JP4749499B2 - セルロース体組成物 - Google Patents
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Description
本発明は、セルロース体組成物、セルロース体フィルム、セルロースフィルム用改質剤、偏光板保護膜、液晶表示装置およびハロゲン化銀写真感光材料に関する。詳しくは、低い透湿性を示し、かつ、光学異方性を小さくするセルロース体フィルムおよび、該セルロース体フィルムを用いた偏光板保護膜、液晶表示装置およびハロゲン化銀写真感光材料等に関する。
従来、セルロースアシレートフィルムはその強靭性と難燃性から写真用支持体や各種光学材料に用いられてきた。特に、近年は液晶表示装置用の光学透明フィルムとして多く用いられている。セルロースアシレートフィルムは、光学的に透明性が高いこと、および、光学的に等方性が高いことから、液晶表示装置のように偏光を取り扱う装置用の光学材料として特に優れており、これまで偏光子の保護フィルムや、斜め方向から見た表示を良化（視野角補償）できる光学補償フィルムの支持体として用いられてきた。
液晶表示装置のための部材のひとつである偏光板には、偏光子の少なくとも片側に、偏光子の保護フィルムが貼り合わされている。一般的な偏光子は延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルムをヨウ素または二色性色素で染色することにより得られる。多くの場合、偏光子の保護フィルムとしてはＰＶＡに対して直接貼り合わせることができるセルロースアシレートフィルム、なかでもトリアセチルセルロースフィルムが用いられている。そして、この偏光子の保護フィルムの光学特性が偏光板の特性を大きく左右する。
一方で、セルロースアシレートフィルムは、一般的に他の支持体、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムに比べて高温、高湿下での透湿性が著しく上昇し、性能が悪化するため、可塑剤と呼ばれる化合物がしばしば添加される。セルロースアシレートに添加される主な可塑剤としては、リン酸トリフェニル、リン酸ビフェニルジフェニルのようなリン酸トリエステル、フタル酸エステルなどが知られている（例えば、特許文献１）。この他にもＮ−エチルトルエンスルホンアミドのようなスルホンアミド化合物も知られており、これらの可塑剤の含有量を増加すると透湿性が低下し、フィルム性能が改善されることが知られている。
しかしながら、可塑剤を増量することによって、セルロースアシレートフィルムのガラス転移点がますます低下し、フィルムの軟化によって寸法安定性が悪化するという問題があった。また、可塑剤を単純に増量するだけでは、可塑剤がセルロースアシレートフィルムと相溶せずに、フィルムが白濁したり、フィルムの光学異方性（例えば、厚み方向のレターデーション値Ｒｔｈ）を大きくするなどの問題がある。また、低分子可塑剤は、低分子量のため熱揮散性が高く、製造時の乾燥工程で揮散するという問題があり、工程汚染の主要因として問題視されていた。
セルロースアシレートフィルムを光学材料に用いる場合、使用用途によってはフィルムの光学異方性を小さくすることが好ましい。上述の可塑剤と呼ばれる化合物の中にはセルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下させる効果を有するものが知られており、例えば特定の脂肪酸エステルが開示されている（例えば、特許文献２、３、４および５参照）。しかしながら、このような可塑剤は高温、高湿下での透湿性が悪化するといった弊害があった。
そこで、光学異方性が小さくかつ高温、高湿下での透湿性の低いセルロースアシレートフィルムおよびその改質剤の開発が切望されている。
そこで、光学異方性が小さくかつ高温、高湿下での透湿性の低いセルロースアシレートフィルムおよびその改質剤の開発が切望されている。
また、前述の熱揮散性の課題に対し、ロジン樹脂、エポキシ樹脂、ケトン樹脂およびトルエンスルホンアミド樹脂のような高分子化合物を用いることで揮散性を抑制し、透湿性の低いセルロースアシレートフィルムを得る技術が知られている（例えば、特許文献６）。しかしながら、高分子可塑剤であることから相溶性が十分ではなく、低分子可塑剤ほどの相溶性が得られない。
そこで、セルロースアシレートとの相溶性が良好であり、流延乾燥時に揮散、析出することなく、セルロースアシレートフィルムに高温、高湿下での低い透湿性を付与し、かつ光学異方性を小さくできるセルロースアシレート用改質剤の開発が切望されている。
そこで、セルロースアシレートとの相溶性が良好であり、流延乾燥時に揮散、析出することなく、セルロースアシレートフィルムに高温、高湿下での低い透湿性を付与し、かつ光学異方性を小さくできるセルロースアシレート用改質剤の開発が切望されている。
本発明の第１の目的は、光学異方性の小さいセルロース体フィルムを提供することである。
本発明の第２の目的は、高温高湿下において低い透湿性を有するセルロース体フィルムを用いて作製した偏光板保護膜、液晶表示装置、ハロゲン化銀写真感光材料用支持体を提供することにある。
本発明の第２の目的は、高温高湿下において低い透湿性を有するセルロース体フィルムを用いて作製した偏光板保護膜、液晶表示装置、ハロゲン化銀写真感光材料用支持体を提供することにある。
本発明の目的は、下記手段により達成された。
（１）セルロース体と、下記一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種を含有するセルロース体組成物。
一般式（１）
（一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4は、それぞれ、単結合、−ＣＯ−および−ＮＲ5−（Ｒ5は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す）からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。ａ、ｂ、ｃおよびｄは０以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上である。Ｑ1は（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の有機基を表す。）
（２）前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（２）で表される化合物であるセルロース体組成物。
一般式（２）
（一般式（２）中、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13およびＲ14は、それぞれ、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｘ11、Ｘ12、Ｘ13およびＸ14は、それぞれ、単結合、−ＣＯ−および−ＮＲ5−（Ｒ5は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す）からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。ｋ、ｌ、ｍおよびｎは０または１であり、ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎは２、３または４である。Ｑ2は２〜４価の有機基を表す。）
（１）セルロース体と、下記一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種を含有するセルロース体組成物。
一般式（１）
（２）前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（２）で表される化合物であるセルロース体組成物。
一般式（２）
（３）下記一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種を含有するセルロース体フィルム。
一般式（１）
（一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4は、それぞれ、単結合、−ＣＯ−および−ＮＲ5−（Ｒ5は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す）からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。ａ、ｂ、ｃおよびｄは０以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上である。Ｑ1は（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の有機基を表す。）
（４）前記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（３）で表される化合物である（３）に記載のセルロース体フィルム。
一般式（３）
