JP2005191079A - 半導体チップ及び半導体装置並びに半導体装置の製造方法 - Google Patents

半導体チップ及び半導体装置並びに半導体装置の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】集積回路設計の自由度が高い半導体チップ及び半導体装置並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】半導体チップ10は、集積回路が形成されてなる半導体基板12を含む。半導体チップは、半導体基板12にエリアアレイ状に設けられて、複数の平行な第1の直線110にそれぞれ沿った複数の第1のグループ310に分けられるように、かつ、第1の直線110に交差する方向に延びる複数の第2の直線120にそれぞれ沿った複数の第2のグループ320に分けられるように配列されてなる、半導体基板12の内部と電気的に接続された複数の電極20とを含む。
【選択図】図2

Description

本発明は、半導体チップ及び半導体装置並びに半導体装置の製造方法に関する。
従来の半導体チップでは、電極の配置領域の制限が大きく、集積回路の設計に制限が加えられていた。電極の配置の制限を緩和することができれば、集積回路の設計の自由度が高まり、また、半導体チップの信頼性を高めることができる。
本発明の目的は、集積回路の設計の自由度が高く、実装性に優れた半導体チップ及び半導体装置並びに半導体装置の製造方法を提供することにある。
特開平4−352132号公報
(1)本発明に係る半導体チップは、集積回路が形成されてなる半導体基板と、
前記半導体基板にエリアアレイ状に設けられて、前記半導体基板の1辺に沿って延びる複数の平行な第1の直線にそれぞれ沿った複数の第1のグループに分けられるように、かつ、前記第1の直線に交差する方向に延びる複数の第2の直線にそれぞれ沿った複数の第2のグループに分けられるように配列されてなる複数の電極とを含む。本発明によれば、半導体チップの電極は、エリアアレイ状に設けられる。そのため、半導体基板の表面で、電極を配置することができる領域が広くなる。これにより電極の配置の制限が少なくなるため、集積回路の設計の自由度を高めることができる。また、電極は、第1及び第2のグループに分けられるように配列されているため、配線パターンの設計が容易となる。本発明によって、集積回路の設計の自由度が高く、かつ、実装性に優れた半導体チップを提供することができる。
(2)この半導体チップにおいて、
前記第2の直線は、前記第1の直線に対して斜めに延びてもよい。
(3)この半導体チップにおいて、
隣り合う2つの前記第2の直線は平行に延びてもよい。
(4)この半導体チップにおいて、
隣り合う2つの前記第2の直線は、前記第1の直線の垂線を対称軸とする線対称であってもよい。
(5)この半導体チップにおいて、
前記複数の第2の直線は、A直線と、前記A直線の両隣に配置されたB及びC直線とを含み、
前記A及びB直線は平行に延びており、前記A及びC直線は前記第1の直線の垂線を対称軸とする線対称であってもよい。
(6)この半導体チップにおいて、
前記第2の直線は、前記第1の直線に直交する方向に延びてもよい。
(7)本発明に係る半導体装置は、複数のランドを含む配線パターンが形成された基板と、
エリアアレイ状に設けられた複数の電極を有し、それぞれの前記電極がいずれか1つの前記ランドと対向して電気的に接続されるように前記基板に搭載された、集積回路が形成されてなる半導体チップと、
を有し、
前記電極は、前記半導体チップの1辺に沿って延びる複数の平行な第1の直線にそれぞれ沿った複数の第1のグループに分けられるように、かつ、前記第1の直線に交差する方向に延びる複数の第2の直線にそれぞれ沿った複数の第2のグループに分けられるように配列されてなり、
前記配線パターンは、前記ランドから引き出されて前記第1の直線と交差する方向にそれぞれ延びる複数の配線を含む。本発明によれば、回路設計の自由度の高い半導体チップを有する半導体装置を提供することができる。
(8)この半導体装置において、
前記ランドは、前記第1の直線に沿った方向に拡がった外形をなしてもよい。
(9)この半導体装置において、
前記第2の直線は、前記第1の直線に対して斜めに延びてもよい。
(10)この半導体装置において、
