JP2005154650A - セルロースアシレート組成物、およびセルロースアシレートフィルム - Google Patents

Abstract

【課題】 本発明は、非塩素系溶媒を用いてもＲｔｈ及びＲｔｈの波長分散が小さく、また製造工程の汚染の少ないセルロースアシレートフィルムを提供すると共に、該セルロースアシレートフィルムを用いた偏光板及び画像表示装置を提供すること。
【解決手段】 アシル基への置換度が下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満足するセルロースアシレートと、分子量が２５０以上１０００以下であり、下記一般式（１）で表される化合物とを含むセルロースアシレート組成物。
（Ｉ） ２．３≦ＳＡ＋ＳＢ≦３．０
（ＩＩ） １．５≦ＳＡ≦３．０
（ＩＩＩ） ０≦ＳＢ≦０．８
（式中ＳＡ及びＳＢはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、ＳＡはアセチル基の置換度、またＳＢは炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度を表す。）
【選択図】 なし

Description

本発明は光学特性に優れたセルロースアシレート組成物、セルロースアシレートフィルム、偏光板及び画像表示装置に関する。

従来、ハロゲン化銀写真感光材料や液晶画像表示装置に使用されるセルロースアシレートを製造する際に使用されるセルロースアシレート溶液の有機溶媒には、ジクロロメタンのような塩素含有炭化水素が使用されている。特にジクロロメタン（沸点約４０℃）は、従来からセルロースアシレートの良溶媒として用いられ、沸点が低いことから、製造工程の製膜及び乾燥工程において乾燥させ易いという利点を有するため、好ましく使用されている。
環境保全の観点から、低沸点である塩素系有機溶媒は、密閉設備でも取り扱い工程での漏れを著しく低減されるようになり、例えば徹底的なクローズドシステムによる系からの漏れ防止、万が一漏れても外気に出す前にガス吸収塔を設置し、有機溶媒を吸着させて処理する方法等が進められている。さらに、排出する前に火力による燃焼あるいは電子線ビームによる塩素系有機溶媒の分解などで、殆ど有機溶媒を排出することはなくなったが、完全な非排出までには更に研究する必要がある。

一方、塩素系有機溶媒であるジクロロメタン以外のセルロースアシレートの溶媒の探索もなされており、セルロースアシレート特にセルローストリエステルに対する溶解性を示す有機溶媒として、アセトン（沸点５６℃）、酢酸メチル（沸点５６℃）、テトラヒドロフラン（沸点６５℃）、１，３−ジオキソラン（沸点７５℃）、１，４−ジオキサン（沸点１０１℃）などが知られている。これらの中でも、溶解性、製膜特性に優れるのが酢酸エチルである。酢酸エチルを主溶剤としてドープを作製し、これをバンド上に流延した後、これから剥ぎ取り、搬送しながら乾燥し製膜する方法などが詳細に検討されている。

通常、セルロースアシレートフィルムを液晶表示装置用位相差フィルムとして使用する場合には、正面レターデーションＲｅ、厚さ方向のレターデーション（以下Ｒｔｈ）及びそれらの波長分散特性が非常に重要となる。
非塩素系有機溶媒を用いた場合には、溶剤を変更することによる新規製造設備の導入コストがかかるため、極力現行の素材（綿、可塑剤、など）と共通化を図る必要があった。
しかし、非塩素系有機溶媒は、塩素系有機溶媒と比べてセルロースアシレートを溶解させる能力が乏しく、溶解性の向上のためにはセルロースアシレートのアシル置換基の変更は必須である。そのため、可塑剤に塩素系有機溶媒で使用されているリン酸エステル系可塑剤を用いたとしても、高分子・溶剤変更に伴う要因変更のため、従来の塩素系有機溶媒で製造したフィルムの光学特性と同一のものを得ることができなくなる、即ち具体的には非塩素系溶媒で作製したフイルムは塩素系溶媒で作製したフイルムと比較してＲｔｈが大きくなるという弊害があった。
従って、塩素系有機溶媒で作製したフィルムと同一の光学特性を得るためにはＲｔｈを上昇させない（低下させるあるいは維持する）化合物を添加する必要性が生じる。一方で、溶媒種に関わらずＴＡＣフィルムはＲｔｈの波長分散が比較的大きい為、波長分散を小さくする化合物を添加することも望まれている。

非塩素系溶媒で作製したセルロースアシレートフイルムにおいては、紫外線吸収剤としてベンゾフェノン系の化合物を添加することが知られている（非特許文献１参照）。これらの化合物はＲｔｈの波長分散を小さくすることが明らかになってきている。しかしながら、これらに記載の化合物は分子量が小さいため、揮散性が大きく、セルロースアシレートフイルムの製造時にこれらの化合物が揮散し、製造機を汚染してしまうという弊害があった。

すなわち、化合物自体の揮散性が小さく、光学性能の点ではＲｔｈの波長分散を小さくし（具体的には、波長６００ｎｍ以上のＲｔｈは変化させずに６００ｎｍ以下のＲｔｈのみを上昇させる）かつ、Ｒｔｈを上昇させない化合物を添加したセルロースアシレートフイルムの開発が求められていた。
発明協会公開技法（公技番号２００１−１７４５） 第１７頁〜第１８頁

本発明は、非塩素系溶媒を用いてもＲｔｈ及びＲｔｈの波長分散が小さく、また製造工程の汚染の少ないセルロースアシレート組成物及びセルロースアシレートフィルムを提供すると共に、該セルロースアシレートフィルムを用いた偏光板及び画像表示装置を提供することを目的とする。

これらの目的は以下 １）〜 ７）の手段によって達成された。
１） アシル基への置換度が下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満足するセルロースアシレートと、下記一般式（１）で表され、かつ分子量が２５０以上１０００以下である化合物とを含有するセルロースアシレート組成物。
（Ｉ） ２．３≦ＳＡ＋ＳＢ≦３．０
（ＩＩ） １．５≦ＳＡ≦３．０
（ＩＩＩ） ０≦ＳＢ≦０．８
ここで、式中ＳＡ及びＳＢはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、ＳＡはアセチル基の置換度、またＳＢは炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度を表す。
一般式（１）：

（式中、Ｑ¹およびＱ²はそれぞれ独立に芳香族環を表す。ＸはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、酸素原子または硫黄原子を表す。）
２） 上記一般式（１）で表される化合物が１３３℃で1時間加熱した際の揮散性が１％以下であることを特徴とする上記 １）記載のセルロースアシレート組成物。
３） セルロースアシレートのアシル基への置換度が下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満足することを特徴とする上記 １）、２）記載のセルロースアシレート組成物。
（Ｉ） ２．８０≦ＳＡ＋ＳＢ≦２．９５
（ＩＩ） ２．８０≦ＳＡ≦２．９５
（ＩＩＩ） ０≦ＳＢ≦０．１
（式中ＳＡ及びＳＢはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、ＳＡはアセチル基の置換度、またＳＢは炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。）
４） 炭素原子数が３〜１２のエーテル類、炭素原子数が３〜１２のケトン類および炭素原子数が３〜１２のエステル類から選ばれる非塩素系有機溶媒のうち、少なくとも一種の溶媒を含有することを特徴とする上記 １）〜３）に記載のセルロースアシレート組成物。
５） 少なくとも３種の溶媒を含有することを特徴とする上記 ４）記載のセルロースアシレート組成物。
６） 上記 １）〜５）いずれかに記載のセルロースアシレート組成物からなるセルロースアシレートフィルム。
７） 下記式（ＩＶ）で定義されるＲｔｈレターデーション値において、上記化合物（１）を含むセルロースアシレートフィルムを波長６３２．８ｎｍで測定した値をＲｔｈ(ａ)、波長４００〜７００ｎｍで測定したＲｔｈ値の最大値から最小値を引いた値をＲｔｈ(Ａ)とし、一方、上記一般式（１）で表される化合物だけを含有しないセルロースアシレートフィルムを波長６３２．８ｎｍで測定したＲｔｈレターデーション値をＲｔｈ(ｂ)としたときに、下記式（Ｖ）、（ＶＩ）の全てを満足することを特徴とする請求項５記載のセルロースアシレートフィルム。
（ＩＶ） Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
（ｎｘ：フィルム面内の遅相軸方向の屈折率 ｎｙ：フィルム面内の進相軸方向の屈折率 ｎｚ：フィルムの厚み方向の屈折率 ｄ：フィルムの厚さ）
(Ｖ) −２０≦Ｒｔｈ(ａ)−Ｒｔｈ(ｂ)＜４０
(ＶＩ) ０≦Ｒｔｈ(Ａ)≦１５
８） 上記 ６）または ７）に記載のセルロースアシレートフィルムを有する位相差フィルム。
９） 上記 ６）または ７）に記載のセルロースアシレートフィルムを有する偏光板。
１０） 上記 ９）に記載の偏光版を用いた画像表示装置。