（一般式（３）中、Ｒ21およびＲ22は、それぞれ、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｙ1およびＹ2は、それぞれ、−ＣＯＮＲ23−または−ＮＲ24ＣＯ−を表す（Ｒ23およびＲ24は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す）。Ｌ1は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＮＲ25−（Ｒ25は水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。）、アルキレン基およびアリーレン基からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の有機基を表す。）
（５）前記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（４）で表される化合物である（３）に記載のセルロース体フィルム。
一般式（４）
（一般式（４）中、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33およびＲ34はそれぞれ置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｌ2は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＮＲ35−（Ｒ35は水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。）、アルキレン基およびアリーレン基からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の有機基を表す。）
（６）前記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（５）で表される化合物である（３）に記載のセルロース体フィルム。
一般式（５）
（一般式（５）中、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43およびＲ44はそれぞれ置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｌ3は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＮＲ45−（Ｒ45は水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。）、アルキレン基およびアリーレン基からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の有機基を表す。）
（７）前記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（６）で表される化合物である（３）に記載のセルロース体フィルム。
一般式（６）
（一般式（６）中、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53およびＲ54はそれぞれ置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｌ4は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＮＲ55−（Ｒ55は水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。）、アルキレン基およびアリーレン基からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の有機基を表す。）
一般式（１）
（４）前記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（３）で表される化合物である（３）に記載のセルロース体フィルム。
一般式（３）
（５）前記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（４）で表される化合物である（３）に記載のセルロース体フィルム。
一般式（４）
（６）前記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（５）で表される化合物である（３）に記載のセルロース体フィルム。
一般式（５）
（７）前記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（６）で表される化合物である（３）に記載のセルロース体フィルム。
一般式（６）
（８）前記セルロース体がセルロースアシレートである、（３）〜（７）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
（９）前記セルロースアシレートのアシル置換度が２．６０〜３．００である（８）に記載のセルロース体フィルム。
（１０）前記セルロースアシレートのアシル置換度が２．８０〜２．９５である（８）に記載のセルロース体フィルム。
（１１）前記セルロースアシレートにおける、アセチル基で置換されている置換度が２．６０〜３．００である（８）〜（１０）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
（１２）前記セルロースアシレートの炭素原子数が３〜２２のアシル基で置換されている置換度が０．００〜０．８０である（８）〜（１１）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
（１３）前記セルロースアシレートが、アセチル基と炭素原子数が３〜２２のアシル基とで置換されており、炭素原子数が３〜２２のアシル基の３０％以上が６位水酸基の置換基として存在している（８）〜（１２）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
（１４）前記セルロースアシレートの６位のアシル置換度が０．８０〜１．００である（８）〜（１３）のいずれかに記載のセルロース体フィルム。
（１５）前記セルロースアシレートの６位のアシル置換度が０．８５〜１．００である（８）〜（１３）のいずれかに記載のセルロース体フィルム。
（１６）前記セルロース体と、セルロース体の２〜３０質量％の量の上記一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種を含む（８）〜（１５）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
（１７）前記セルロース体が、２５０〜５５０の粘度平均重合度を有する（８）〜（１６）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
（９）前記セルロースアシレートのアシル置換度が２．６０〜３．００である（８）に記載のセルロース体フィルム。
（１０）前記セルロースアシレートのアシル置換度が２．８０〜２．９５である（８）に記載のセルロース体フィルム。
（１１）前記セルロースアシレートにおける、アセチル基で置換されている置換度が２．６０〜３．００である（８）〜（１０）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
（１２）前記セルロースアシレートの炭素原子数が３〜２２のアシル基で置換されている置換度が０．００〜０．８０である（８）〜（１１）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
（１３）前記セルロースアシレートが、アセチル基と炭素原子数が３〜２２のアシル基とで置換されており、炭素原子数が３〜２２のアシル基の３０％以上が６位水酸基の置換基として存在している（８）〜（１２）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
（１４）前記セルロースアシレートの６位のアシル置換度が０．８０〜１．００である（８）〜（１３）のいずれかに記載のセルロース体フィルム。
（１５）前記セルロースアシレートの６位のアシル置換度が０．８５〜１．００である（８）〜（１３）のいずれかに記載のセルロース体フィルム。
（１６）前記セルロース体と、セルロース体の２〜３０質量％の量の上記一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種を含む（８）〜（１５）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
（１７）前記セルロース体が、２５０〜５５０の粘度平均重合度を有する（８）〜（１６）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルム。
（１８）下記一般式（１）で表される化合物の少なくとも１種を含有するセルロース体フィルム用改質剤。
一般式（１）
（一般式（１）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す。Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4は、それぞれ、単結合、−ＣＯ−および−ＮＲ5−（Ｒ5は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表す）からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。ａ、ｂ、ｃおよびｄは０以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上である。Ｑ1は（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の有機基を表す。）