隣り合う2つの前記第2の直線は平行に延びていてもよい。
(11)この半導体装置において、
隣り合う2つの前記第2の直線は、前記第1の直線を対称軸とする線対称であってもよい。
(12)この半導体装置において、
前記複数の第2の直線は、A直線と、前記A直線の両隣に配置されたB直線及びC直線とを含み、
前記A直線と前記B直線とは平行に延びており、前記A直線と前記C直線とは前記第1の直線を対称軸とする線対称であってもよい。
(13)この半導体装置において、
前記第2の直線は、前記第1の直線に直交する方向に延びてもよい。
(14)この半導体装置において、
同一の前記第2のグループの前記電極に対向する1グループの前記ランドからそれぞれ引き出される1グループの前記配線は、前記1グループのランドの、前記第1の直線に沿った両側のうち同じ側から引き出されていてもよい。
(15)この半導体装置において、
隣り合う2つの前記1グループのランドから引き出される前記配線は、それぞれ、反対方向へ延びていてもよい。
(16)この半導体装置において、
隣り合う2つの前記1グループのランドから引き出される前記配線は、それぞれ、同じ方向へ延びていてもよい。
(17)この半導体装置において、
前記A直線に沿って配置された前記電極と対向する前記ランドから引き出された前記配線は、前記B直線に沿って配置された前記電極と対向する前記ランドから引き出された前記配線と反対方向に延びてなり、かつ、前記C直線に沿って配置された前記電極と対向する前記ランドから引き出された前記配線と同じ方向に延びていてもよい。
(18)この半導体装置において、
前記同一の第2のグループの前記電極と対向する1グループの前記ランドは、前記第1の直線に沿った両側のうち同じ側に異なる長さで突出し、その突出長さが、いずれかの前記第2の直線に沿った配列順に長くなるように形成されていてもよい。
(19)この半導体装置において、
前記同一の第2のグループの前記電極と対向する前記1グループのランドからそれぞれ引き出される1グループの前記配線は、いずれか1つの第1の前記ランドから引き出された1つの前記配線の、前記第1のランドの突出する方向の隣に、前記第1のランドの次に突出長さの長い1つの第2の前記ランドから引き出された1つの前記配線が配置されていてもよい。
(20)本発明に係る半導体装置の製造方法は、複数のランドを含む配線パターンが形成された基板に、複数の電極を有する半導体チップを、前記電極が前記配線パターンと対向するように搭載して、前記電極と前記配線パターンとを電気的に接続することを含み、
前記電極は、前記半導体チップにエリアアレイ状に設けられて、前記半導体基板の1辺に沿って延びる複数の平行な第1の直線にそれぞれ沿った複数の第1のグループに分けられるように、かつ、前記第1の直線に交差する方向に延びる複数の第2の直線にそれぞれ沿った複数の第2のグループに分けられるように配列されてなり、
前記ランドは、複数の平行な第3の直線にそれぞれ沿った複数の第3のグループに分けられるように配列されてなり、
前記配線パターンは、前記ランドから引き出されて前記第3の直線と交差する方向にそれぞれ延びる複数の配線を含み、
前記半導体チップと前記基板とを、前記第1の直線と前記第3の直線とが平行になってそれぞれの前記電極といずれか1つの前記ランドとが対向するように位置合わせして、前記電極と前記ランドとを電気的に接続する。本発明によれば、回路設計の自由度の高い半導体チップを有する半導体装置を製造することができる。
以下、本発明を適用した実施の形態について図面を参照して説明する。ただし、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではない。
(第1の実施の形態)
図1〜図4は、本発明を適用した第1の実施の形態に係る半導体装置を説明するための図である。なお、図1は、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置1の概略図である。そして、図2は、半導体チップ10を示す図である。図3は、半導体装置1の一部拡大図である。ただし、図3では、電極20とランド42との接続状態を説明するため、半導体基板12を省略してある。そして、図4は、図3のIV−IV線断面を示す図である。