本発明によれば、非塩素系溶媒を用いてもＲｔｈ及びＲｔｈの波長分散が小さく、製造工程の汚染の少なく、かつ経時での劣化の小さいセルロースアシレートフィルム、及び該セルロースアシレートフィルムを用いた偏光板、画像表示装置が達成される。

まず、本発明一般式（１）で表される化合物に関して詳細に説明する。
一般式（１）：

（式中、Ｑ¹およびＱ²はそれぞれ独立に芳香族環を表す。ＸはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、酸素原子または硫黄原子を表す。）

Ｑ¹およびＱ²で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。

Ｑ¹およびＱ²で表される芳香族炭化水素環として好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。これらの中でも単環が好ましく、特に好ましくはベンゼン環である。

Ｑ¹およびＱ²で表される芳香族ヘテロ環として好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のいずれかを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ¹およびＱ²で表される芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換または無置換のベンゼン環である。
Ｑ¹およびＱ²は置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましく、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。但し、置換基にカルボン酸やスルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。これら親水性基は溶解性が低く、また透水率を悪化させる原因となる。

ＸはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。）、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｘとして好ましくはＮＲ(Ｒとして好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい。)、または酸素原子であり、特に好ましくは酸素原子である。

置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、

アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、

アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に上記置換基Ｔで置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

一般式（１）として好ましくは下記一般式（１−Ａ）で表される化合物である。
一般式（１−Ａ）：

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、およびＲ⁹はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、およびＲ⁹はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。

Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁸およびＲ⁹として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ²として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０の置換または無置換のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。

Ｒ⁷として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０の置換または無置換のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。

一般式（１）としてより好ましくは下記一般式（１−Ｂ）で表される化合物である。
一般式(１−Ｂ)：

（式中、Ｒ¹⁰は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表す。）

Ｒ¹⁰は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。
Ｒ¹⁰として好ましくは置換または無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜２０の置換または無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜１２の置換または無置換のアルキル基（ｎ−へキシル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる）であり、特に好ましくは、炭素数６〜１２の置換または無置換のアルキル基（２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基）である。

一般式（１）で表される化合物は特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の方法により合成できる。

以下に一般式（１）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

本発明においては、揮散性の観点から、上記一般式（１）で表される化合物の中でも分子量が２５０〜１０００であるものを用いる。より好ましくは分子量が２６０〜８００であり、更に好ましくは分子量が２７０〜７００であり、特に好ましくは分子量３００〜６００のものである。

揮散性はセイコーインスツルメント社製ＥＸＴＥＲ６０００ＴＧ／ＤＴＡを用いて、一般式（１）で表される化合物を窒素雰囲気下（流量２００ｍＬ／分）、２５℃〜１３３℃まで２０℃／分で加温し、１３３℃に達した後、１３３℃に到達後１０分後と７０分後の質量を基に式（ＶＩＩ）で表される方法によって算出した値である。

式（ＶＩＩ）
揮散性（質量％）＝１００×[（１３３℃に到達後１０分後の質量）―（１３３℃に到達後７０分後の質量）]／加熱前の質量

１３３℃で１時間加熱した際の一般式（１）で表される化合物の揮散性は、１質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０．６％以下であり、更に好ましくは０．４％以下であり、０．２％以下であることが特に好ましい。なお、揮散性は数種類の化合物を混ぜることによっても小さくすることが可能であり、本発明の化合物１種の揮散性でも本発明の化合物を数種混ぜたものの揮散性であってもよい。

本発明のセルロースアシレート組成物中における上記一般式（１）で表される化合物の含有量は、セルロースアシレート１００質量部に対して、好ましい含有量は０．００１〜２０質量％、より好ましく０．００１〜５質量％、更に好ましくは０．０１〜５質量％、特に好ましくは０．１〜５％、最も好ましくは０．５％〜３％である。

次に、本発明のセルロースアシレート組成物から形成される、セルロースアシレートフィルムの光学特性について述べる。本発明のセルロースアシレートフィルムは、波長６３２．８ｎｍで測定したＲｔｈレターデーション値をＲｔｈ(ａ)、波長４００〜７００ｎｍで測定したＲｔｈ値の最大値から最小値を引いた値をＲｔｈ(Ａ)とし、前記一般式（１）で表される化合物だけを含有しないセルロースアシレートフィルムの波長６３２．８ｎｍで測定したＲｔｈレターデーション値をＲｔｈ（ｂ）とした時に、下記式(Ｖ)、(ＶＩ)を同時に満たすことが好ましい。
(Ｖ) −２０≦Ｒｔｈ(ａ)−Ｒｔｈ(ｂ)＜４０
(ＶＩ) ０≦Ｒｔｈ（Ａ）≦１５
より好ましくは −１５≦Ｒｔｈ(ａ)−Ｒｔｈ(ｂ)＜３５、０≦Ｒｔｈ(Ａ)≦１３であり、更に好ましくは、−１０≦Ｒｔｈ(ａ)−Ｒｔｈ(ｂ)＜３０、０≦Ｒｔｈ（Ａ）≦１０である。ここでＲｔｈ値は次式で定義される。
（ＩＶ） Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
[ｎｘ：フィルム面内の遅相軸方向の屈折率 ｎｙ：フィルム面内の進相軸方向の屈折率 ｎｚ：フィルムの厚み方向の屈折率 ｄ：フィルムの厚さ]

本発明のセルロースアシレートフィルムは、一般式（１）で表される化合物を含むので、Ｒｔｈは式(Ｖ)で表されるような増減効果を示し、なおかつ、式（ＶＩ）で表されるように、セルロースアシレートフィルム自体のＲｔｈ波長分散への影響が、波長４００〜７００ｎｍで小さくなるのが特徴である。但し、式(Ｖ)、（ＶＩ）を満たすような一般式（１）化合物の含有量は、セルロースアシレートに対して上述の含有量であることが好ましく、入れすぎると析出を起こし強制条件下で経時の光学特性変化が著しい。

本発明のセルロースアシレートフィルムのＲｔｈはフィルムの膜厚が６０μｍのとき、好ましくは５〜４００ｎｍ、より好ましくは８〜３５０ｎｍ、更に好ましくは１０〜３００ｎｍの範囲である。また、次式 Ｒｅ＝(ｎｘ−ｎｙ)×ｄで定義される正面レターデーションＲｅ値は、好ましくは０〜１００ｎｍ、より好ましくは０．１〜８０ｎｍ、更に好ましくは０．２〜７０ｎｍである。

