JP6710721B2 - ファブリペロー干渉フィルタ - Google Patents
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- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 61
- 239000011800 void material Substances 0.000 claims description 21
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 150
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 68
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 68
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 30
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 25
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 description 8
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 8
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 6
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 4
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 3
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229910000530 Gallium indium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000005459 micromachining Methods 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
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Description
[第1実施形態]
[分光センサ]
[ファブリペロー干渉フィルタ]
[ファブリペロー干渉フィルタの製造方法]
[第2実施形態]
[第3実施形態]
Claims (14)
- 固定ミラーと、
空隙を介して前記固定ミラーと対向するように配置され、光透過領域に対応する第1部分、前記光透過領域を囲む包囲部、及び前記包囲部の外側の第2部分を有し、静電気力によって前記包囲部及び前記第2部分が変形することで前記第1部分において前記固定ミラーとの距離が調整される可動ミラーと、を備え、
前記可動ミラーのうち前記光透過領域を囲む前記包囲部には、前記光透過領域を囲む複数の第1環状溝、及び、前記空隙側及びその反対側に開口する複数の第1貫通孔が形成されており、
前記複数の第1貫通孔の少なくとも一部は、隣り合う前記第1環状溝間の領域と重なっている、ファブリペロー干渉フィルタ。 - 前記第1部分には、前記空隙側及びその反対側に開口する複数の第2貫通孔が形成されている、請求項1記載のファブリペロー干渉フィルタ。
- 前記固定ミラーのうち、前記固定ミラーと前記可動ミラーとが対向する対向方向において前記第2部分と対向する部分には、前記光透過領域を囲むように第1駆動電極が設けられており、
前記可動ミラーには、前記対向方向において前記第1駆動電極と対向するように、前記静電気力を発生させるために前記第1駆動電極との間に電圧が印加される第2駆動電極が設けられている、請求項1又は2記載のファブリペロー干渉フィルタ。 - 前記固定ミラーには、前記対向方向において、前記複数の第1環状溝にそれぞれ対応する複数の第2環状溝が形成されており、
前記第1駆動電極は、前記固定ミラーのうち前記複数の第2環状溝の外側の部分に設けられている、請求項3記載のファブリペロー干渉フィルタ。 - 前記固定ミラーには、前記光透過領域を含むように、前記第2駆動電極と同電位に接続された補償電極が設けられており、
前記補償電極は、前記対向方向において、前記第1駆動電極に対して前記第2駆動電極の反対側に位置している、請求項4記載のファブリペロー干渉フィルタ。 - 前記固定ミラーには、前記光透過領域を含むように、前記第2駆動電極と同電位に接続された補償電極が設けられており、
前記補償電極は、前記複数の第2環状溝を介して前記第1駆動電極の内側に位置している、請求項4記載のファブリペロー干渉フィルタ。 - 前記固定ミラーと前記可動ミラーとが対向する対向方向に平行であり且つ前記光透過領域の中心を通る断面において、前記第1貫通孔の幅は、最も外側の前記第1環状溝の外縁と最も内側の前記第1環状溝の内縁との間の幅よりも小さい、請求項1〜6のいずれか一項記載のファブリペロー干渉フィルタ。
- 固定ミラーと、
空隙を介して前記固定ミラーと対向するように配置され、光透過領域に対応する第1部分、前記光透過領域を囲む包囲部、及び前記包囲部の外側の第2部分を有し、静電気力によって前記包囲部及び前記第2部分が変形することで前記第1部分において前記固定ミラーとの距離が調整される可動ミラーと、を備え、
前記可動ミラーのうち前記光透過領域を囲む前記包囲部には、前記光透過領域を囲む第1環状溝が形成されており、
前記固定ミラーと前記可動ミラーとが対向する対向方向から見た場合に前記空隙のうち前記第1環状溝に囲まれる第1領域、及び前記対向方向から見た場合に前記空隙のうち前記第1環状溝を囲む第2領域については、前記対向方向に平行であり且つ前記光透過領域の中心を通る断面において、前記対向方向に垂直な方向における前記第1領域の両側に前記第2領域が1対現れ、前記対向方向に垂直な前記方向における前記第1領域の幅が、前記対向方向に垂直な前記方向における1対の前記第2領域のそれぞれの幅よりも大きく、
前記固定ミラーのうち、前記対向方向において前記第2部分と対向する部分には、前記光透過領域を囲むように第1駆動電極が設けられており、
前記可動ミラーには、前記対向方向において前記第1駆動電極と対向するように、前記静電気力を発生させるために前記第1駆動電極との間に電圧が印加される第2駆動電極が設けられており、
前記包囲部には、前記第1環状溝が複数形成されている、ファブリペロー干渉フィルタ。 - 前記対向方向から見た場合に前記空隙のうち前記包囲部に囲まれる第3領域、及び前記対向方向から見た場合に前記空隙のうち前記包囲部を囲む第4領域については、前記対向方向に平行であり且つ前記光透過領域の中心を通る前記断面において、前記対向方向に垂直な前記方向における前記第3領域の両側に前記第4領域が1対現れ、隣り合う前記第1環状溝間の幅が、前記対向方向に垂直な前記方向における前記第3領域の幅よりも小さく、且つ前記対向方向に垂直な前記方向における1対の前記第4領域のそれぞれの幅よりも小さい、請求項8記載のファブリペロー干渉フィルタ。
- 固定ミラーと、
空隙を介して前記固定ミラーと対向するように配置され、光透過領域に対応する第1部分、前記光透過領域を囲む包囲部、及び前記包囲部の外側の第2部分を有し、静電気力によって前記包囲部及び前記第2部分が変形することで前記第1部分において前記固定ミラーとの距離が調整される可動ミラーと、を備え、
前記可動ミラーのうち前記光透過領域を囲む前記包囲部には、前記光透過領域を囲む第1環状溝が形成されており、
前記固定ミラーと前記可動ミラーとが対向する対向方向から見た場合に前記空隙のうち前記第1環状溝に囲まれる第1領域、及び前記対向方向から見た場合に前記空隙のうち前記第1環状溝を囲む第2領域については、前記対向方向に平行であり且つ前記光透過領域の中心を通る断面において、前記対向方向に垂直な方向における前記第1領域の両側に前記第2領域が1対現れ、前記対向方向に垂直な前記方向における前記第1領域の幅が、前記対向方向に垂直な前記方向における1対の前記第2領域のそれぞれの幅よりも大きく、
前記固定ミラーのうち、前記対向方向において前記第2部分と対向する部分には、前記光透過領域を囲むように第1駆動電極が設けられており、
前記可動ミラーには、前記対向方向において前記第1駆動電極と対向するように、前記静電気力を発生させるために前記第1駆動電極との間に電圧が印加される第2駆動電極が設けられており、
前記固定ミラーには、前記対向方向において、前記第1環状溝に対応する第2環状溝が形成されており、
前記第1駆動電極は、前記固定ミラーのうち前記第2環状溝の外側の部分に設けられている、ファブリペロー干渉フィルタ。 - 前記固定ミラーには、前記光透過領域を含むように、前記第2駆動電極と同電位に接続された補償電極が設けられており、
前記補償電極は、前記対向方向において、前記第1駆動電極に対して前記第2駆動電極の反対側に位置している、請求項10記載のファブリペロー干渉フィルタ。 - 前記固定ミラーには、前記光透過領域を含むように、前記第2駆動電極と同電位に接続された補償電極が設けられており、
前記補償電極は、前記第2環状溝を介して前記第1駆動電極の内側に位置している、請求項10記載のファブリペロー干渉フィルタ。 - 前記第1駆動電極は、前記固定ミラーのうち前記光透過領域の外側の部分に設けられている、請求項8〜12のいずれか一項記載のファブリペロー干渉フィルタ。
- 前記第2部分には、前記空隙側及びその反対側に開口する複数の貫通孔が形成されている、請求項8〜13のいずれか一項記載のファブリペロー干渉フィルタ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018113531A JP6710721B2 (ja) | 2018-06-14 | 2018-06-14 | ファブリペロー干渉フィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018113531A JP6710721B2 (ja) | 2018-06-14 | 2018-06-14 | ファブリペロー干渉フィルタ |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014025289A Division JP6356427B2 (ja) | 2014-02-13 | 2014-02-13 | ファブリペロー干渉フィルタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018156112A JP2018156112A (ja) | 2018-10-04 |
JP6710721B2 true JP6710721B2 (ja) | 2020-06-17 |
Family
ID=63716733
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018113531A Active JP6710721B2 (ja) | 2018-06-14 | 2018-06-14 | ファブリペロー干渉フィルタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6710721B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7202160B2 (ja) * | 2018-12-05 | 2023-01-11 | 浜松ホトニクス株式会社 | 光学フィルタ装置、及び光学フィルタ装置の制御方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FI96450C (fi) * | 1993-01-13 | 1996-06-25 | Vaisala Oy | Yksikanavainen kaasun pitoisuuden mittausmenetelmä ja -laitteisto |
US6711317B2 (en) * | 2001-01-25 | 2004-03-23 | Lucent Technologies Inc. | Resiliently packaged MEMs device and method for making same |
FI20095976A0 (fi) * | 2009-09-24 | 2009-09-24 | Valtion Teknillinen | Mikromekaanisesti säädettävä Fabry-Perot -interferometri ja menetelmä sen tuottamiseksi |
JP5516358B2 (ja) * | 2010-11-18 | 2014-06-11 | 株式会社デンソー | ファブリペロー干渉計の製造方法 |
JP5177209B2 (ja) * | 2010-11-24 | 2013-04-03 | 株式会社デンソー | ファブリペロー干渉計 |
JP5899645B2 (ja) * | 2011-04-14 | 2016-04-06 | セイコーエプソン株式会社 | 干渉フィルター、光モジュール、及び電子機器 |
JP5834718B2 (ja) * | 2011-09-29 | 2015-12-24 | セイコーエプソン株式会社 | 波長可変干渉フィルター、光学フィルターデバイス、光学モジュール、及び電子機器 |
JP5783139B2 (ja) * | 2012-06-18 | 2015-09-24 | 株式会社デンソー | ファブリペロー干渉計 |
-
2018
- 2018-06-14 JP JP2018113531A patent/JP6710721B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018156112A (ja) | 2018-10-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180620 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190307 |
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