本実施の形態に係る半導体装置は、図1に示すように、半導体チップ10を有する。半導体チップ10は、図2に示すように、半導体基板12を含む。なお、図2は、半導体チップ10を、電極20が形成された面(能動面)とは反対側の面から観察した様子を示す図である。半導体基板12の外形は特に限定されないが、図2に示すように、矩形をなしていてもよい。半導体基板12には集積回路13が形成されてなる(図4参照)。集積回路13の内容は特に限定されず、トランジスタやメモリ素子等によって構成されていてもよい。
半導体チップ10は、図2に示すように、複数の電極20を有する。電極20は、半導体基板12に設けられてなる。電極20は、半導体基板12の内部と電気的に接続されていてもよい。このとき、すべての電極20が、半導体基板12の内部と電気的に接続されていてもよい。あるいは、半導体基板12の内部と電気的に接続されていない電極を含めて、電極20と称してもよい。電極20は、集積回路13と電気的に接続されていてもよい。あるいは、集積回路13と電気的に接続されていない電極を含めて、電極20と称してもよい。電極20は、パッドと該パッドに設けられたバンプとを有してもよい(図示せず)。本実施の形態では、図2に示すように、電極20はエリアアレイ状に設けられてなる。電極20がエリアアレイ状に設けられることから、半導体基板12における電極20を配置することができる領域が広くなる。これにより、電極20の配置の制限が少なくなり、集積回路13の設計の自由度を高めることができる。そして、図2に示すように、電極20は、複数の平行な第1の直線110にそれぞれ沿った複数の第1のグループ310に分けられるように配列されてなる。なお、図2に示すように、第1の直線110は、半導体基板12の1辺に沿って延びる直線である。また、図2に示すように、電極20は、第1の直線110に交差する方向に延びる複数の第2の直線120にそれぞれ沿った複数の第2のグループ320に分けられるように配列されてなる。図2に示すように、第2の直線120は、第1の直線110に対して斜めに延びていてもよい。そして、隣り合う2つの第2の直線120は、平行に延びていてもよい。このとき、すべての第2の直線120が平行に延びていてもよい。本実施の形態では、電極20が第1及び第2のグループ310,320に分けられるように配列されることから、半導体チップ10を実装するための基板の配線パターンの設計が容易となる。すなわち、目的の電極以外の電極20と接触しないように配線パターンを設計することが容易となり、また、半導体チップ10の実装性を高めることができる。
半導体チップ10は、パッシベーション膜や層間絶縁膜等の、既に公知となっている半導体チップの構成をさらに有していてもよい(図示せず)。そして、図1に示すように、半導体チップ10は、基板30に搭載されてなる。半導体チップ10は、基板30に、電極20が配線パターン40のランド42と対向するように搭載されてなる(図3及び4参照)。
本実施の形態に係る半導体装置は、図1に示すように、基板30を有する。基板30の材料は特に限定されるものではなく、有機系(例えばエポキシ基板)、無機系(例えばセラミック基板、ガラス基板)、又は、それらの複合構造(例えばガラスエポキシ基板)からなるものであってもよい。基板30は、リジッド基板であってもよい。あるいは、基板30は、ポリエステル基板やポリイミド基板などのフレキシブル基板であってもよい。基板30は、COF(Chip On Film)用の基板であってもよい。また、基板30は、単一の層からなる単層基板であってもよく、積層された複数の層を有する積層基板であってもよい。そして、基板30の形状や厚みについても、特に限定されるものではない。
基板30は、図3に示すように、配線パターン40を有する。なお、図3は、半導体装置1の一部拡大図である。ただし、図3では、電極20とランド42との接続状態を説明するため、半導体基板12を省略してある。配線パターン40は、銅(Cu)、クローム(Cr)、チタン(Ti)、ニッケル(Ni)、チタンタングステン(Ti−W)、金(Au)、アルミニウム(Al)、ニッケルバナジウム(NiV)、タングステン(W)のうちのいずれかを積層して、あるいはいずれかの一層で形成されていてもよい。基板30として積層基板を用意した場合、配線パターン40は、各層間に設けられていてもよい。また、基板30としてガラス基板を利用する場合、配線パターン40は、ITO(Indium Tin Oxide)、Cr、Alなどの金属膜、金属化合物膜又はそれらの複合膜によって形成されていてもよい。配線パターン40の形成方法は特に限定されない。例えば、スパッタリング等によって配線パターン40を形成してもよいし、無電解メッキで配線パターン40を形成するアディティブ法を適用してもよい。また、配線パターン40は、ハンダ、スズ、金、ニッケル等でメッキされていてもよい。