次に、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートについて詳細に記載する。本発明において用いるセルロースアシレートは、セルロースの水酸基のアシル基への置換度が下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満足するセルロースアシレートである。本発明においては異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いても良い。
（Ｉ） ２．３≦ＳＡ＋ＳＢ≦３．０
（ＩＩ） １．５≦ＳＡ≦３．０
（ＩＩＩ） ０≦ＳＢ≦０．８
ここで、式中ＳＡ及びＳＢはセルロースの水酸基位に置換されているアシル基の置換度を表し、ＳＡはアセチル基の置換度、またＳＢは炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度である。
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部をアシル基に置換した（すなわちエステル化した）重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位および６位のそれぞれについて、セルロースがエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１）を意味する。

本発明では、水酸基のＳＡとＳＢの置換度の総和は、より好ましくは２．７〜２．９６であり、特に好ましくは２．８０〜２．９５である。また、ＳＡは２．５〜２．９５がより好ましく、２．８０〜２．９５であることがより好ましい。ＳＢは０〜０．６がより好ましく、特に好ましくは０〜０．４、最も好ましくは０〜０．1である。さらにＳＢのうち、６位水酸基が置換された割合は２８％以上であるが、より好ましくは３０％以上、さらに好ましくは３１％以上であり、３２％以上であることが特に好ましい。
また、セルロースアシレートの６位のＳＡとＳＢの置換度の総和が０．８以上、好ましくは０．８５、特に好ましくは０．９０であるセルロースアシレートフィルムも好ましい。
これら６位置換度の大きいセルロースアシレートの合成については、特開平１１−５８５１、特開２００２−２１２３３８号や特開２００２−３３８６０１号などに記載がある。
上記セルロースアシレートフィルムにより溶解性の好ましい溶液が作製でき、特に非塩素系有機溶媒において良好な溶液の作製が可能となる。

本発明のセルロースアシレートの炭素数３〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれ更に置換された基を有していてもよい。これらの好ましい例としては、プロピオニル、ブタノイル、ケプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、iso−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイル基が好ましい。

セルロースアシレートの合成方法の基本的な原理は、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年）に記載されている。代表的な合成方法は、カルボン酸無水物−酢酸−硫酸触媒による液相酢化法である。具体的には、綿花リンタや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート（２位、３位および６位のアシル置換度の合計が、ほぼ３．００）を合成する。上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸および触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロースおよび系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。アシル化反応終了後に、系内に残存している過剰の無水カルボン酸の加水分解およびエステル化触媒の一部の中和のために、中和剤（例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウムまたは亜鉛の炭酸塩、酢酸塩または酸化物）の水溶液を添加する。次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒（一般には、残存する硫酸）の存在下で、５０〜９０℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度および重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和するか、あるいは中和することなく水または希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入（あるいは、セルロースアシレート溶液中に、水または希硫酸を投入）してセルロースアシレートを分離し、洗浄および安定化処理によりセルロースアシレートを得る。

本発明のセルロースアシレートフィルムは、フイルムを構成するポリマー成分が実質的に上記の定義を有するセルロースアシレートからなることが好ましい。『実質的に』とは、ポリマー成分の５５質量％以上（好ましくは７０質量％以上、さらに好ましくは８０質量％以上）を意味する。フイルム製造の原料としては、セルロースアシレート粒子を使用することが好ましい。使用する粒子の９０質量％以上は、０．５〜５ｍｍの粒子径を有することが好ましい。また、使用する粒子の５０質量％以上が１〜４ｍｍの粒子径を有することが好ましい。セルロースアシレート粒子は、なるべく球形に近い形状を有することが好ましい。

本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度２００〜７００、好ましくは２５０〜５５０、更に好ましくは２５０〜４００であり、特に好ましくは粘度平均重合度２５０〜３５０である。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。更に特開平９−９５５３８に詳細に記載されている。

また、本発明では粘度平均重合度１００以下に相当の低分子成分の除去を実施することが好ましい。
低分子成分の除去によって平均分子量（重合度）が高くなるものの、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため、有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができ、その除去はセルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００重量に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量分布の均一なセルロースアシレートを合成することができる。また本発明のセルロースアシレートの含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、０．７質量％以下であることが特に好ましい。一般に、セルロースアシレートは水の含有率が高く、２．５〜５質量％であることが知られている。本発明においてセルロースアシレートを上記好ましい含水率とするためには、乾燥工程が必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。
本発明のこれらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）、７頁〜１２頁に詳細に記載されている。

本発明のセルロースアシレートフィルムは、上記セルロースアシレートと一般式（１）で表される化合物とを後に述べる有機溶媒に溶解させたセルロースアシレート溶液（ドープ）から製造することができる。
本発明のセルロースアシレート溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、光学異方性コントロール剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではなく、例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線防止剤の混合や、同様に可塑剤の混合など（例えば特開２００１−１５１９０１号などに記載されている）が可能である。
赤外吸収剤としては例えば特開２００１−１９４５２２号に記載される赤外吸収染料などが挙げられる。
また添加する時期は、ドープ作製工程の何れで添加してもよく、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更に、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、セルロースアシレートフィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。一般式（１）で表わされる化合物についても同様である。例えば特開２００１−１５１９０２号などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。
さらに、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）、１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。

次に、本発明のセルロースアシレートを溶解する有機溶媒について記述する。
まず、本発明のセルロースアシレートの溶液を作製するに際して好ましく用いられる非塩素系有機溶媒について記載する。本発明においては、セルロースアシレートが溶解し流延・製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りは、非塩素系有機溶媒は特に限定されないが、本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテルから選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができる。また例えばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。炭素原子数が３〜１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが挙げられる。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが挙げられる。

以上のセルロースアシレートに用いられる非塩素系有機溶媒については、前述の様々な観点から選定されるが、好ましくは以下の通りである。すなわち、本発明のセルロースアシレートの好ましい溶媒は、互いに異なる３種類以上の混合溶媒であり、より好ましくは４種類以上の混合溶媒であって
第１の溶媒が酢酸メチル、酢酸エチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、アセトン、ジオキソラン、ジオキサンから選ばれる少なくとも一種あるいは或いはそれらの混合液であり、
第２の溶媒が炭素原子数が４〜７のケトン類またはアセト酢酸エステルから選ばれ、
第３の溶媒として炭素数が１〜１０のアルコールまたは炭化水素から選ばれ、より好ましくは炭素数１〜８のアルコールであり、
第４の溶媒としては炭素数が１〜１０のアルコールまたは炭化水素から選ばれ、より好ましくは炭素数１〜８のアルコールである。
なお第１の溶媒が、２種以上の溶媒の混合液である場合は、第２の溶媒がなくてもよい。第１の溶媒は、さらに好ましくは酢酸メチル、アセトン、蟻酸メチル、蟻酸エチルあるいはこれらの混合物であり、第２の溶媒は、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセチル酢酸メチルが好ましく、これらの混合液であってもよい。

第３、４の溶媒であるアルコールは好ましくは、直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノールおよびシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなども挙げられる。
さらに、第３、４の溶媒である炭化水素も、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよく、芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれをも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。上記炭化水素の例としては、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンが挙げられる。
これらの第３、４の溶媒であるアルコールおよび炭化水素は単独でもよいし２種類以上の混合物でも良く、特に限定されない。第３、４の溶媒として好ましい具体的化合物は、アルコールとしてはメタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、シクロヘキサノールであり、炭化水素としてはシクロヘキサン、ヘキサンを挙げることができるが、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールが特に好ましい。
なお、３種類の混合溶媒を用いる場合には、第３及び第４の溶媒から一種選択して用いることができる。

