JP2005215323A - ファブリペローフィルタ - Google Patents
ファブリペローフィルタ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005215323A JP2005215323A JP2004021882A JP2004021882A JP2005215323A JP 2005215323 A JP2005215323 A JP 2005215323A JP 2004021882 A JP2004021882 A JP 2004021882A JP 2004021882 A JP2004021882 A JP 2004021882A JP 2005215323 A JP2005215323 A JP 2005215323A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- fabry
- movable mirror
- perot filter
- mirror
- gap
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 29
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 16
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 9
- 239000013013 elastic material Substances 0.000 claims description 8
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 5
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 abstract description 9
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 19
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 16
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 13
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 8
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- 239000012466 permeate Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
- G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
- G01J3/12—Generating the spectrum; Monochromators
- G01J3/26—Generating the spectrum; Monochromators using multiple reflection, e.g. Fabry-Perot interferometer, variable interference filters
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/001—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements based on interference in an adjustable optical cavity
Abstract
【解決手段】 基板10と、基板10上に設けられた固定鏡13と、当該固定鏡13に対し、所定のギャップを有して対向配置された可動鏡15とを備え、固定鏡13に設けられた電極と可動鏡15に設けられた電極との間に所定電圧を印加し、可動鏡15を変位させることによりギャップを変化させ、ギャップに対応する所望波長の赤外線を選択的に透過させるファブリペローフィルタ100において、可動鏡15の周辺部を当該周辺部に囲まれる中央部よりも変形しやすく形成した。これにより、可動鏡15変位時に中央部の変形が抑えられ、変位時における可動鏡15と固定鏡13との間のギャップが従来よりも均一となる。すなわち、ファブリペローフィルタ100を透過する赤外線の透過波長を、従来よりも狭帯域化することができる。
【選択図】 図1
Description
図1は、本実施形態におけるファブリペローフィルタの概略構成を示す断面図であり、(a)は電圧が印加されない状態(可動鏡変位前)を示す図、(b)は電圧が印加された状態(可動鏡変位後)を示す図である。
12・・・絶縁膜
13・・・固定鏡
14・・・酸化シリコン膜
15・・・可動鏡
16・・・空洞部
17・・・保護膜
19・・・補強膜
20・・・溝部
100・・・ファブリペローフィルタ
200・・・赤外線光源
300・・・赤外線センサ
400・・・赤外線検知式ガスセンサ(ガスセンサ)
Claims (8)
- 基板と、
前記基板上に設けられた固定鏡と、
当該固定鏡に対し、所定のギャップを有して対向配置された可動鏡とを備え、
前記固定鏡に設けられた電極と前記可動鏡に設けられた電極との間に所定の電圧を印加し、前記可動鏡を変位させることにより前記ギャップを変化させ、前記ギャップに対応する所望波長の赤外線を選択的に透過させるファブリペローフィルタにおいて、
前記可動鏡の周辺部が、当該周辺部に囲まれる中央部よりも変形しやすく形成されていることを特徴とするファブリペローフィルタ。 - 前記周辺部は、前記中央部よりも薄肉とされていることを特徴とする請求項1に記載のファブリペローフィルタ。
- 前記可動鏡は、前記中央部の上面に、前記可動鏡を構成する材料とは異なる材料からなる補強膜を有することを特徴とする請求項2に記載のファブリペローフィルタ。
- 前記補強膜は、前記可動鏡の構成材料よりも高い弾性を有する高弾性材料からなることを特徴とする請求項3に記載のファブリペローフィルタ。
- 前記高弾性材料として、ダイヤモンドライクカーボンが適用されることを特徴とする請求項4に記載のファブリペローフィルタ。
- 前記可動鏡は、前記周辺部に薄肉部としての溝部を有することを特徴とする請求項2〜5いずれか1項に記載のファブリペローフィルタ。
- 前記基板は半導体基板であり、
前記固定鏡は、絶縁層を介して、前記半導体基板上に設けられていることを特徴とする請求項1〜6いずれか1項に記載のファブリペローフィルタ。 - 前記ファブリペローフィルタは、赤外線を放射する赤外線光源と赤外線を検出する赤外線センサとを備える赤外線検知式ガスセンサにおいて、波長選択フィルタとして適用されることを特徴とする請求項1〜7いずれか1項に記載のファブリペローフィルタ。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004021882A JP4166712B2 (ja) | 2004-01-29 | 2004-01-29 | ファブリペローフィルタ |
US11/007,277 US7154094B2 (en) | 2004-01-29 | 2004-12-09 | Fabri-Perot filter |
DE102005001266.3A DE102005001266B4 (de) | 2004-01-29 | 2005-01-11 | Fabri-Perot-Filter |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004021882A JP4166712B2 (ja) | 2004-01-29 | 2004-01-29 | ファブリペローフィルタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005215323A true JP2005215323A (ja) | 2005-08-11 |