（１９）（３）〜（８）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルムを有する偏光板保護膜。
（２０）（３）〜（８）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルムを有する液晶表示装置。
（２１）（３）〜（８）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルムを有するハロゲン化銀写真感光材料。
一般式（１）
（１９）（３）〜（８）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルムを有する偏光板保護膜。
（２０）（３）〜（８）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルムを有する液晶表示装置。
（２１）（３）〜（８）のいずれか１項に記載のセルロース体フィルムを有するハロゲン化銀写真感光材料。
本発明のセルロース体組成物は、高温高湿下において低い透湿性を有するセルロース体フィルムを提供することができる。従って、本発明のセルロース体フィルムは、前記の良好な透湿性に加え、光学異方性が小さいという優れた効果も奏する。また、本発明のセルロース体フィルムは、例えば、偏光板保護膜、液晶表示装置、ハロゲン化銀写真感光材料などに好ましく使用することができる。
以下において、本発明の内容について詳細に説明する。尚、本願明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
本発明のセルロース体組成物とは、セルロース化合物、およびセルロースを原料として生物的あるいは化学的に官能基を導入して得られるセルロース骨格を有する化合物（セルロース体）を含む組成物である。セルロース体の中でもセルロースエステルが好ましく、セルロースアシレートがより好ましい。
本発明では、上記一般式（１）で表される少なくとも１種の化合物を、セルロース体用改質剤として使用する。
以下、本発明一般式（１）で表される化合物について説明する。
上記一般式（１）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4は、それぞれ、単結合、−ＣＯ−、−ＮＲ5（−Ｒ5は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。）からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4の組み合わせは特に限定されないが、−ＣＯ−、−ＮＲ5−（から選ばれるのがより好ましい。ａ、ｂ、ｃおよびｄは０以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上である。ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは、２〜８であることが好ましく、より好ましくは２〜６、さらに好ましくは２〜４である。Ｑ1は（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の有機基を表す。Ｑ1の価数は２〜８が好ましく、２〜６がより好ましく、２〜４が最も好ましい。
有機基とは、有機化合物からなる基をいう。但し、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において置換基を有していてもよい。
以下、本発明一般式（１）で表される化合物について説明する。
上記一般式（１）において、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は、それぞれ、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4は、それぞれ、単結合、−ＣＯ−、−ＮＲ5（−Ｒ5は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。）からなる群から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4の組み合わせは特に限定されないが、−ＣＯ−、−ＮＲ5−（から選ばれるのがより好ましい。ａ、ｂ、ｃおよびｄは０以上の整数であり、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは２以上である。ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄは、２〜８であることが好ましく、より好ましくは２〜６、さらに好ましくは２〜４である。Ｑ1は（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）価の有機基を表す。Ｑ1の価数は２〜８が好ましく、２〜６がより好ましく、２〜４が最も好ましい。
有機基とは、有機化合物からなる基をいう。但し、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内において置換基を有していてもよい。
また、上記一般式（１）としては、好ましくは上記一般式（２）で表される化合物である。
上記一般式（２）において、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13およびＲ14は、それぞれ、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｘ11、Ｘ12、Ｘ13およびＸ14はそれぞれ独立に単結合、−ＣＯ−、−ＮＲ15−（Ｒ15は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。）から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｘ11、Ｘ12、Ｘ13およびＸ14の組み合わせは特に限定されないが、−ＣＯ−、−ＮＲ15−から選ばれるのがより好ましい。ｋ、ｌ、ｍおよびｎは０または１であり、ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎ＝２、３または４である。Ｑ1は２〜４価の有機基を表す。Ｑ1の価数は２または３がより好ましい。
上記一般式（２）において、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13およびＲ14は、それぞれ、水素原子、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｘ11、Ｘ12、Ｘ13およびＸ14はそれぞれ独立に単結合、−ＣＯ−、−ＮＲ15−（Ｒ15は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。）から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｘ11、Ｘ12、Ｘ13およびＸ14の組み合わせは特に限定されないが、−ＣＯ−、−ＮＲ15−から選ばれるのがより好ましい。ｋ、ｌ、ｍおよびｎは０または１であり、ｋ＋ｌ＋ｍ＋ｎ＝２、３または４である。Ｑ1は２〜４価の有機基を表す。Ｑ1の価数は２または３がより好ましい。
上記一般式（１）としては、好ましくは上記一般式（３）で表される化合物である。
上記一般式（３）において、Ｒ21およびＲ22は、それぞれ、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｙ1およびＹ2はそれぞれ独立に−ＣＯＮＲ23−または−ＮＲ24ＣＯ−を表し、Ｒ23およびＲ24は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。Ｌ1は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＮＲ25−、アルキレン基およびアリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の有機基を表す。Ｌ1の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ25−、およびアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。
上記一般式（３）において、Ｒ21およびＲ22は、それぞれ、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｙ1およびＹ2はそれぞれ独立に−ＣＯＮＲ23−または−ＮＲ24ＣＯ−を表し、Ｒ23およびＲ24は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。Ｌ1は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＮＲ25−、アルキレン基およびアリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の有機基を表す。Ｌ1の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ25−、およびアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。