配線パターン40は、複数のランド42を含む。ランド42は、半導体チップ10の電極20と対向して電気的に接続される部分である。図3に示すように、ランド42は、電極20と対向するように配置されていてもよい。ランド42は、第1の直線110に沿ったグループに分けられるように、かつ、第2の直線120に沿ったグループに分けられるように配列されていてもよい。ランド42は、図3に示すように、第1の直線110に沿った方向に拡がった外形をなしていてもよい。また、すべてのランド42は、同じ大きさに形成されていてもよい。配線パターン40は、図3に示すように、ランド42から引き出されて第1の直線110と交差する方向にそれぞれ延びる複数の配線44を含む。図3に示すように、同一の第2のグループ320の電極20に対向する1グループのランド42からそれぞれ引き出される1グループの配線44は、ランド42の、第1の直線110に沿った両側のうち同じ側から引き出されていてもよい。そして、図3に示すように、隣り合う2つの第2のグループ320の電極20と対向するランド42から引き出される配線44は、それぞれ、反対方向へ延びていてもよい。
本実施の形態に係る半導体装置では、図1に示すように、半導体チップ10は基板30に搭載されてなる。半導体チップ10は、図3又は図4に示すように、電極20がランド42と対向するように搭載されてなる。そして、電極20とランド42とは電気的に接続されてなる。電極20とランド42とを電気的に接続することで、電極20と配線パターン40とが電気的に接続される。電極20とランド42との電気的な接続は、図4に示すように、両者を接触させることで実現してもよい。あるいは、電極20とランド42との間に導電粒子を介在させて、該導電粒子を介して両者の電気的な接続を図ってもよい(図示せず)。あるいは、電極20とランド42との電気的な接続に、合金接合(例えばAu−Au又はAu−Sn接合)を利用してもよい。
本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置は、図4に示すように、半導体チップ10を基板30に固着する補強部25をさらに有してもよい。補強部25によって、半導体装置の信頼性を高めることができる。補強部25の材料は樹脂であってもよいが、これに限定されるものではない。
本実施の形態に係る半導体装置は上記のように構成されてなる。以下、その製造方法について説明する。
本実施の形態に係る半導体装置の製造方法は、複数のランド42を含む配線パターン40が形成された基板30に、複数の電極20を有する半導体チップ10を、電極20が配線パターン40と対向するように搭載して、電極20と配線パターン40とを電気的に接続することを含む。以下、本工程について説明する。
本工程は、半導体チップ10を用意することを含んでもよい(図2参照)。半導体チップ10は、複数の電極20を有する。電極20は、半導体チップ10にエリアアレイ状に設けられてなる。電極20は、複数の平行な第1の直線110にそれぞれ沿った複数の第1のグループ310に分けられるように配列されてなる。第1の直線110は、半導体チップ10の1辺に沿って延びる直線である。そして、電極20は、第1の直線110に交差する方向に延びる複数の第2の直線120にそれぞれ沿った複数の第2のグループ320に分けられるように配列されてなる。
本工程は、図5に示す、基板30を用意することを含んでもよい。図5に示すように、基板30には、複数のランド42を含む配線パターン40が形成されてなる。ランド42は、複数の平行な第3の直線130にそれぞれ沿った複数の第3のグループ330に分けられるように配列されてなる。そして、配線パターン40は、ランド42から引き出されて第3の直線130と交差する方向にそれぞれ延びる複数の配線44を含む。