JP4166712B2 JP4166712B2 (ja) | 2008-10-15 |
Family
ID=34805640
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004021882A Expired - Fee Related JP4166712B2 (ja) | 2004-01-29 | 2004-01-29 | ファブリペローフィルタ |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7154094B2 (ja) |
JP (1) | JP4166712B2 (ja) |
DE (1) | DE102005001266B4 (ja) |
Cited By (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008070163A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Denso Corp | 赤外線式ガス検出器 |
JP2010002776A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Canon Electronics Inc | マイクロミラーデバイス、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2010539464A (ja) * | 2007-09-14 | 2010-12-16 | カスケード テクノロジーズ リミテッド | 分光偏光ハイパースペクトル撮像装置 |
JP2011028119A (ja) * | 2009-07-28 | 2011-02-10 | Denso Corp | ファブリペロー干渉計 |
JP2013068959A (ja) * | 2005-08-19 | 2013-04-18 | Qualcomm Mems Technologies Inc | 応力に起因する変形を最小限に抑えるように構成された支持構造を有するmemsデバイス、およびその製造方法 |
JP2013516654A (ja) * | 2010-01-08 | 2013-05-13 | クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | パターニングされた機械層を有する干渉画素 |
JP2013524287A (ja) * | 2010-04-09 | 2013-06-17 | クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | 電気機械デバイスの機械層及びその形成方法 |
JP2013167701A (ja) * | 2012-02-14 | 2013-08-29 | Seiko Epson Corp | 光学フィルターデバイス、及び光学フィルターデバイスの製造方法 |
JP2013222122A (ja) * | 2012-04-18 | 2013-10-28 | Seiko Epson Corp | 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器 |
JP2014522510A (ja) * | 2011-06-06 | 2014-09-04 | テクノロジアン タトキマスケスクス ヴィーティーティー | 調整可能なマイクロメカニカルファブリー・ペローの干渉計およびその製造方法 |
JP2015004886A (ja) * | 2013-06-21 | 2015-01-08 | 株式会社デンソー | ファブリペローフィルタ、それを備えたファブリペロー干渉計、および、ファブリペローフィルタの製造方法 |
US8963159B2 (en) | 2011-04-04 | 2015-02-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Pixel via and methods of forming the same |
US9128279B2 (en) | 2010-08-25 | 2015-09-08 | Seiko Epson Corporation | Wavelength-tunable interference filter, optical module, and optical analysis apparatus |
US9134527B2 (en) | 2011-04-04 | 2015-09-15 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Pixel via and methods of forming the same |
RU2572523C1 (ru) * | 2014-09-18 | 2016-01-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский государственный универститет геоситем и технологий" (СГУГиТ) | Устройство электрически управляемого оптического прибора и способ его изготовления |
JP2017022291A (ja) * | 2015-07-13 | 2017-01-26 | キヤノン株式会社 | 面発光レーザ、情報取得装置及び撮像装置 |
JP2017022290A (ja) * | 2015-07-13 | 2017-01-26 | キヤノン株式会社 | 面発光レーザ、情報取得装置及び撮像装置 |
US9557554B2 (en) | 2010-08-25 | 2017-01-31 | Seiko Epson Corporation | Wavelength-variable interference filter, optical module, and optical analysis device |
JPWO2017203949A1 (ja) * | 2016-05-27 | 2019-03-22 | 浜松ホトニクス株式会社 | ファブリペロー干渉フィルタ、及びファブリペロー干渉フィルタの製造方法 |
JP2019045598A (ja) * | 2017-08-31 | 2019-03-22 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変光フィルター、光学モジュールおよび電子機器 |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101229021B1 (ko) * | 2006-06-20 | 2013-02-01 | 엘지디스플레이 주식회사 | 확대된 영상을 표시하는 영상표시장치 및 이를 이용한 영상표시방법 |
WO2010118749A1 (en) * | 2009-04-17 | 2010-10-21 | Danfoss Ixa A/S | Gas sensor with filtering sight glass |
KR20160124372A (ko) * | 2015-04-17 | 2016-10-27 | 삼성디스플레이 주식회사 | 터치 패널 |
FI128447B (en) * | 2016-04-26 | 2020-05-15 | Teknologian Tutkimuskeskus Vtt Oy | Apparatus associated with analysis of thin film layers and method of making them |