上記一般式（１）としては、好ましくは上記一般式（４）で表される化合物である。
上記一般式（４）において、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33およびＲ34はそれぞれ置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｌ2は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＮＲ35−（Ｒ35は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。）、アルキレン基、アリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｌ2の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ35−、およびアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。
上記一般式（４）において、Ｒ31、Ｒ32、Ｒ33およびＲ34はそれぞれ置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｌ2は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＮＲ35−（Ｒ35は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。）、アルキレン基、アリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｌ2の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ35−、およびアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。
上記一般式（１）としては、好ましくは上記一般式（５）で表される化合物である。
上記一般式（５）において、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43およびＲ44は、それぞれ、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｌ3は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＮＲ45−（Ｒ45は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。）、アルキレン基、アリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｌ3の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ45−、およびアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。
上記一般式（５）において、Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43およびＲ44は、それぞれ、置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｌ3は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＮＲ45−（Ｒ45は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。）、アルキレン基、アリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｌ3の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ45−、およびアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。
上記一般式（１）としては、好ましくは上記一般式（６）で表される化合物である。
上記一般式（６）において、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53およびＲ54はそれぞれ置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｌ4は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＮＲ55−（Ｒ55は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。）、アルキレン基、アリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｌ4の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ55−、およびアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。
上記一般式（６）において、Ｒ51、Ｒ52、Ｒ53およびＲ54はそれぞれ置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、脂肪族基が好ましい。脂肪族基は、直鎖、分岐、環状のいずれであってもよく、環状であることがより好ましい。脂肪族基および芳香族基が有していてもよい置換基としては後述の置換基Ｔが挙げられるが、無置換のものが好ましい。Ｌ4は−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ2−、−ＣＯ−、−ＮＲ55−（Ｒ55は置換若しくは無置換の脂肪族基または置換若しくは無置換の芳香族基を表し、無置換のものおよび／または脂肪族基がより好ましい。）、アルキレン基、アリーレン基から選ばれる１種以上の基から形成される２価の連結基を表す。Ｌ4の組み合わせは特に限定されないが、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ55−、およびアルキレン基から選ばれるのが好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのがさらに好ましく、−Ｏ−、−Ｓ−およびアルキレン基から選ばれるのが最も好ましい。
以下に前述の置換若しくは無置換の脂肪族基について説明する。脂肪族基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のものが特に好ましい。脂肪族基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ビシクロオクチル基、アダマンチル基、ｎ−デシル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ジデシル基などが挙げられる。
以下に前述の芳香族基について説明する。芳香族基は芳香族炭化水素基でも芳香族ヘテロ環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基としては、炭素原子数が６〜２４のものが好ましく、６〜１２のものがさらに好ましい。芳香族炭化水素基の具体例な環としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ビフェニル、ターフェニルなどが挙げられる。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン、ナフタレン、ビフェニルが特に好ましい。芳香族ヘテロ環基としては、酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のうち少なくとも１つを含むものが好ましい。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環基としては、ピリジン、トリアジン、キノリンが特に好ましい。
また、以下に前述の置換基Ｔに関して詳細に説明する。
置換基Ｔとしては、例えばアルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
置換基Ｔとしては、例えばアルキル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８のものであり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１２、特に好ましくは２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素原子数６〜３０、より好ましくは６〜２０、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、アミノ基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１０、特に好ましくは０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１２、特に好ましくは１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数２〜２０、より好ましくは２〜１６、特に好ましくは２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素原子数７〜２０、より好ましくは７〜１６、特に好ましくは７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素原子数０〜２０、より好ましくは０〜１６、特に好ましくは０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素原子数６〜２０、より好ましくは６〜１６、特に好ましくは６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素原子数１〜２０、より好ましくは１〜１６、特に好ましくは１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素原子数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素原子数３〜４０、より好ましくは３〜３０、特に好ましくは３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。
また、一般式（１）〜（６）のいずれか１以上で表される化合物の添加量は、セルロース体に対して１〜３０質量％であることが好ましく、２〜３０質量％であることがより好ましく、２〜２５質量％であることがさらに好ましく、２〜２０質量％であることが最も好ましい。
一般式（１）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
本発明に用いられる化合物はいずれも既知の化合物より製造することができる。一般式（１）〜（６）のいずれか１以上で表される化合物は、例えば、カルボニルクロリドとアミンとの縮合反応により得られる。
本発明に用いられるセルロース体に関して詳細に説明する。本発明に用いられるセルロース体はセルロースを原料とする化合物であれば何でもよい。好ましくはセルロースアシレートである。
［セルロースアシレート原料綿］
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、特に限定されるものではないが、例えば、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあげられ、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報（公開技報２００１−１７４５、７頁〜８頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に記載のセルロースを用いることができる。
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、特に限定されるものではないが、例えば、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあげられ、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報（公開技報２００１−１７４５、７頁〜８頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に記載のセルロースを用いることができる。
前記の特定のセルロースアシレートは、セルロースの水酸基をアセチル基及び炭素原子数が３以上のアシル基で置換して得られたセルロースの混合脂肪酸エステルであって、セルロースの水酸基への置換度が下記数式（４）及び数式（５）を満足するセルロースアシレートであることが好ましい。
数式（４）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
数式（５）：０＜Ｂ
ここで、式中Ａ及びＢはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３以上のアシル基の置換度である。
数式（４）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
数式（５）：０＜Ｂ
ここで、式中Ａ及びＢはセルロースの水酸基に置換されているアシル基の置換度を表し、Ａはアセチル基の置換度、またＢは炭素原子数３以上のアシル基の置換度である。
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位及び６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部又は全部をアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位及び６位のそれぞれについて、セルロースがエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１）を意味する。
［セルロースアシレートの重合度］
本発明で用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００が好ましく、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度を７００以下とすることにより、セルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり過ぎず、流延によるフィルム作製がしやすくなる。重合度を１８０以上とすることにより、作製したフィルムの強度をより良好なものとすることができる。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫著，「繊維学会誌」，第１８巻，第１号，１０５〜１２０頁，１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。
本発明で用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００が好ましく、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度を７００以下とすることにより、セルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり過ぎず、流延によるフィルム作製がしやすくなる。重合度を１８０以上とすることにより、作製したフィルムの強度をより良好なものとすることができる。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫著，「繊維学会誌」，第１８巻，第１号，１０５〜１２０頁，１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。
低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。本発明のセルロースアシレートの製造時に使用される際には、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下の含水率を有するセルロースアシレートである。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており２．５〜５質量％が知られている。本発明でこのセルロースアシレートの含水率にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。本発明のこれらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、７頁〜１２頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて詳細に記載されている。
本発明のセルロースアシレートは、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。
［セルロースアシレートへの添加剤］
本発明のセルロースアシレート溶液には、各調製工程において本発明の透湿性を低下する化合物以外にも用途に応じた種々の添加剤（例えば、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができ、またその添加する時期はドープ作製工程において何れでも添加しても良い。また、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
本発明のセルロースアシレート溶液には、各調製工程において本発明の透湿性を低下する化合物以外にも用途に応じた種々の添加剤（例えば、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができ、またその添加する時期はドープ作製工程において何れでも添加しても良い。また、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。
それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収剤を混合して用いたり、同様に可塑剤を混合して用いたりすることができ、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。
［紫外線吸収剤］
紫外線吸収剤としては、目的に応じ任意の種類のものを選択することができ、サリチル酸エステル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、シアノアクリレート系、ニッケル錯塩系等の吸収剤を用いることができ、好ましくはベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系である。
紫外線吸収剤としては、目的に応じ任意の種類のものを選択することができ、サリチル酸エステル系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ベンゾエート系、シアノアクリレート系、ニッケル錯塩系等の吸収剤を用いることができ、好ましくはベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸エステル系である。
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤の例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２'−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２'−ジ−ヒドロキシ−４，４'−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロキシ）プロポキシベンゾフェノン等を挙げることができる。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２（２'−ヒドロキシ−３'−ｔｅｒｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２'−ヒドロキシ−５'− ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２'−ヒドロキシ−５'− ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。
サリチル酸エステル系としては、フェニルサリシレート、ｐ−オクチルフェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルサリシレート等を挙げることができる。
これら例示した紫外線吸収剤の中でも、特に２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２'−ジ−ヒドロキシ−４，４'−メトキシベンゾフェノン、２（２'−ヒドロキシ−３'−ｔ−ブチル−５'−メチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２（２'−ヒドロキシ−５'−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２（２'−ヒドロキシ−３'，５'−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾールが特に好ましい。
紫外線吸収剤は、吸収波長の異なる複数の吸収剤を複合して用いることが、広い波長範囲で高い遮断効果を得ることができるので好ましい。液晶用紫外線吸収剤は、液晶の劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、且つ、液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。特に好ましい紫外線吸収剤は、先に上げたベンゾトリアゾール系化合物やベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物である。中でも、ベンゾトリアゾール系化合物は、セルロースエステルに対する不用な着色が少ないことから、好ましい。
また、紫外線吸収剤については、特開昭６０−２３５８５２号、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号、同６−１１８２３３号、同６−１４８４３０号、同７−１１０５６号、同７−１１０５５号、同７−１１０５６号、同８−２９６１９号、同８−２３９５０９号、特開２０００−２０４１７３号の各公報に記載の化合物も用いることができる。
紫外線吸収剤の添加量は、セルロースアシレートに対し０．００１〜５質量％が好ましく、０．０１〜１質量％がより好ましい。添加量が０．００１質量％以上であれば添加効果が十分に発揮されうるので好ましく、添加量が５質量％以下であればフィルム表面への紫外線吸収剤のブリードアウトを抑制できるので好ましい。
また紫外線吸収剤は、セルロースアシレート溶解時に同時に添加してもよいし、溶解後のドープに添加してもよい。特にスタティックミキサ等を用い、流延直前にドープに紫外線吸収剤溶液を添加する形態が、分光吸収特性を容易に調整することができるので好ましい。
［劣化防止剤］
前記劣化防止剤は、セルローストリアセテート等が劣化、分解するのを防止することができる。劣化防止剤としては、ブチルアミン、ヒンダードアミン化合物（特開平８−３２５５３７号公報）、グアニジン化合物（特開平５−２７１４７１号公報）、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤（特開平６−２３５８１９号公報）、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤（特開平６−１１８２３３号公報）などの化合物がある。
前記劣化防止剤は、セルローストリアセテート等が劣化、分解するのを防止することができる。劣化防止剤としては、ブチルアミン、ヒンダードアミン化合物（特開平８−３２５５３７号公報）、グアニジン化合物（特開平５−２７１４７１号公報）、ベンゾトリアゾール系ＵＶ吸収剤（特開平６−２３５８１９号公報）、ベンゾフェノン系ＵＶ吸収剤（特開平６−１１８２３３号公報）などの化合物がある。
［可塑剤］
可塑剤としては、リン酸エステル、カルボン酸エステルであることが好ましい。リン酸エステル系可塑剤としては、例えばトリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等；カルボン酸エステル系可塑剤としては、例えばジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）、ジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等を挙げることができ、本発明に用いられる可塑剤はこれら例示の可塑剤から選ばれたものであることがより好ましい。さらに、前記可塑剤が、（ジ）ペンタエリスリトールエステル類、グリセロールエステル類、ジグリセロールエステル類であることが好ましい。
可塑剤としては、リン酸エステル、カルボン酸エステルであることが好ましい。リン酸エステル系可塑剤としては、例えばトリフェニルホスフェート（ＴＰＰ）、トリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ビフェニルジフェニルホスフェート（ＢＤＰ）、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等；カルボン酸エステル系可塑剤としては、例えばジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）、ジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）、Ｏ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、トリアセチン、トリブチリン、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート等を挙げることができ、本発明に用いられる可塑剤はこれら例示の可塑剤から選ばれたものであることがより好ましい。さらに、前記可塑剤が、（ジ）ペンタエリスリトールエステル類、グリセロールエステル類、ジグリセロールエステル類であることが好ましい。
［剥離促進剤］
剥離促進剤としては、クエン酸のエチルエステル類が例として挙げられる。
［赤外吸収剤］
さらに赤外吸収剤としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されている。
剥離促進剤としては、クエン酸のエチルエステル類が例として挙げられる。
［赤外吸収剤］
さらに赤外吸収剤としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されている。
［染料］
また本発明では、色相調整のための染料を添加してもよい。染料の含有量は、セルロースアシレートに対する質量割合で１０〜１０００ｐｐｍが好ましく、５０〜５００ｐｐｍが更に好ましい。この様に染料を含有させることにより、セルロースアシレートフィルムのライトパイピングが減少でき、黄色味を改良することができる。これらの化合物は、セルロースアシレート溶液の調製の際に、セルロースアシレートや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。またインライン添加する紫外線吸収剤液に添加してもよい。特開平５−３４８５８号公報に記載の染料を用いることができる。