以上の４種類の混合溶媒は、第１の溶媒が２０〜９５質量％、第２の溶媒が２〜６０質量％、第３の溶媒が２〜３０質量％、第４の溶媒が２〜３０質量の比率で含まれることが好ましく、第１の溶媒が３０〜９０質量％であり、第２の溶媒が３〜５０質量％、第３、４のアルコールがそれぞれ３〜２５質量％含まれることがより好ましい。更に好ましくは、第１の溶媒が３０〜９０質量％であり、第２の溶媒が３〜３０質量％、第３、４の溶媒がともにアルコールであり３〜１５質量％含まれる場合である。
なお、第１の溶媒が混合液で第２の溶媒を用いない場合は、第１の溶媒が２０〜９０質量％、第３、４の溶媒がそれぞれ５〜３０質量％の比率で含まれることが好ましく、第１の溶媒が３０〜８６質量％であり、さらに第３、４の溶媒がそれぞれ７〜２５質量％含まれることがより好ましい。
また、３種類の混合溶媒の場合には、第１の溶媒が２０〜９５質量％、第２の溶媒が２〜６０質量％、第３又は第４のどちらか一方の溶媒が４〜６０質量％の比率で含まれることが好ましい。
以上の本発明で用いられる非塩素系有機溶媒は、さらに詳細には発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）、１２頁〜１６頁に詳細に記載されている。本発明の好ましい非塩素系有機溶媒の組合せは以下挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

・酢酸メチル／アセトン／メタノール／エタノール／ブタノール（７５／１０／５／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／メタノール／エタノール／プロパノール（７５／１０／５／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／メタノール／ブタノール／シクロヘキサン（７５／１０／５／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８１／８／７／４、質量部）
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８２／１０／４／４、質量部）
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８０／１０／４／６、質量部）
・酢酸メチル／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール（８０／１０／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／メチルエチルケトン／エタノール／イソプロパノール（７５／１０／１０／５／７、質量部）、
・酢酸メチル／シクロペンタノン／メタノール／イソプロパノール（８０／１０／５／８、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／ブタノール（８５／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／シクロペンタノン／アセトン／メタノール／ブタノール（６０／１５／１５／５／６、質量部）、
・酢酸メチル／シクロヘキサノン／メタノール／ヘキサン（７０／２０／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール （５０／２０／２０／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／１、３ジオキソラン／メタノール／エタノール （７０／２０／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／ジオキサン／アセトン／メタノール／エタノール （６０／２０／１０／５／５、質量部）、
・酢酸メチル／アセトン／シクロペンタノン／エタノール／イソブタノール／シクロヘキサン （６５／１０／１０／５／５／５、質量部）、

・ギ酸メチル／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール （５０／２０／２０／５／５、質量部）、
・ギ酸メチル／アセトン／酢酸エチル／エタノール／ブタノール／ヘキサン （６５／１０／１０／５／５／５、質量部）、
・アセトン／アセト酢酸メチル／メタノール／エタノール （６５／２０／１０／５、質量部）、
・アセトン／シクロペンタノン／エタノール／ブタノール （６５／２０／１０／５、質量部）、
・アセトン／１，３ジオキソラン／エタノール／ブタノール （６５／２０／１０／５、質量部）、
・１、３ジオキソラン／シクロヘキサノン／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール （５５／２０／１０／５／５／５、質量部）
などをあげることができる。

更に下記の方法でセルロースアシレート溶液を用いることもできる。
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８１／８／７／４、質量部）でセルロースアシレート溶液を作製し、ろ過・濃縮後に２質量部のブタノールを追加添加
・酢酸メチル／アセトン／エタノール／ブタノール（８１／１０／４／２、質量部）でセルロースアシレート溶液を作製し、ろ過・濃縮後に４質量部のブタノールを追加添加
・酢酸メチル／アセトン／エタノール（８４／１０／６、質量部）でセルロースアシレート溶液を作製し、ろ過・濃縮後に５質量部のブタノールを追加添加
本発明に用いるドープ（セルロースアシレート溶液）には、上記本発明の非塩素系有機溶媒以外に、ジクロロメタンを本発明の全有機溶媒量の１０質量％以下含有させてもよい。

また、本発明のセルロースアシレートの溶液を作製するに際しては、主溶媒として塩素系有機溶媒を用いても良く、以下にその詳細を説明する。本発明においては、セルロースアシレートが溶解し流延、製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りはその塩素系有機溶媒は特に限定されない。これらの塩素系有機溶媒は、好ましくはジクロロメタン、クロロホルムである。特にジクロロメタンが好ましい。また、塩素系有機溶媒以外の有機溶媒を混合することも特に問題ない。その場合は、ジクロロメタンは少なくとも５０質量％以上使用することが必要である。

主溶媒として塩素系有機溶媒を用いた場合における、併用可能な非塩素系有機溶媒について以下に記す。すなわち、好ましい非塩素系有機溶媒としては、炭素原子数が３〜１２のエステル、炭素原子数が３〜１２のケトン、炭素原子数が３〜１２のエーテル、アルコール、炭化水素等から選ばれる溶媒が好ましい。これらエステル、ケトン、エーテル、アルコールおよび炭化水素は、環状構造を有していてもよい。また、エステル、ケトンおよびエーテル、アルコールの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−および−ＯＨ）のいずれかを二つ以上有する化合物も溶媒として用いることが可能である。二種類以上の官能基を有する溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。

炭素原子数が３〜１２のエステル類の例としては、酢酸メチル、酢酸エチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、アセト酢酸エステルおよびペンチルアセテートが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のケトン類の例としては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが挙げられる。炭素原子数が３〜１２のエーテル類の例としては、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが挙げられる。

塩素系有機溶媒と併用されるアルコールとしては、好ましくは直鎖であっても分枝を有していても環状であってもよく、その中でも飽和脂肪族炭化水素であることが好ましい。アルコールの水酸基は、第一級〜第三級のいずれであってもよい。アルコールの例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、ｔ−ブタノール、１−ペンタノール、２−メチル−２−ブタノールおよびシクロヘキサノールが含まれる。なおアルコールとしては、フッ素系アルコールも用いられる。例えば、２−フルオロエタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−テトラフルオロ−１−プロパノールなども挙げられる。
炭化水素としては、直鎖であっても分岐を有していても環状であってもよく、芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素のいずれも用いることができる。脂肪族炭化水素は、飽和であっても不飽和であってもよい。炭化水素の例として、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンが挙げられる。
二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例としては、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが挙げられる。

塩素系有機溶媒を主溶媒としたときのセルロースアシレート溶液において、併用される非塩素系有機溶媒については特に限定されないが、酢酸メチル、酢酸エチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、アセトン、１，３−ジオキソラン、１，４-ジオキサン、炭素原子数が３〜１２のケトン類またはアセト酢酸エステル、炭素数が１〜１０のアルコールまたは炭化水素から選ばれることが好ましい。なお、より好ましく併用される非塩素系有機溶媒としては、酢酸メチル、アセトン、蟻酸メチル、蟻酸エチル、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、アセト酢酸メチル、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、およびシクロヘキサノール、シクロヘキサン、ヘキサンを挙げることができる。本発明において塩素系有機溶媒を主溶媒としたときの好ましい組合せとしては以下を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。

・ジクロロメタン／メタノール／エタノール／ブタノール（７５／１０／５／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／アセトン／メタノール／プロパノール（８０／１０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／メタノール／ブタノール／シクロヘキサン（７５／１０／５／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／メチルエチルケトン／メタノール／ブタノール（８０／１０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／アセトン／メチルエチルケトン／エタノール／イソプロパノール（７５／１０／１０／５／７、質量部）、
・ジクロロメタン／シクロペンタノン／メタノール／イソプロパノール（８０／１０／５／８、質量部）、
・ジクロロメタン／酢酸メチル／ブタノール（８０／１０／１０、質量部）、
・ジクロロメタン／シクロヘキサノン／メタノール／ヘキサン（７０／２０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール （５０／２０／２０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／１、３ジオキソラン／メタノール／エタノール （７０／２０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／ジオキサン／アセトン／メタノール／エタノール （６０／２０／１０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／アセトン／シクロペンタノン／エタノール／イソブタノール／シクロヘキサン （６５／１０／１０／５／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／メチルエチルケトン／アセトン／メタノール／エタノール （７０／１０／１０／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／アセトン／酢酸エチル／エタノール／ブタノール／ヘキサン （６５／１０／１０／５／５／５、質量部）、
・ジクロロメタン／アセト酢酸メチル／メタノール／エタノール （６５／２０／１０／５、質量部）、
・ジクロロメタン／シクロペンタノン／エタノール／ブタノール （６５／２０／１０／５、質量部）、
などをあげることができる。

本発明のセルロースアシレート溶液は、有機溶媒にセルロースアシレートが１０〜３０質量％溶解した溶液であるが、より好ましくは１３〜２７質量％であり、特に好ましくは１５〜２５質量％溶解していることが好ましい。これらの濃度にセルロースアシレートを調製する方法は、溶解時に所定の濃度になるように調製してもよく、また予め低濃度溶液（例えば９〜１４質量％）として作製した後に後述する濃縮工程で所定の高濃度溶液に調整してもよい。さらに、予め高濃度のセルロースアシレート溶液として後に、種々の添加物を添加することで所定の低濃度のセルロースアシレート溶液としてもよく、いずれの方法で本発明のセルロースアシレート溶液濃度になるように調製されておれば特に問題ない。

次に本発明のセルロースアシレート溶液（ドープ）の調製については、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。これらに関しては、例えば特開平５−１６３３０１、特開昭６１−１０６６２８、特開昭５８−１２７７３７、特開平９−９５５４４、特開平１０−９５８５４、特開平１０−４５９５０、特開２０００−５３７８４、特開平１１−３２２９４６、さらに特開平１１−３２２９４７、特開平２−２７６８３０、特開２０００−２７３２３９、特開平１１−７１４６３、特開平０４−２５９５１１、特開２０００−２７３１８４、特開平１１−３２３０１７、特開平１１−３０２３８８などにセルロースアシレート溶液の調製法が記載されている。以上記載したこれらのセルロースアシレートの有機溶媒への溶解方法は、本発明においても適宜本発明の範囲であればこれらの技術を適用できるものである。これらの詳細は、特に非塩素系溶媒系については発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている方法で実施される。さらに本発明のセルロースアシレートのドープ溶液は、溶液濃縮，ろ過が通常実施され、同様に発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁に詳細に記載されている。なお、高温度で溶解する場合は、使用する有機溶媒の沸点以上の場合がほとんどであり、その場合は加圧状態で用いられる。

本発明のセルロースアシレート溶液は、その溶液の粘度と動的貯蔵弾性率がある範囲であることが好ましい。試料溶液１ｍＬをレオメーター(ＣＬＳ ５００)に直径 ４ｃｍ／２°のＳｔｅｅｌ Ｃｏｎｅ(共にＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｎｔｓ社製)を用いて測定した。測定条件はＯｓｃｉｌｌａｔｉｏｎ Ｓｔｅｐ／Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ Ｒａｍｐで ４０℃〜−１０℃の範囲を２℃/分で可変して測定し、４０℃の静的非ニュートン粘度 ｎ＊(Ｐａ・ｓ)および−５℃の貯蔵弾性率 Ｇ’(Ｐａ)を求めた。尚、試料溶液は予め測定開始温度にて液温一定となるまで保温した後に測定を開始した。本発明では、４０℃での粘度が１〜４００Ｐａ・ｓ、１５℃での動的貯蔵弾性率が５００Ｐａ以上であることが好ましく、より好ましくは４０℃での粘度が１０〜２００Ｐａ・ｓ、１５℃での動的貯蔵弾性率が５００〜１００万Ｐａであることが好ましい。さらに低温での動的貯蔵弾性率が大きいほど好ましく、例えば流延支持体が−５℃の場合は動的貯蔵弾性率が−５℃で１万〜１００万Ｐａであることが好ましく、支持体が−５０℃の場合は−５０℃での動的貯蔵弾性率が１万〜５００万Ｐａが好ましい。

次に、本発明のセルロースアシレート溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明のセルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。
溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。ハロゲン化銀写真感光材料や電子ディスプレイ用機能性保護膜に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が用いられることが多い。これらの各製造工程については、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載され、流延（共流延を含む），金属支持体，乾燥，剥離，延伸などに分類される。

ここで、本発明においては流延部の空間温度は特に限定されないが、−５０〜５０℃であることが好ましい。更には−３０〜４０℃であることが好ましく、特には−２０〜３０℃であることが好ましい。特に低温での空間温度により流延されたセルロースアシレート溶液は、支持体の上で瞬時に冷却されゲル強度アップすることでその有機溶媒を含んだフィルムを保持することができる。これにより、セルロースアシレートから有機溶媒を蒸発させることなく、支持体から短時間で剥ぎ取ることが可能となり、高速流延が達成できるものである。なお、空間を冷却する手段としては通常の空気でもよいし窒素やアルゴン、ヘリウムなどでもよく特に限定されない。またその場合の湿度は０〜７０％ＲＨが好ましく、さらには０〜５０％ＲＨが好ましい。また、本発明ではセルロースアシレート溶液を流延する流延部の支持体の温度は−５０〜１３０℃であり、好ましくは−３０〜２５℃、より好ましくは−２０〜１５℃である。流延部を本発明の温度に保つためには、流延部に冷却した気体を導入してもよく、あるいは冷却装置を流延部に配置して空間を冷却してもよい。この時、水が付着しないように注意することが重要であり、乾燥した気体を利用するなどの方法で実施できる。

本発明においてその各層の内容と流延については、特に以下の構成が好ましい。すなわち、セルロースアシレート溶液が２５℃である場合において、少なくとも一種の液体又は固体の可塑剤をセルロースアシレートに対して０．１〜２０質量％含有しているセルロースアシレート溶液であること、及び／又は少なくとも一種の液体又は固体の紫外線吸収剤をセルロースアシレートに対して０．００１〜５質量％含有しているセルロースアシレート溶液であること、及び／又は少なくとも一種の固体でその平均粒径が５〜３０００ｎｍである微粒子粉体をセルロースアシレートに対して０．００１〜５質量％含有しているセルロースアシレート溶液であること、及び／又は少なくとも一種のフッ素系界面活性剤をセルロースアシレートに対して０．００１〜２質量％含有しているセルロースアシレート溶液であること、及び／又は少なくとも一種の剥離剤をセルロースアシレートに対して０．０００１〜２質量％含有しているセルロースアシレート溶液であること、及び／又は少なくとも一種の劣化防止剤をセルロースアシレートに対して０．０００１〜２質量％含有しているセルロースアシレート溶液であること、及び／又は少なくとも一種の光学異方性コントロール剤をセルロースアシレートに対して０．１〜１５質量％含有していること、及び／又は少なくとも一種の赤外吸収剤をセルロースアシレートに対して０．１〜５質量％含有しているセルロースアシレート溶液であること、を特徴とするのセルロースアシレート溶液およびそれから作製されるセルロースアシレートフィルムが好ましい。

流延工程では１種類のセルロースアシレート溶液を単層流延してもよいし、２種類以上のセルロースアシレート溶液を同時及び又は逐次共流延しても良い。２層以上からなる流延工程を有する場合は、作製されるセルロースアシレート溶液及びセルロースアシレートフィルムにおいて、各層の塩素系溶媒の組成、溶液中の添加剤の濃度、各層の会合体分子量、各層の塗布量、各層の粘度、各層の溶液の温度、各層の物性、及び各層の乾燥後の膜厚がそれぞれ同一であるか異なっているかのどちらか一方であること、各層の添加剤が一種類であるかあるいは２種類以上の混合物のどちらか一方であること、各層への添加剤の添加位置が同一層であるか異なる層のどちらか一方であること、各層に存在する素材が同一状態あるいは分布であるか異なる状態あるいは分布であること、及び各層の物性が均一であるか異なる物性の分布のどちらか一方であることを特徴とするセルロースアシレート溶液及びその溶液から作製されるセルロースアシレートフィルムであることも好ましい。ここで、物性とは発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の６頁〜７頁に詳細に記載されている物性を含むものであり、例えばヘイズ、透過率、分光特性、レターデーションＲｅ、同Ｒｔｈ、分子配向軸、軸ズレ、引裂強度、耐折強度、引張強度、巻き内外Ｒｔ差、キシミ、動摩擦、アルカリ加水分解、カール値、含水率、残留溶剤量、熱収縮率、高湿寸度評価、透湿度、ベースの平面性、寸法安定性、熱収縮開始温度、弾性率、及び輝点異物の測定などであり、さらにはベースの評価に用いられるインピーダンス、面状も含まれるものである。また、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１１頁に詳細に記載されているセルロースアシレートのイエローインデックス、透明度、熱物性（Ｔｇ、結晶化熱）なども挙げることが出来る。

セルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００Ｋｅｖ下で２０〜５００Ｋｇｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００Ｋｅｖ下で２０〜３００Ｋｇｙの照射エネルギーが用いられる。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフィルムの表面処理としては極めて有効である。

アルカリ鹸化処理は、鹸化液を塗布することで行う。塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法およびＥ型塗布法を挙げることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液の透明支持体に対して塗布するために濡れ性が良く、また鹸化液溶媒によって透明支持体表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒以上５分以下が好ましく、５秒以上５分以下がさらに好ましく、２０秒以上３分以下が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。
また、塗布式鹸化処理と後述の配向膜解塗設を、連続して行うことができ、工程数を減少できる。

また、例えばハロゲン化銀写真感光材料の保護膜として、本発明のセルロースアシレートフィルムを用いる場合には、フィルムと乳剤層との接着を達成するために、表面活性化処理をしたのち、直接セルロースアシレートフィルム上に機能層を塗布して接着力を得る方法と、一旦何がしかの表面処理をした後、あるいは表面処理なしで、下塗層（接着層）を設けこの上に機能層を塗布する方法とがある。これらの下塗層についての詳細は、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の３２頁に記載されている。また本発明のセルロースアシレートフィルムの機能性層についても各種の機能層が発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の３２頁〜４５頁に詳細に記載されている。

本発明で作製されたセルロースアシレートの用途についてまず簡単に述べる。本発明の光学フィルムは特に偏光板保護フィルム用として有用である。偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができ、例えば、得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、これをポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法が可能である。また、アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、特開平６−１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施してもよい。保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶を含む基板が配置されているが、本発明の光学フィルムを適用した偏光板保護フィルムはどの部位に配置しても優れた表示性が得られる。特に液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フィルムには透明ハードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板保護フィルムをこの部分に用いることが特に好ましい。

本発明のセルロースアシレートフィルムは、様々な用途で用いることが可能であるが、位相差フィルムとして液晶表示装置の光学補償シートに用いると有効である。

本発明のセルロースアシレートフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることが可能であり、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されており、本発明のセルロースアシレートフィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
本発明のセルロースアシレートフィルムを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。
本発明のセルロースアシレートフィルムを、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（△ｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（△ｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある（ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある）。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として特に有利に用いられる。また本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。

本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の光学補償シートとしても有利に用いられる。これらの表示モードは古くから良く知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、ＷＯ９８４８３２０号、特許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、ＷＯ００−６５３８４号に記載がある。本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ ｅｔ ａｌ．， ＳＩＤ ９８ Ｄｉｇｅｓｔ １０８９ （１９９８））に記載がある。以上述べてきたこれらの詳細なセルロースアシレートフィルムの用途は発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の４５頁〜５９頁に詳細に記載されている。
以下に本発明のセルロースアシレートについての具体的な実施態様を記述するが、これらに限定されるものではない。

（実施例１）
＜揮散性評価＞
揮散性はセイコーインスツルメント社製ＥＸＴＥＲ６０００ＴＧ／ＤＴＡを用いて、化合物１〜７を窒素雰囲気下（流量２００ｍL／分）、２５℃〜１３３℃まで２０℃/分で加温し、１３３℃に達した後、１３３℃に到達後１０分後と７０分後の質量を元に式（ＶＩＩ）で表される方法によって算出した。

式(ＶＩＩ)
揮散性（質量％）＝１００×[（１３３℃に到達後１０分後の質量）―（１３３℃に到達後７０分後の質量）]／加熱前の質量

表１の結果より、本発明の化合物は揮散性が小さいことが分かる。
（実施例２）
各実施例において、セルロースアシレートのフイルム状態における化学的性質及び物理的性質は、以下のように測定および算出した。

（１）光学特性評価
得られたフィルムを２５℃ ６０％ＲＨで２時間以上調湿後、エリプソメーター（Ｍ−１５０、日本分光（株）製）を用いてレターデーション Ｒｅ、Ｒｔｈを測定した。フィルムの幅方向で１０点等間隔でサンプリングし、その平均値を求めた。

（２）強制条件下でのＵＶ吸収特性変化
得られたフィルムを単体で６０℃ ９０％ＲＨの恒温恒湿庫に静置し、５００時間経過させたのちに、分光光度計（ＵＶ−３１５０）を用いて波長１９０ｎｍ〜７８０ｎｍの吸収スペクトルを測定し、サーモ経時前の試料の吸収スペクトルとの差を求め、Δ透過率（サーモ前後）とした。評価基準は以下の通りである。
Ａ：Δ透過率が０．２％未満
Ｂ：Δ透過率が０．２％以上０．４％未満
Ｃ：Δ透過率が０．４％以上０．６％未満
Ｄ：Δ透過率が０．６％以上

（３）フィルムの剥げ残り
得られたフィルムを支持体から剥ぎ取る際の支持体表面を目視で観察し、セルロースアシレートフィルムの剥げ残りを以下の如く評価した。
Ａ：支持体に剥げ残りは認められない。
Ｂ：支持体に剥げ残りがわずかに認められた。
Ｃ：支持体に剥げ残りがかなり認められた。
Ｄ：支持体に剥げ残りが多量認められた。

（４）フィルムの横段ムラ（ムラと略称）
得られたフィルムを目視で観察し、その横段状ムラの欠陥を以下の如く評価した。
Ａ：フィルムに横段ムラは認められない。
Ｂ：フィルムに横段ムラがわずかに認められた。
Ｃ：フィルムに横段ムラがかなり認められた。
Ｄ：フィルムに横段ムラが多量認められた。

（５）フィルムのブツ（ブツと略称）
得られたフィルムを目視で観察し、その表面上のブツを以下の如く評価した。
Ａ：フィルム表面にブツは認められなかった。
Ｂ：フィルム表面にブツがわずかに認められた。
Ｃ：フィルム表面にかなりのブツが認められた。
Ｄ：フィルム表面に凹凸が見られ、ブツが多数認められた。

（６）フイルムのヘイズ
ヘイズ計（１００１ＤＰ型、日本電色工業（株）製）を用いて測定した。

（７）泣出し
得られたフィルムを目視で観察を行い、以下のように評価した。
×：フィルムが白濁し結晶が付着
○：白濁は観察されず
◎：全く白濁は観察されず

（２−１）セルロースアシレート溶液の作製
＜試料１−１溶液＞
攪拌羽根を有し外周を冷却水が循環する４００Ｌのステンレス性溶解タンクに、表２記載の添加剤および下記の溶媒混合溶液によく攪拌・分散しつつ、下記記述のセルローストリアセテート粉体（フレーク状：アセチル置換度２．８２、粘度平均重合度３２０、含水率０．４質量％、ジクロロメタン溶液中６質量％の粘度３０５ｍＰａ・ｓ、平均粒子径１．５ｍｍであって標準偏差０．５ｍｍである粉体、残存酢酸量は０．１質量％以下、Ｃａが０．０５質量％、Ｍｇは０．００７質量％、Ｆｅは５ｐｐｍ、６位アセチル基は０．９５であり全置換基の３３％、重量平均分子量と数平均分子量の比は０．５、ヘイズは０．０８、透明度は９３．５％、Ｔｇは１６０℃、結晶化発熱量は６．２Ｊ／ｇ）を徐々に添加し、全体が２００ｋｇになるように仕込んだ。また本発明に係る化合物（ＵＶ−１）を０．５６ｋｇこれに添加した。なお、溶媒である酢酸メチル、ブタノール、アセトン、メタノール及びエタノールは、すべてその含水率が０．２質量％以下のものを利用した。
まず、セルローストリアセテートの粉末は、分散タンクに紛体が投入されタンク内を１３００Ｐａに減圧し、攪拌剪断速度を最初は１５ｍ／ｓｅｃ（剪断応力５×１０⁴ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ²）の周速で攪拌するディゾルバータイプの偏芯攪拌軸および、中心軸にアンカー翼を有して周速１ｍ／ｓｅｃ（剪断応力１×１０⁴ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ²）で攪拌する条件下で３０分間分散した。分散の開始温度は２５℃であり、冷却水を流水することにより最終到達温度を３５℃とした。分散終了後、高速攪拌は停止し、アンカー翼の周速を０．５ｍ／ｓｅｃとしてさらに１００分間攪拌し、セルローストリアセテートフレークを膨潤させた。膨潤終了までは窒素ガスでタンク内を０．１２ＭＰａになるように加圧した。この際のタンク内の酸素濃度は２ｖｏｌ％未満であり防爆上で問題のない状態を保った。またドープ中の水分量は０．２質量％以下であることを確認した。なお、ドープには表２に示す可塑剤等の添加剤を含有させた。
上記方法により作製した試料１−１セルロースアシレート溶液の組成は以下の通りである。

次に、得られた不均一なゲル状溶液を軸中心部を３０℃に加温したスクリューポンプで送液して、そのスクリュー外周部から冷却して−７５℃で３分間となるように冷却部分を通過させた。冷却は冷凍機で冷却した−８０℃の冷媒を用いて実施した。そして、冷却により得られた溶液はスクリュ−ポンプで送液中に３５℃に加温されてステンレス製の容器に移送した。５０℃で２時間攪拌し均一溶液とした後、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（東洋濾紙（株）製、＃６３）でろ過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの濾紙（ポール社製、ＦＨ０２５）にて濾過した。次いで得られた濾液を送液パイプの加温部圧力部で１１０℃、１ＭＰａに加温し、常圧（約０．１Ｍｐａ）に放出することで有機溶媒を揮発させて、冷却して温度４０℃のセルローストリアセテート濃度２２．１％の溶液を得た。この溶液をよく攪拌しつつ、セルローストリアセテート固形分に対してブタノール２質量％を徐々に添加して、均一溶液を得た。この溶液の粘度（４０℃）は１０３Ｐａ・ｓであり、また動的貯蔵弾性率（１５℃）は８５０Ｐａであった。

＜比較試料 ０−１溶液＞
上記試料 １−１溶液の作製において、化合物（ＵＶ−１）を添加しなかった以外は同様の方法で、比較試料０−１を作製した。

また、試料１−１溶液の作製において、本発明に係る化合物種、比較化合物種、及びその添加量を変更した以外は、全て同様の方法で、試料溶液１−２〜１−９、及び比較試料溶液０−２、０−３をそれぞれ作製した（表３参照）。

（２−３）セルローストリアセテートフィルムの作製
上述のろ過済みの５０℃のセルローストリアセテート溶液を、流延ギーサーを通して直径３ｍのドラムである鏡面ステンレス支持体上に流延した（支持体の温度は−５℃に設定した）。使用したギーサーは、特開平１１−３１４２３３号に記載の形態に類似するものを用いた。なお流延スピードは７５ｍ／分でその塗布幅は２００ｃｍとした。流延部の全体の空間部の温度は１５℃に設定した。そして、流延部から５０ｃｍ手前で流延して回転してきたセルロースアシレートフィルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターでクリップした。しかる後にピンテンターで保持されたセルロースアシレートフィルムを乾燥ゾーンに搬送した。まず初めの乾燥は４５℃の乾燥風を送風した。さらに１１０℃、５分、更に１４５℃で１０分乾燥（フィルム温度は約１４０℃）して、セルローストリアセテートフィルム（膜厚６０μｍ）を得た。得られた試料は両端を３ｃｍ裁断しさらに端から２〜１０ｍｍの部分に高さ１００μｍのアニーリングを実施し、ロール状に巻き取り、セルローストリアセテートフィルム試料１−１フイルムを作製した。
また、比較試料０−１〜０−３溶液および試料１−２ 〜 １−９溶液を用いて、比較試料０−１ 〜 ０−３フイルムおよび試料１−２ 〜 １−９フイルムをそれぞれ同様の方法で作製した。これらのフィルムの膜厚は、それぞれ６０μｍであった。

得られたセルローストリアセテートフィルムの評価結果を表３に示した。

本発明のセルローストリアシレート試料フィルム（試料１−１〜１−９）と比較試料フィルム（比較試料０−１〜０−３）とを比較すると、本発明の化合物を添加したフイルムはＲｔｈ（Ａ）で表される波長分散が小さいことが分かる。また、Ｒｔｈ(ａ)―Ｒｔｈ（ｂ）で表されるＲｔｈの上昇も小さく、Ｒｔｈを上昇させないという点で優れていることが明らかである。
本発明の分子量２５０以上の範囲にある一般式（１）化合物のように、分子量の大きい化合物を添加したものは、６０℃ ９０％ＲＨの強制条件下において５００時間経過後も、ＵＶ吸収特性の劣化が少なく良好であった。また、一般式（１）で表される化合物を添加したフイルムは剥げ残り、ムラ、ブツともに小さくて面状の優れるものであった。

（実施例３）
特開平１１−３１６３７８号の[実施例２]において、その第１透明支持体を、本発明の実施例２の試料溶液１−８より得られた、厚さ６０μｍのセルローストリアセテートフィルムに変更した以外は、全く同様にして特開平１１−３１６３７８号の[実施例３]を実施して、楕円偏光板を作製した。得られた楕円偏光板は、優れた光学特性を示した。従って、本発明のセルロースアシレートフィルムが光学偏光板に適応されても問題のない好ましい態様であることが明らかである。

（実施例４）
特開平７−３３３４３３の実施例１の富士写真フィルム（株）製セルローストリアセテートを、実施例２における本発明の試料１−２〜１−８のセルローストリアセテートフィルムに変更する以外は、特開平７−３３３４３３の実施例１と全く同様にした光学補償フィルターフィルム試料を作製した。得られたフィルムは全て左右上下に優れた視野角を有するものであった。したがって、本発明のセルローストリアセテートフィルムが、光学的用途として優れたものであることが判る。

（実施例５）
本発明のフィルムの更なる光学的性能を検討するため、本発明の試料フィルム１−２〜１−８を、例えば特開平１０−４８４２０[実施例１]に記載の液晶表示装置、特開平９−２６５７２[実施例１]に記載のディスコティック液晶分子を含む光学的異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開２０００−１５４２６１の図２〜９に記載のＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１の図１０〜１５に記載のＯＣＢ型液晶表示装置に用いたところ、良好な性能が得られた。従って、本発明のセルローストリアセテートフィルムが、光学的用途として優れたものであることが判る。

（実施例６）
実施例２の本発明の試料１−８溶液においてセルローストリアセテートを、該セルローストリアセテート（１０質量部）とセルロースアセテートプロピオネート（アセチル置換度２．４４、プロピオネート置換度０．２６で全置換度は２．７０、粘度平均重合度３１８、含水率０．４質量％、ジクロロメタン溶液中６質量％の粘度 ２７７ｍＰａ・ｓ、平均粒子径１．３ｍｍであって標準偏差０．４ｍｍである粉体、残存酢酸量およびプロピオン酸量は共に０．０６質量％以下、Ｃａが０．０１１質量％、Ｍｇは０．０８質量％、Ｆｅは０．５４ｐｐｍ、６位アセチル基及びプロピオニル基はそれぞれ０．７０と０．１７であり全置換基の３３％、アセトン抽出分は７質量％、重量平均分子量と数平均分子量の比は３．５、イエローネスインデックスは１．３、ヘイズは０．２、透明度は９３．３％、Ｔｇは１５７℃、結晶化発熱量は４．３Ｊ／ｇ）（５質量部）、及びセルロースアセテートブチレート（アセチル置換度２．３９、ブチレート置換度０．４５で全置換度は２．８４、粘度平均重合度３４０、含水率０．４質量％、ジクロロメタン溶液中６質量％の粘度 ２９５ｍＰａ・ｓ、平均粒子径１．３ｍｍであって標準偏差０．４ｍｍである粉体、残存酢酸量およびブタン酸量は共に０．０３質量％以下、Ｃａが０．００５質量％、Ｍｇは０．００４質量％、Ｆｅは５ｐｐｍ、６位アセチル基及びブチロイル基はそれぞれ０．７２と０．２０であり全置換基の３２％、アセトン抽出分は１４質量％、重量平均分子量と数平均分子量の比は１．３、イエローネスインデックスは０．９、ヘイズは０．５、透明度は９２．９％、Ｔｇは１５３℃、結晶化発熱量は３．９Ｊ／ｇ）（５質量部）に変更し、実施例２で用いた溶媒の１／５質量部に相当する量の溶媒を利用した以外は、実施例１及び２と全く同様にして、セルロースアシレートフィルムを作製した。このフィルムのＲｔｈ(ａ)-Ｒｔｈ(ｂ)は−７．８、Ｒｔｈ(Ａ)は−４．５であった。
また、剥げ残りＡ、ムラＡおよびブツＡであり、ヘイズも０．４で小さくすべての点で優れたものであった。従って、本発明ではセルロースアシレートを２種類以上混合して用いても、優れたセルロースアシレートフィルムを得ることができる。

本発明により、非塩素系溶媒を用いてもＲｔｈおよびＲｔｈの波長分散が小さく、製造工程の汚染が少なく、かつ経時での劣化の小さいセルロースアシレートフィルムを提供することができる。本発明のフィルムは位相差フィルム、偏光板保護フィルム、画像表示素子に好ましく用いることができる。

Claims (8)

1. アシル基への置換度が下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満足するセルロースアシレートと、分子量が２５０以上１０００以下であり、下記一般式（１）で表される化合物とを含むセルロースアシレート組成物。
   （Ｉ） ２．３≦ＳＡ＋ＳＢ≦３．０
   （ＩＩ） １．５≦ＳＡ≦３．０
   （ＩＩＩ） ０≦ＳＢ≦０．８
   （式中ＳＡ及びＳＢはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、ＳＡはアセチル基の置換度、またＳＢは炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度を表す。）
   一般式（１）：
   

   

   （式中、Ｑ¹およびＱ²はそれぞれ独立に芳香族環を表す。ＸはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、酸素原子または硫黄原子を表す。）
2. セルロースアシレートのアシル基への置換度が下記式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の全てを満足することを特徴とする請求項１記載のセルロースアシレート組成物。
   （Ｉ） ２．８０≦ＳＡ＋ＳＢ≦２．９５
   （ＩＩ） ２．８０≦ＳＡ≦２．９５
   （ＩＩＩ） ０≦ＳＢ≦０．１
   （式中ＳＡ及びＳＢはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換基を表し、ＳＡはアセチル基の置換度、またＳＢは炭素原子数３〜２２のアシル基の置換度を表す。）
3. 炭素原子数が３〜１２のエーテル類、炭素原子数が３〜１２のケトン類および炭素原子数が３〜１２のエステル類から選ばれる非塩素系有機溶媒のうち、少なくとも一種の溶媒を含有することを特徴とする請求項１または２に記載のセルロースアシレート組成物。
4. 少なくとも３種の溶媒を含有することを特徴とする請求項３記載のセルロースアシレート組成物。
5. 請求項１〜４のいずれかに記載のセルロース組成物からなるセルロースアシレートフィルム。
6. 下記式（ＩＶ）で定義されるＲｔｈレターデーション値において、上記化合物（１）を含むセルロースアシレートフィルムを波長６３２．８ｎｍで測定した値をＲｔｈ(ａ)、波長４００〜７００ｎｍで測定したＲｔｈ値の最大値から最小値を引いた値をＲｔｈ(Ａ)とし、一方、上記一般式（１）で表される化合物だけを含有しないセルロースアシレートフィルムを波長６３２．８ｎｍで測定したＲｔｈレターデーション値をＲｔｈ(ｂ)としたときに、下記式（Ｖ）、（ＶＩ）の全てを満足することを特徴とする請求項５記載のセルロースアシレートフィルム。
   （ＩＶ） Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
   （ｎｘ：フィルム面内の遅相軸方向の屈折率 ｎｙ：フィルム面内の進相軸方向の屈折率 ｎｚ：フィルムの厚み方向の屈折率 ｄ：フィルムの厚さ）
   （Ｖ） −２０≦Ｒｔｈ(ａ)−Ｒｔｈ(ｂ)＜４０
   （ＶＩ） ０≦Ｒｔｈ(Ａ)≦１５
7. 請求項５または６に記載のセルロースアシレートフィルムを有する偏光板。
8. 請求項７に記載の偏光板を有する画像表示装置。