US11054560B2 (en) * | 2016-07-11 | 2021-07-06 | Hamamatsu Photonics K.K | Fabry-Perot interference filter and light-detecting device |
FI128101B (fi) * | 2017-07-03 | 2019-09-30 | Teknologian Tutkimuskeskus Vtt Oy | Mikrosysteemi (MEMS) Fabry–Perot-interferometri, laitteisto ja menetelmä Fabry–Perot-interferometrin valmistamiseksi |
US11460607B2 (en) * | 2018-07-05 | 2022-10-04 | The Johns Hopkins University | Dynamic filter comprising a first and second metasurface for spectral sensing and emitting systems |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FI98325C (fi) * | 1994-07-07 | 1997-05-26 | Vaisala Oy | Selektiivinen infrapunadetektori |
US5629951A (en) * | 1995-10-13 | 1997-05-13 | Chang-Hasnain; Constance J. | Electrostatically-controlled cantilever apparatus for continuous tuning of the resonance wavelength of a fabry-perot cavity |
FR2768812B1 (fr) * | 1997-09-19 | 1999-10-22 | Commissariat Energie Atomique | Interferometre fabry-perot accordable integre |
US6813291B2 (en) * | 1998-06-26 | 2004-11-02 | Coretek Inc | Tunable fabry-perot filter and tunable vertical cavity surface emitting laser |
US6590710B2 (en) | 2000-02-18 | 2003-07-08 | Yokogawa Electric Corporation | Fabry-Perot filter, wavelength-selective infrared detector and infrared gas analyzer using the filter and detector |
US20030209669A1 (en) * | 2002-05-09 | 2003-11-13 | Chou Bruce C. S. | Miniaturized infrared gas analyzing apparatus |
DE10226305C1 (de) | 2002-06-13 | 2003-10-30 | Infratec Gmbh Infrarotsensorik | Durchstimmbares, schmalbandiges Bandpassfilter für die Infrarot-Messtechnik |
US7378655B2 (en) * | 2003-04-11 | 2008-05-27 | California Institute Of Technology | Apparatus and method for sensing electromagnetic radiation using a tunable device |
-
2004
- 2004-01-29 JP JP2004021882A patent/JP4166712B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2004-12-09 US US11/007,277 patent/US7154094B2/en active Active
-
2005
- 2005-01-11 DE DE102005001266.3A patent/DE102005001266B4/de not_active Expired - Fee Related
Cited By (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013068959A (ja) * | 2005-08-19 | 2013-04-18 | Qualcomm Mems Technologies Inc | 応力に起因する変形を最小限に抑えるように構成された支持構造を有するmemsデバイス、およびその製造方法 |
JP2008070163A (ja) * | 2006-09-12 | 2008-03-27 | Denso Corp | 赤外線式ガス検出器 |
JP2010539464A (ja) * | 2007-09-14 | 2010-12-16 | カスケード テクノロジーズ リミテッド | 分光偏光ハイパースペクトル撮像装置 |
JP2010002776A (ja) * | 2008-06-20 | 2010-01-07 | Canon Electronics Inc | マイクロミラーデバイス、光走査装置及び画像形成装置 |
JP2011028119A (ja) * | 2009-07-28 | 2011-02-10 | Denso Corp | ファブリペロー干渉計 |
JP2013516654A (ja) * | 2010-01-08 | 2013-05-13 | クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | パターニングされた機械層を有する干渉画素 |
JP2013524287A (ja) * | 2010-04-09 | 2013-06-17 | クォルコム・メムズ・テクノロジーズ・インコーポレーテッド | 電気機械デバイスの機械層及びその形成方法 |
US8817357B2 (en) | 2010-04-09 | 2014-08-26 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Mechanical layer and methods of forming the same |
US9557554B2 (en) | 2010-08-25 | 2017-01-31 | Seiko Epson Corporation | Wavelength-variable interference filter, optical module, and optical analysis device |
US9128279B2 (en) | 2010-08-25 | 2015-09-08 | Seiko Epson Corporation | Wavelength-tunable interference filter, optical module, and optical analysis apparatus |
US8963159B2 (en) | 2011-04-04 | 2015-02-24 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Pixel via and methods of forming the same |
US9134527B2 (en) | 2011-04-04 | 2015-09-15 | Qualcomm Mems Technologies, Inc. | Pixel via and methods of forming the same |