また本発明では、色相調整のための染料を添加してもよい。染料の含有量は、セルロースアシレートに対する質量割合で１０〜１０００ｐｐｍが好ましく、５０〜５００ｐｐｍが更に好ましい。この様に染料を含有させることにより、セルロースアシレートフィルムのライトパイピングが減少でき、黄色味を改良することができる。これらの化合物は、セルロースアシレート溶液の調製の際に、セルロースアシレートや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。またインライン添加する紫外線吸収剤液に添加してもよい。特開平５−３４８５８号公報に記載の染料を用いることができる。
［マット剤微粒子］
本発明のセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化ケイ素が好ましい。二酸化ケイ素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
本発明のセルロースアシレートフィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化ケイ素が好ましい。二酸化ケイ素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ〜１．５μｍが好ましく、０．４μｍ〜１．２μｍがさらに好ましく、０．６μｍ〜１．１μｍが最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。
二酸化ケイ素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上、いずれも商品名、日本アエロジル(株)製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上、いずれも商品名、日本アエロジル(株)製）の商品名で市販されており、使用することができる。
これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化ケイ素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
本発明において２次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化ケイ素微粒子の分散性がよく、二酸化ケイ素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行い、これを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化ケイ素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化ケイ素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ2あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。
使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
［化合物添加の比率］
本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、分子量が３０００以下の化合物の総量は、セルロースアシレート重量に対して５〜４５％であることが好ましい。より好ましくは１０〜４０％であり、さらに好ましくは１５〜３０％である。これらの化合物としては上述したように、光学異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などであり、分子量としては３０００以下が好ましく、２０００以下がより好ましい。これら化合物の総量が５％以下であると、セルロースアシレート単体の性質が出やすくなり、例えば、温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題がある。またこれら化合物の総量が４５％以上であると、セルロースアシレートフィルム中に化合物が相溶する限界を超え、フィルム表面に析出してフィルムが白濁する（フィルムからの泣き出し）などの問題が生じやすくなる。
本発明のセルロースアシレートフィルムにおいては、分子量が３０００以下の化合物の総量は、セルロースアシレート重量に対して５〜４５％であることが好ましい。より好ましくは１０〜４０％であり、さらに好ましくは１５〜３０％である。これらの化合物としては上述したように、光学異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などであり、分子量としては３０００以下が好ましく、２０００以下がより好ましい。これら化合物の総量が５％以下であると、セルロースアシレート単体の性質が出やすくなり、例えば、温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題がある。またこれら化合物の総量が４５％以上であると、セルロースアシレートフィルム中に化合物が相溶する限界を超え、フィルム表面に析出してフィルムが白濁する（フィルムからの泣き出し）などの問題が生じやすくなる。
［セルロースアシレート溶液の有機溶媒］
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムは製造される。本発明の主溶媒として好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、および炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムは製造される。本発明の主溶媒として好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、および炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
以上本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としても良いし、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、１２〜１６頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としても良く、本発明のセルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。
その他、本発明のセルロースアシレート溶液及びフィルムについての溶媒は、その溶解方法も含め以下の特許文献に開示されており、好ましい態様である。それらは、例えば、特開２０００−９５８７６号、特開平１２−９５８７７号、特開平１０−３２４７７４号、特開平８−１５２５１４号、特開平１０−３３０５３８号、特開平９−９５５３８号、特開平９−９５５５７号、特開平１０−２３５６６４号、特開平１２−６３５３４号、特開平１１−２１３７９号、特開平１０−１８２８５３号、特開平１０−２７８０５６号、特開平１０−２７９７０２号、特開平１０−３２３８５３号、特開平１０−２３７１８６号、特開平１１−６０８０７号、特開平１１−１５２３４２号、特開平１１−２９２９８８号、特開平１１−６０７５２号、特開平１１−６０７５２号などの各公報に記載されている。これらの特許文献によると本発明のセルロースアシレートに好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、本発明においても好ましい態様である。
［セルロースアシレートフィルムの製造工程］
（溶解工程）
本発明のセルロースアシレート溶液（ドープ）の調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。本発明におけるセルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２２頁〜２５頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。
（溶解工程）
本発明のセルロースアシレート溶液（ドープ）の調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。本発明におけるセルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２２頁〜２５頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。
本発明のセルロースアシレート溶液のドープ透明度としては８５％以上であることが好ましい。より好ましくは８８％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。本発明においてはセルロースアシレートドープ溶液に各種の添加剤が十分に溶解していることを確認した。具体的なドープ透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計（島津製作所製、ＵＶ−３１５０）で５５０ｎｍの吸光度を測定する。溶媒のみをあらかじめブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度との比からセルロースアシレート溶液の透明度を算出する。
（流延、乾燥、巻き取り工程）