本工程は、半導体チップ10と基板30とを、第1の直線110と第3の直線130とが平行になるように、かつ、電極20とランド42とが対向するように位置合わせをすることを含む(図3参照)。1つの第1のグループ310の電極20と、いずれか1つの第3のグループ330のランド42とを対向させてもよい。そして、電極20とランド42とを電気的に接続する。電極20とランド42との電気的な接続は、既に公知となっているいずれかの方法によって実現してもよい。電極20とランド42とを電気的に接続させることにより、電極20と配線パターン40とを電気的に接続してもよい。
そして、半導体チップ10と基板30とを固着する補強部25を形成する工程等を経て、半導体装置1を製造してもよい(図1参照)。
(第2の実施の形態)
図6及び図7は、本発明を適用した第2の実施の形態に係る半導体装置を説明するための図である。なお、本実施の形態に係る半導体装置においても、既に説明した内容を可能な限り適用するものとする。
本実施の形態に係る半導体装置は、半導体チップ15を有する。図6は、半導体チップ15を説明するための図である。半導体チップ15は、半導体基板16と、半導体基板16にエリアアレイ状に設けられた複数の電極22とを含む。図6に示すように、電極22は、半導体基板16の1辺に沿って伸びる複数の平行な第1の直線150にそれぞれ沿った複数の第1のグループ350に分けられるように配列されてなる。また、図6に示すように、電極22は、第1の直線150に交差する方向に延びる複数の第2の直線160にそれぞれ沿った複数の第2のグループ360に分けられるように配列されてなる。第2の直線160は、第1の直線150に対して斜めに延びる。そして、本実施の形態に係る半導体装置では、第2の直線160は、A直線162と、A直線162の両隣に配置されたB直線164及びC直線166とを含む。図6に示すように、A直線162とB直線164とは平行に延びてなる。そして、図6に示すように、A直線162とC直線166とは、第1の直線150の垂線を対称軸とする線対称となっている。
本実施の形態に係る半導体装置は、複数のランド46を含む配線パターン45を有する基板32を含む(図7参照)。基板32には、半導体チップ15が搭載される。なお、図7は、本実施の形態に係る半導体装置の一部拡大図であり、電極22とランド46との接続状態を説明するための図である。ただし、図7では、電極22とランド46との接続状態を説明するため、半導体基板16を省略してある。そして、図7に示すように、ランド46は、電極22と対向するように配置されてなる。
配線パターン45は、図7に示すように、ランド46から引き出されて第1の直線150と交差する方向にそれぞれ延びる複数の配線47を含む。図7に示すように、同一の第2のグループ360の電極22と対向するランド46から引き出される1グループの配線47は、ランド46の、第1の直線150に沿った両側のうち同じ側から引き出されていてもよい。先に説明した通り、第2の直線160は、A直線162とB直線164とC直線166とを含む。そして、図7に示すように、A直線162に沿って配置された電極22と対向するランド46から引き出された配線47は、B直線164に沿って配置された電極22と対向するランド46から引き出された配線47と反対方向に延びていてもよい。また、A直線162に沿って配置された電極22と対向するランド46から引き出された配線47は、C直線166に沿って配置された電極22と対向するランド46から引き出された配線47と同じ方向に延びていてもよい。
(第3の実施の形態)
図8及び図9は、本発明を適用した第3の実施の形態に係る半導体装置を説明するための図である。なお、本実施の形態に係る半導体装置においても、既に説明した内容を可能な限り適用するものとする。
本実施の形態に係る半導体装置は、半導体チップ17を有する。図8は、半導体チップ17を説明するための図である。半導体チップ17は、半導体基板18と、半導体基板18にエリアアレイ状に設けられた複数の電極24とを含む。図8に示すように、電極24は、半導体基板18の1辺に沿って延びる複数の平行な第1の直線170にそれぞれ沿った複数の第1のグループ370に分けられるように配列されてなる。また、図8に示すように、電極24は、第1の直線170に交差する方向に延びる複数の第2の直線180にそれぞれ沿った複数の第2のグループ380に分けられるように配列されてなる。第2の直線180は、第1の直線170に対して斜めに延びる。そして、本実施の形態に係る半導体装置では、隣り合う2つの第2の直線180は、第1の直線170を対称軸とする線対称である。