JP2014522510A (ja) * | 2011-06-06 | 2014-09-04 | テクノロジアン タトキマスケスクス ヴィーティーティー | 調整可能なマイクロメカニカルファブリー・ペローの干渉計およびその製造方法 |
JP2013167701A (ja) * | 2012-02-14 | 2013-08-29 | Seiko Epson Corp | 光学フィルターデバイス、及び光学フィルターデバイスの製造方法 |
JP2013222122A (ja) * | 2012-04-18 | 2013-10-28 | Seiko Epson Corp | 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器 |
JP2015004886A (ja) * | 2013-06-21 | 2015-01-08 | 株式会社デンソー | ファブリペローフィルタ、それを備えたファブリペロー干渉計、および、ファブリペローフィルタの製造方法 |
RU2572523C1 (ru) * | 2014-09-18 | 2016-01-20 | Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего образования "Сибирский государственный универститет геоситем и технологий" (СГУГиТ) | Устройство электрически управляемого оптического прибора и способ его изготовления |
JP2017022291A (ja) * | 2015-07-13 | 2017-01-26 | キヤノン株式会社 | 面発光レーザ、情報取得装置及び撮像装置 |
JP2017022290A (ja) * | 2015-07-13 | 2017-01-26 | キヤノン株式会社 | 面発光レーザ、情報取得装置及び撮像装置 |
JPWO2017203949A1 (ja) * | 2016-05-27 | 2019-03-22 | 浜松ホトニクス株式会社 | ファブリペロー干渉フィルタ、及びファブリペロー干渉フィルタの製造方法 |
JP2019045598A (ja) * | 2017-08-31 | 2019-03-22 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変光フィルター、光学モジュールおよび電子機器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE102005001266A1 (de) | 2005-08-18 |
JP4166712B2 (ja) | 2008-10-15 |
US7154094B2 (en) | 2006-12-26 |
DE102005001266B4 (de) | 2019-12-24 |
US20050167597A1 (en) | 2005-08-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4166712B2 (ja) | ファブリペローフィルタ | |
JP5369515B2 (ja) | 光フィルタとその製造方法及び光学フィルタ装置モジュール | |
JP4603489B2 (ja) | 波長可変フィルタ | |
TWI292057B (en) | Tunable filter and method of manufacturing the same, and sensing device | |
JP3786106B2 (ja) | 波長可変光フィルタ及びその製造方法 | |
JP6356427B2 (ja) | ファブリペロー干渉フィルタ | |
CN109870255B (zh) | 法珀传感器及其制造方法 | |
US8559111B2 (en) | Interference filter having adhesive and warp reduction grooves | |
JP2006208791A (ja) | 波長可変フィルタおよび波長可変フィルタの製造方法 | |
JP2008116669A (ja) | 光学デバイス、光学デバイスの製造方法、波長可変フィルタ、波長可変フィルタモジュール、および光スペクトラムアナライザ | |
JP2005250376A (ja) | 光変調器及び光変調器の製造方法 | |
JP2011150108A (ja) | 光フィルター、特性測定方法、分析機器、および光機器 | |
WO2015002028A1 (ja) | ファブリペロー干渉フィルタ | |
US20120086945A1 (en) | Tunable interference filter, optical module, photometric analyzer, and manufacturing method of tunable interference filter | |
WO2018203495A1 (ja) | 光計測制御プログラム、光計測システム及び光計測方法 | |
JP5783139B2 (ja) | ファブリペロー干渉計 | |
JP2008242044A (ja) | 可変形状ミラー装置 | |
US20080217728A1 (en) | Fusion bonding process and structure for fabricating silicon-on-insulator (SOI) semiconductor devices | |
JP2009031197A (ja) | 赤外線検出素子およびその製造方法 | |
JP2010190618A (ja) | 波長選択型赤外線検出器 | |
US20120132349A1 (en) | Method for producing tunable interference filter | |
JP2005024825A (ja) | 干渉フィルタ、波長可変干渉フィルタ及びそれらの製造方法 | |
US20180188172A1 (en) | Gas analysis apparatus | |
JP2015206846A (ja) | ファブリペロー干渉計 | |
JP4479351B2 (ja) | 波長可変フィルタおよび波長可変フィルタの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060320 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080421 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080507 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080701 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080729 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080730 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4166712 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110808 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120808 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130808 Year of fee payment: 5 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |