892A (ja) * | 2005-09-09 | 2007-03-22 | Ulvac Japan Ltd | 吸着装置、貼り合わせ装置、封着方法 |
JP2007109827A (ja) * | 2005-10-12 | 2007-04-26 | Toto Ltd | 静電チャック |
JP2008037498A (ja) * | 2006-07-11 | 2008-02-21 | Kirin Brewery Co Ltd | プラスチックキャップ及びそれで密封された製品又は容器 |
JP2008141102A (ja) * | 2006-12-05 | 2008-06-19 | Toto Ltd | 静電機能部材とその製造方法 |
JP2008160009A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Tomoegawa Paper Co Ltd | 双極型静電チャック装置 |
KR101403328B1 (ko) * | 2007-02-16 | 2014-06-05 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 돌기 모양의 전극 패턴을 가지는 바이폴라 정전척 및 이를이용한 기판 처리 방법 |
JP2009105162A (ja) * | 2007-10-22 | 2009-05-14 | Toshiba Mach Co Ltd | 静電チャック装置および静電チャック装置の製造方法 |
JP2009141220A (ja) * | 2007-12-07 | 2009-06-25 | Taiheiyo Cement Corp | 静電チャック |
KR101071248B1 (ko) * | 2008-12-31 | 2011-10-10 | 엘아이지에이디피 주식회사 | 정전척 및 정전척의 제조방법 |
CN102292807A (zh) * | 2009-01-28 | 2011-12-21 | 旭硝子株式会社 | Euv光刻用反射型掩模基板的制造方法 |
JPWO2010087345A1 (ja) * | 2009-01-28 | 2012-08-02 | 旭硝子株式会社 | Euvリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法 |
WO2010087345A1 (ja) * | 2009-01-28 | 2010-08-05 | 旭硝子株式会社 | Euvリソグラフィ用反射型マスクブランクの製造方法 |
JP2011181940A (ja) * | 2011-04-13 | 2011-09-15 | Ulvac Japan Ltd | 吸着装置の製造方法 |
JP2012044200A (ja) * | 2011-10-05 | 2012-03-01 | Ulvac Japan Ltd | 吸着装置 |
US11370709B2 (en) | 2019-01-17 | 2022-06-28 | Shinko Electric Industries Co., Ltd. | Ceramic member |
KR20200089614A (ko) | 2019-01-17 | 2020-07-27 | 신꼬오덴기 고교 가부시키가이샤 | 세라믹 부재 |
JP2020114789A (ja) * | 2019-01-17 | 2020-07-30 | 新光電気工業株式会社 | セラミック部材及びその製造方法 |
JP7378210B2 (ja) | 2019-01-17 | 2023-11-13 | 新光電気工業株式会社 | セラミック部材の製造方法 |
JP2020124867A (ja) * | 2019-02-05 | 2020-08-20 | 新光電気工業株式会社 | 複合グリーンシート、セラミック部材、複合グリーンシートの製造方法及びセラミック部材の製造方法 |
JP7316181B2 (ja) | 2019-10-11 | 2023-07-27 | 日本特殊陶業株式会社 | 静電チャック |
JP2021064657A (ja) * | 2019-10-11 | 2021-04-22 | 日本特殊陶業株式会社 | 静電チャック |
JP7496486B2 (ja) | 2020-03-03 | 2024-06-07 | 日本特殊陶業株式会社 | 静電チャック |
CN111725125A (zh) * | 2020-06-11 | 2020-09-29 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种微阵列吸附基板、驱动电路以及显示装置 |
CN111806589A (zh) * | 2020-07-31 | 2020-10-23 | 苏州荣坤智能机器科技有限公司 | 一种基于电磁吸附的爬壁机器人足垫 |
CN111806589B (zh) * | 2020-07-31 | 2023-12-22 | 苏州荣坤智能机器科技有限公司 | 一种基于电磁吸附的爬壁机器人足垫 |
CN114347457A (zh) * | 2021-12-28 | 2022-04-15 | 广州国显科技有限公司 | 贴附系统及贴附方法 |
WO2023191999A1 (en) * | 2022-04-01 | 2023-10-05 | Applied Materials, Inc. | Ceramic engineering by grading materials |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2005223185A (ja) | 静電チャックとその製造方法 | |
KR100511854B1 (ko) | 정전 흡착 장치 | |
JP4418032B2 (ja) | 静電チャック | |
CN101405857B (zh) | 承载基片的装置和方法 | |
US9025305B2 (en) | High surface resistivity electrostatic chuck | |
JP5361119B2 (ja) | サセプタの粗面化による静電荷の削減 | |
WO2000072376A1 (fr) | Mandrin electrostatique et dispositif de traitement | |
CN102237292B (zh) | 具有间隔物的静电吸盘 | |
JPH04186653A (ja) | 静電チャック | |
JP2006332204A (ja) | 静電チャック | |
JP4010541B2 (ja) | 静電吸着装置 | |
KR101066798B1 (ko) | 정전척, 기판 지지대, 챔버 및 그 제조 방법 | |
KR101109743B1 (ko) | 대면적 조합형 정전척 및 그 제조방법 | |
JP2007109827A (ja) | 静電チャック | |
CN104241183A (zh) | 静电吸盘的制造方法,静电吸盘及等离子体处理装置 | |
JP2006066857A (ja) | 双極型静電チャック | |
KR20100090559A (ko) | 에어로졸 코팅층을 갖는 정전척 및 그 제조방법 | |
JP5279455B2 (ja) | 静電チャック | |
KR101605704B1 (ko) | 대면적 바이폴라 정전척의 제조방법 및 이에 의해 제조된 대면적 바이폴라 정전척 | |
JP4879771B2 (ja) | 静電チャック | |
JP2006157032A (ja) | 静電チャック、静電吸着方法、加熱冷却処理装置、静電吸着処理装置 | |
JP2006253703A (ja) | 静電チャック及び絶縁性基板静電吸着処理方法 | |
JP3964803B2 (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP4676098B2 (ja) | 吸着装置 | |
JP2006049357A (ja) | 静電チャックおよび静電チャックを搭載した装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050916 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090520 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090525 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090721 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20090721 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100204 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100601 |