本実施の形態に係る半導体装置は、複数のランド49を含む配線パターン48を有する基板34を含む(図9参照)。図9は、本実施の形態に係る半導体装置の一部拡大図である。基板34には、半導体チップ17が搭載される。そして、図9に示すように、ランド49は、電極24と対向するように配置されてなる。
配線パターン48は、図9に示すように、ランド49から引き出されて第1の直線170と交差する方向にそれぞれ延びる複数の配線50を含む。図9に示すように、同一の第2のグループ380の電極24と対向するランド49から引き出される1グループの配線50は、ランド49の、第1の直線170に沿った両側のうち同じ側から引き出されていてもよい。そして、図9に示すように、隣り合う2つの第2のグループ380の電極24と対向するランド49から引き出される配線50は、それぞれ、同じ方向へ延びていてもよい。このとき、すべての配線50が同じ方向へ延びていてもよい。
(第4の実施の形態)
図10及び図11は、本発明を適用した第4の実施の形態に係る半導体装置を説明するための図である。なお、本実施の形態に係る半導体装置においても、既に説明した内容を可能な限り適用するものとする。
本実施の形態に係る半導体装置は、半導体チップ60を有する。図10は、半導体チップ60を説明するための図である。半導体チップ60は、半導体基板62と、半導体基板62にエリアアレイ状に設けられた複数の電極70とを含む。図10に示すように、電極70は、半導体基板62の1辺に沿って延びる複数の平行な第1の直線210にそれぞれ沿った複数の第1のグループ410に分けられるように配列されてなる。また、図10に示すように、電極70は、第1の直線210に交差する方向に延びる複数の第2の直線220にそれぞれ沿った複数の第2のグループ420に分けられるように配列されてなる。そして、図10に示すように、第2の直線220は、第1の直線210に直交する方向に延びる。
本実施の形態に係る半導体装置は、複数のランド92を含む配線パターン84を有する基板80を含む(図11参照)。図11は、本実施の形態に係る半導体装置の一部拡大図である。基板80には、半導体チップ60が搭載される。そして、ランド92は、電極70と対向する位置に配置されてなる。図11に示すように、同一の第2のグループ420の電極70と対向する1グループのランド92は、第1の直線210に沿った両側のうち同じ側に異なる長さで突出し、その突出長さが、いずれかの第2の直線220に沿った配列順に長くなるように形成されていてもよい。
配線パターン84は、図11に示すように、ランド92から引き出されて第1の直線210と交差する方向にそれぞれ延びる複数の配線94を含む。図11に示すように、同一の第2のグループ420の電極70と対向するランド92から引き出される1グループの配線は、ランド92の、第1の直線210に沿った両側のうち同じ側から引き出されていてもよい。そして、同一の第2のグループ420の電極70と対向する1グループのランド92からそれぞれ引き出される1グループの配線は、いずれか1つの第1のランドから引き出された1つの配線94の、第1のランドの突出する方向の隣に、第1のランドの次に突出長さの長い1つの第2のランドから引き出された1つの配線94が配置されていてもよい。
図12には、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置を有する表示デバイス1000を示す。表示デバイス1000は、例えば、液晶表示デバイスやEL(Electrical Luminescence)表示デバイスであってもよい。さらに、半導体装置1を有する電子機器として、図13にノート型パーソナルコンピュータ2000を、図14には携帯電話3000を、それぞれ示す。
なお、本発明は、上述した実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、本発明は、実施の形態で説明した構成と実質的に同一の構成(例えば、機能、方法及び結果が同一の構成、あるいは目的及び効果が同一の構成)を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成の本質的でない部分を置き換えた構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成と同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成を含む。また、本発明は、実施の形態で説明した構成に公知技術を付加した構成を含む。
図1は、本発明を適用した第1の実施の形態に係る半導体装置を説明するための図である。 図2は、本発明を適用した第1の実施の形態に係る半導体装置を説明するための図である。 図3は、本発明を適用した第1の実施の形態に係る半導体装置を説明するための図である。 図4は、本発明を適用した第1の実施の形態に係る半導体装置を説明するための図である。 図5は、本発明を適用した第1の実施の形態に係る半導体装置の製造方法を説明するための図である。 図6は、本発明を適用した第2の実施の形態に係る半導体装置を説明するための図である。 図7は、本発明を適用した第2の実施の形態に係る半導体装置を説明するための図である。 図8は、本発明を適用した第3の実施の形態に係る半導体装置を説明するための図である。 図9は、本発明を適用した第3の実施の形態に係る半導体装置を説明するための図である。 図10は、本発明を適用した第4の実施の形態に係る半導体装置を説明するための図である。 図11は、本発明を適用した第4の実施の形態に係る半導体装置を説明するための図である。 図12は、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置を有する表示デバイスを示す図である。 図13は、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置を有する電子機器を示す図である。 図14は、本発明を適用した実施の形態に係る半導体装置を有する電子機器を示す図である。
符号の説明
10 半導体チップ、 12 半導体基板、 13 集積回路、 20 電極、 25 補強部、 30 基板、 40 配線パターン、 42 ランド、 44 配線

Claims (20)

  1. 集積回路が形成されてなる半導体基板と、
    前記半導体基板にエリアアレイ状に設けられて、前記半導体基板の1辺に沿って延びる複数の平行な第1の直線にそれぞれ沿った複数の第1のグループに分けられるように、かつ、前記第1の直線に交差する方向に延びる複数の第2の直線にそれぞれ沿った複数の第2のグループに分けられるように配列されてなる複数の電極とを含む半導体チップ。
  2. 請求項1記載の半導体チップにおいて、
    前記第2の直線は、前記第1の直線に対して斜めに延びる半導体チップ。
  3. 請求項2記載の半導体チップにおいて、
    隣り合う2つの前記第2の直線は平行に延びる半導体チップ。
  4. 請求項2記載の半導体チップにおいて、
    隣り合う2つの前記第2の直線は、前記第1の直線の垂線を対称軸とする線対称である半導体チップ。
  5. 請求項2記載の半導体チップにおいて、
    前記複数の第2の直線は、A直線と、前記A直線の両隣に配置されたB及びC直線とを含み、
    前記A及びB直線は平行に延びており、前記A及びC直線は前記第1の直線の垂線を対称軸とする線対称である半導体チップ。
  6. 請求項1記載の半導体チップにおいて、
    前記第2の直線は、前記第1の直線に直交する方向に延びる半導体チップ。
  7. 複数のランドを含む配線パターンが形成された基板と、
    エリアアレイ状に設けられた複数の電極を有し、それぞれの前記電極がいずれか1つの前記ランドと対向して電気的に接続されるように前記基板に搭載された、集積回路が形成されてなる半導体チップと、
    を有し、
    前記電極は、前記半導体チップの1辺に沿って延びる複数の平行な第1の直線にそれぞれ沿った複数の第1のグループに分けられるように、かつ、前記第1の直線に交差する方向に延びる複数の第2の直線にそれぞれ沿った複数の第2のグループに分けられるように配列されてなり、
    前記配線パターンは、前記ランドから引き出されて前記第1の直線と交差する方向にそれぞれ延びる複数の配線を含む半導体装置。
