JP5685257B2 - マイクロメカニカル可変同調型ファブリー・ペロー干渉計及びその製造方法 - Google Patents
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Description
基板と、
基板上の第1のミラー構造と、
第2の可動式ミラー構造であって、ここで、第1及び第2のミラー構造は、実質的に平行な第1及び第2のミラーを含む、第2のミラー構造と、
第1及び第2のミラー間にあるファブリー・ペロー空洞と、
ミラー間の距離を電気的に制御するための電極と、を含み、
少なくとも1つのミラーが、ミラーの2つの他の層の間でミラーの層の役割を担う間隙を有することを特徴とする、ファブリー・ペロー干渉計。
基板が設けられ、
第1のミラーが基板上に設けられ、
第2の可動式ミラー構造が設けられ、ここで、第1及び第2のミラー構造は実質的に平行な第1及び第2のミラーを含み、
第1及び第2のミラー間にファブリー・ペロー空洞が設けられ、ここで、空洞を設けることは、第2のミラー構造を設ける前に第1及び第2のミラー構造間に犠牲層を設けることを含み、第2のミラー構造を設けた後に犠牲層が除去され、
ミラー間の距離を電気的に制御するための電極が設けられ、
間隙が少なくとも1つのミラー内に形成され、その間隙がミラーの2つの他の層の間でミラーの層の役割を担うことを特徴とする、方法。
Claims (24)
- 電気的可変同調型ファブリー・ペロー干渉計であって、前記ファブリー・ペロー干渉計は、
基板と、
前記基板上に第1のミラーを具備しかつ固定される第1のミラー構造と、
前記基板上に第2のミラーを具備しかつ可動である第2のミラー構造と、
前記第1のミラー及び前記第2のミラーの間に配置されたファブリー・ペロー空洞と、
前記ミラー間の距離の電気的制御のための電極と、を具備し、
前記第1のミラー及び前記第2のミラーが、互いに平行であり、
前記第1のミラー及び前記第2のミラーのうち少なくとも1つが間隙を有し、前記間隙が、前記ミラーの層としての役割を、前記ミラーの向かい合って配置された層の間で担い、
前記ミラーの向かい合って配置された層が、間隙幅を光学領域全体にわたって一定の値に保つように、前記間隙を介して頸状部と接続されることを特徴とする、ファブリー・ペロー干渉計。 - 前記ファブリー・ペロー干渉計が2つの多結晶質シリコン製の層をさらに具備し、前記間隙が前記層間にあることを特徴とする、請求項1に記載のファブリー・ペロー干渉計。
- 前記第2のミラー構造が間隙を含むことを特徴とする、請求項1または2に記載のファブリー・ペロー干渉計。
- 前記第1のミラー構造が間隙を含むことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載のファブリー・ペロー干渉計。
- 前記間隙の幅が、λ/4であり、λは前記干渉計の通過帯域の中央波長であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載のファブリー・ペロー干渉計。
- 前記ミラーの全ての層の光学的厚さが、λ/4であり、λは前記干渉計の通過帯域の中央波長であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載のファブリー・ペロー干渉計。
- 前記基板が、前記干渉計の光学領域に孔または凹部を有することを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載のファブリー・ペロー干渉計。
- 前記基板が、前記干渉計の動作波長において不透明であり、そのため光学絞りを形成することを特徴とする、請求項7に記載のファブリー・ペロー干渉計。
- 前記基板上に被膜があり、前記被膜は不透明であり、そのため光学絞りを形成することを特徴とする、請求項7に記載のファブリー・ペロー干渉計。
- 前記基板が前記干渉計の動作波長域において透明材料製であり、前記干渉計が光学絞りを形成するために分離層を有することを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載のファブリー・ペロー干渉計。
- 前記間隙が真空を有することを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載のファブリー・ペロー干渉計。
- 前記間隙が、前記干渉計の動作波長域において透明である気体を含むことを特徴とする、請求項1〜10のいずれか1項に記載のファブリー・ペロー干渉計。
- 前記干渉計のミラーが、前記ミラー全体にわたって配置される、エッチング孔を有することを特徴とする、請求項1〜12のいずれか1項に記載のファブリー・ペロー干渉計。
- 制御可能なファブリー・ペロー干渉計を製造するための方法であって、前記方法は、
基板を設けることと、
前記基板に第1のミラーを具備しかつ固定される第1のミラー構造を設けることと、
前記基板に第2のミラーを具備しかつ可動である第2のミラー構造を設けることと、
前記第1のミラー及び前記第2のミラーの間にファブリー・ペロー空洞を配置することであって、ここで、前記空洞を配置することは、前記第2のミラー構造を配置する前に、前記第1のミラー構造及び前記第2のミラー構造の間に犠牲層を配置することを含み、前記犠牲層は、前記第2のミラー構造が配置された後に除去されることと、
前記ミラー間の距離を電気的に制御するための電極を設けることと、を含み、
前記第1のミラー及び前記第2のミラーが互いに平行であり、
間隙が前記第1のミラー及び前記第2のミラーのうち少なくとも1つの中に形成され、前記間隙が、前記ミラーの層としての役割を、前記ミラーの向かい合って配置された層の間で担い、
頸状部が、光学領域全体にわたって前記間隙の幅を一定値に保つように、前記ミラーの向かい合って配置された層の間に、前記間隙を介して、形成されることを特徴とする、方法。 - 2つの多結晶質シリコン製の層をさらに設けることであって、前記間隙が、前記2つの多結晶質シリコン製の層間に形成されることをさらに含むことを特徴とする、請求項14に記載の方法。
- 間隙が、前記第2のミラー構造内に作製されることを特徴とする、請求項14または15に記載の方法。
- 間隙が、前記第1のミラー構造内に作製されることを特徴とする、請求項14〜16のいずれか1項に記載の方法。
- 前記間隙が、λ/4の幅を有するように形成され、λは前記干渉計の通過帯域の中央波長であることを特徴とする、請求項14〜17のいずれか1項に記載の方法。
- 前記ミラーの全ての層が、λ/4の光学的厚さを有して形成され、λは前記干渉計通過帯域の中央波長であることを特徴とする、請求項14〜18のいずれか1項に記載の方法。
- 前記間隙は、真空を有するように作製されることを特徴とする、請求項14〜19のいずれか1項に記載の方法。
- 前記間隙は、前記干渉計の動作波長において透明である気体を含むように作製されることを特徴とする、請求項14〜19のいずれか1項に記載の方法。
- 孔または凹部が、光学絞りを形成するために、前記干渉計の光学領域にある前記基板に作製されることを特徴とする、請求項14〜21のいずれか1項に記載の方法。
- 孔または凹部が、前記干渉計の光学領域にある前記基板に作製され、光学絞りを形成するために、不透明材料層が前記基板上に設けられることを特徴とする、請求項14〜21のいずれか1項に記載の方法。
- エッチング孔が、ミラーを介して作製され、前記エッチング孔は、前記ミラー全体にわたって配置されることを特徴とする、請求項14〜23のいずれか1項に記載の方法。
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