JP2015004886A - ファブリペローフィルタ、それを備えたファブリペロー干渉計、および、ファブリペローフィルタの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】このファブリペローフィルタは、基板上に形成された下側ミラーと、下側ミラー上に部分的に形成されたスペーサ層と、スペーサ層に支持されつつ下側ミラー上に形成された上側ミラーと、を有する。
また、上側ミラーおよび下側ミラーは、それぞれ、第1屈折率を有する第1高屈折率膜および第2高屈折率膜と、第1屈折率よりも小さい第2屈折率を有する低屈折率層と、を有し、第1高屈折率膜および第2高屈折率膜が、低屈折率層を挟んで互いに対向して配置された光学多層膜ミラーである。
そして、スペーサ層が、第1高屈折率膜および第2高屈折率膜と同一の材料より成る。
【選択図】図1
Description
最初に、図1を参照して、本実施形態に係るファブリペローフィルタの概略構成について説明する。
第1実施形態に係るファブリペローフィルタ10は、上側ミラー20bを可動ミラーとしてファブリペロー干渉計として利用することができる。すなわち、上側ミラー20bのうち、スペーサ層30に架橋された部分がメンブレンとして可動する。これにより、上側ミラー20bと下側ミラー20aの対向距離が変動し、空隙AGにおいて干渉して強め合う光の波長を変化させることができる。つまり、ファブリペローフィルタ10を透過する光の波長を変化させることができる。
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上述した実施形態になんら制限されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々変形して実施することが可能である。
20a・・・下側ミラー,20b・・・上側ミラー
21a,21b・・・第1高屈折率膜
22a,22b・・・第2高屈折率膜
23a,23b・・・低屈折率層
24a,24b・・・第1貫通孔
25・・・第2貫通孔
100・・・基板
110・・・絶縁膜
AG・・・空隙
Claims (7)
- 基板(100)と、該基板上に形成された下側ミラー(20a)と、該下側ミラー上に部分的に形成されたスペーサ層(30)と、該スペーサ層に支持されつつ前記下側ミラー上に形成された上側ミラー(20b)と、を備え、
前記上側ミラーおよび前記下側ミラーは、それぞれ、
第1屈折率を有する第1高屈折率膜(21a,21b)および第2高屈折率膜(22a,22b)と、第1屈折率よりも小さい第2屈折率を有する低屈折率層(23a,23b)と、を有し、
前記第1高屈折率膜および前記第2高屈折率膜が、前記低屈折率層を挟んで互いに対向して配置されることにより光学多層膜のミラー部(M1,M2)を構成するファブリペローフィルタであって、
前記スペーサ層は、前記第1高屈折率膜および前記第2高屈折率膜と同一の材料より成ることを特徴とするファブリペローフィルタ。 - 前記第1高屈折率膜、第2高屈折率膜および前記スペーサ層はポリシリコンから成り、前記低屈折率層は空気層であることを特徴とする請求項1に記載のファブリペローフィルタ。
- 請求項1または請求項2に記載のファブリペローフィルタを備え、
前記上側ミラーを構成する第2高屈折率膜22bに対して電圧を印加する上側電極(210)と、
前記下側ミラーを構成する第2高屈折率膜22aに対して電圧を印加する下側電極(220)と、を有し、
前記スペーサ層は、前記上側ミラーと前記下側ミラーとを電気的に絶縁する絶縁領域(300)を有し、
前記上側電極および前記下側電極の電位に基づいて発生する静電引力により、前記上側ミラーと前記下側ミラーとの間隔が変化するように構成されたファブリペロー干渉計。 - 基板(100)上に下側ミラー(20a)を形成する下側ミラー形成工程と、
前記下側ミラー形成工程の後、前記下側ミラー上に、犠牲層(50)を積層する犠牲層形成工程と、
前記犠牲層形成工程の後、前記犠牲層上に上側ミラー(20b)を積層する上側ミラー形成工程と、を有し、
前記下側ミラーおよび前記上側ミラーは、第1屈折率を有する第1高屈折率膜(21a,21b)と、同じく第1屈折率を有する第2高屈折率膜(22a,22b)と、が第2屈折率を有する低屈折率層(23a,23b)を挟んで配置された光学多層膜のミラー部を備えるものであり、
前記下側ミラー形成工程および前記上側ミラー形成工程は、それぞれ、
前記第1高屈折率膜を形成する第1高屈折率膜形成工程と、
前記第1高屈折率膜形成工程の後、前記第1高屈折率膜上における前記低屈折率層を形成する部分に除去層(23c,23d)を形成する除去層形成工程と、
前記除去層形成工程の後、前記除去層を被覆するように、前記第2高屈折率膜を形成する第2高屈折率膜形成工程と、を備えるファブリペローフィルタの製造方法であって、
前記犠牲層形成工程の後、前記上側ミラー形成工程の前に、前記犠牲層の一部を選択的に酸化して酸化層(52)を形成する酸化工程と、
前記上側ミラー形成工程の後、前記酸化層を除去する除去工程と、を有し、
前記犠牲層形成工程において、前記犠牲層を前記第1高屈折率膜および前記第2高屈折率膜と同一の材料で形成することを特徴とするファブリペローフィルタの製造方法。 - 前記除去工程において、前記酸化層の除去と同時に前記除去層を除去することを特徴とする請求項4に記載のファブリペローフィルタの製造方法。
- 前記犠牲層形成工程の後、前記酸化工程の前に、
前記犠牲層のうち、前記酸化層に対応する部分に、前記犠牲層の表面から前記犠牲層の積層方向に延びるトレンチ(51)を少なくとも1つ形成するトレンチ形成工程を備えることを特徴とする請求項4または請求項5に記載のファブリペローフィルタの製造方法。 - 前記下側ミラー形成工程の後、前記犠牲層形成工程の前に、
前記下側ミラー上であって、前記酸化層に対応する部分に、前記酸化工程において前記下側ミラーにおける前記第2高屈折率膜の酸化を抑制する保護膜(40)を形成する保護膜形成工程を備え、
前記保護膜を、前記除去工程において除去可能な材料で形成することを特徴とする請求項4〜6のいずれか1項に記載のファブリペローフィルタの製造方法。
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