  8. 請求項7記載の半導体装置において、
    前記ランドは、前記第1の直線に沿った方向に拡がった外形をなす半導体装置。
  9. 請求項7又は請求項8記載の半導体装置において、
    前記第2の直線は、前記第1の直線に対して斜めに延びる半導体装置。
  10. 請求項9記載の半導体装置において、
    隣り合う2つの前記第2の直線は平行に延びてなる半導体装置。
  11. 請求項9記載の半導体装置において、
    隣り合う2つの前記第2の直線は、前記第1の直線を対称軸とする線対称である半導体装置。
  12. 請求項9記載の半導体装置において、
    前記複数の第2の直線は、A直線と、前記A直線の両隣に配置されたB直線及びC直線とを含み、
    前記A直線と前記B直線とは平行に延びており、前記A直線と前記C直線とは前記第1の直線を対称軸とする線対称である半導体装置。
  13. 請求項7又は請求項8記載の半導体装置において、
    前記第2の直線は、前記第1の直線に直交する方向に延びる半導体装置。
  14. 請求項7から請求項13のいずれかに記載の半導体装置において、
    同一の前記第2のグループの前記電極に対向する1グループの前記ランドからそれぞれ引き出される1グループの前記配線は、前記1グループのランドの、前記第1の直線に沿った両側のうち同じ側から引き出されてなる半導体装置。
  15. 請求項14記載の半導体装置において、
    隣り合う2つの前記1グループのランドから引き出される前記配線は、それぞれ、反対方向へ延びてなる半導体装置。
  16. 請求項14記載の半導体装置において、
    隣り合う2つの前記1グループのランドから引き出される前記配線は、それぞれ、同じ方向へ延びてなる半導体装置。
  17. 請求項12を引用する請求項14記載の半導体装置において、
    前記A直線に沿って配置された前記電極と対向する前記ランドから引き出された前記配線は、前記B直線に沿って配置された前記電極と対向する前記ランドから引き出された前記配線と反対方向に延びてなり、かつ、前記C直線に沿って配置された前記電極と対向する前記ランドから引き出された前記配線と同じ方向に延びてなる半導体装置。
  18. 請求項14から請求項17のいずれかに記載の半導体装置において、
    前記同一の第2のグループの前記電極と対向する1グループの前記ランドは、前記第1の直線に沿った両側のうち同じ側に異なる長さで突出し、その突出長さが、いずれかの前記第2の直線に沿った配列順に長くなるように形成されてなる半導体装置。
  19. 請求項18記載の半導体装置において、
    前記同一の第2のグループの前記電極と対向する前記1グループのランドからそれぞれ引き出される1グループの前記配線は、いずれか1つの第1の前記ランドから引き出された1つの前記配線の、前記第1のランドの突出する方向の隣に、前記第1のランドの次に突出長さの長い1つの第2の前記ランドから引き出された1つの前記配線が配置されてなる半導体装置。
  20. 複数のランドを含む配線パターンが形成された基板に、複数の電極を有する半導体チップを、前記電極が前記配線パターンと対向するように搭載して、前記電極と前記配線パターンとを電気的に接続することを含み、
    前記電極は、前記半導体チップにエリアアレイ状に設けられて、前記半導体基板の1辺に沿って延びる複数の平行な第1の直線にそれぞれ沿った複数の第1のグループに分けられるように、かつ、前記第1の直線に交差する方向に延びる複数の第2の直線にそれぞれ沿った複数の第2のグループに分けられるように配列されてなり、
    前記ランドは、複数の平行な第3の直線にそれぞれ沿った複数の第3のグループに分けられるように配列されてなり、
    前記配線パターンは、前記ランドから引き出されて前記第3の直線と交差する方向にそれぞれ延びる複数の配線を含み、
    前記半導体チップと前記基板とを、前記第1の直線と前記第3の直線とが平行になってそれぞれの前記電極といずれか1つの前記ランドとが対向するように位置合わせして、前記電極と前記ランドとを電気的に接続する半導体装置の製造方法。
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