次に、本発明のセルロースアシレート溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明のセルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。本発明のセルロースアシレートフィルムの主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護膜やハロゲン化銀写真感光材料に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２５頁〜３０頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて詳細に記載されており、流延（共流延を含む）、金属支持体、乾燥、剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。
また、セルロースアシレートフィルムの厚さは１０〜１２０μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましく、３０〜９０μｍがさらに好ましい。
次に、本発明のセルロースアシレート溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明のセルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。本発明のセルロースアシレートフィルムの主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護膜やハロゲン化銀写真感光材料に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２５頁〜３０頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて詳細に記載されており、流延（共流延を含む）、金属支持体、乾燥、剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。
また、セルロースアシレートフィルムの厚さは１０〜１２０μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましく、３０〜９０μｍがさらに好ましい。
［延伸処理］
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、延伸処理によりレターデーションを調整することが好ましい。特に、セルロースアシレートフィルムの面内レターデーション値を高い値とする場合には、積極的に幅方向に延伸する方法、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、特開平４−２８４２１１号、特開平４−２９８３１０号、及び特開平１１−４８２７１号の各公報などに記載されている、製造したフィルムを延伸する方法を用いることができる。
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムは、延伸処理によりレターデーションを調整することが好ましい。特に、セルロースアシレートフィルムの面内レターデーション値を高い値とする場合には、積極的に幅方向に延伸する方法、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、特開平４−２８４２１１号、特開平４−２９８３１０号、及び特開平１１−４８２７１号の各公報などに記載されている、製造したフィルムを延伸する方法を用いることができる。
フィルムの延伸は、常温又は加熱条件下で実施する。加熱温度は、フィルムのガラス転移温度以下であることが好ましい。フィルムの延伸は、縦又は横だけの一軸延伸でもよく、同時又は逐次２軸延伸でもよい。通常は１〜２００％の延伸を行うが、好ましくは１〜１００％、特に好ましくは１〜５０％の延伸を行うのがよい。
上記の偏光板を斜めから見たときの光漏れの抑制のためには、偏光子の透過軸とセルロースアシレートフィルムの面内の遅相軸を平行に配置する必要がある。連続的に製造されるロールフィルム状の偏光子の透過軸は、一般的に、ロールフィルムの幅方向に平行であるので、前記ロールフィルム状の偏光子とロールフィルム状のセルロースアシレートフィルムからなる保護膜を連続的に貼り合せるためには、ロールフィルム状の保護膜の面内遅相軸は、フィルムの幅方向に平行であることが必要となる。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。また延伸処理は、製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理してもよい。前者の場合には残留溶媒を含んだ状態で延伸を行ってもよく、残留溶媒量が２〜３０質量％で好ましく延伸することができる。
乾燥後得られる、本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムの膜厚は、使用目的によって異なるが、通常、５〜５００μｍの範囲であることが好ましく、更に２０〜３００μｍの範囲が好ましく、特に３０〜１５０μｍの範囲が好ましい。また、光学用、特にＶＡ液晶表示装置用としては、４０〜１１０μｍであることが好ましい。フィルム厚さの調整は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。
以上のようにして得られた、セルロースアシレートフィルムの幅は、好ましくは０．５〜３ｍ、より好ましくは０．６〜２．５ｍ、さらに好ましくは０．８〜２．２ｍである。長さは、１ロール当たり１００〜１００００ｍで巻き取るのが好ましく、より好ましくは５００〜７０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、ナーリングの幅は３ｍｍ〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍが好ましく、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであってもよい。
フィルムの幅方向のＲｅ590値のばらつきは、±５ｎｍであることが好ましく、±３ｎｍであることが更に好ましい。また幅方向のＲｔｈ590値のバラツキは±１０ｎｍが好ましく、±５ｎｍであることが更に好ましい。また、長さ方向のＲｅ値、及びＲｔｈ値のバラツキも、幅方向のバラツキの範囲内であることが好ましい。
〔セルロースアシレートフィルムの光学特性〕
本明細書において、Ｒｅλ、Ｒｔｈλは、それぞれ波長λにおける面内のリターデーション及び厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅλは"ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ"｛王子計測機器（株）製｝において、波長λｎｍの光をフィルムの法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈλは、前記Ｒｅλ、面内の遅相軸（"ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ"により判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の、合計３つの方向で測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に"ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ"が算出する。
ここで平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（JOHN WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する： セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
本明細書において、Ｒｅλ、Ｒｔｈλは、それぞれ波長λにおける面内のリターデーション及び厚さ方向のリターデーションを表す。Ｒｅλは"ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ"｛王子計測機器（株）製｝において、波長λｎｍの光をフィルムの法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈλは、前記Ｒｅλ、面内の遅相軸（"ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ"により判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、及び面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の、合計３つの方向で測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に"ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ"が算出する。
ここで平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（JOHN WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する： セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
Ｒｅλレターデーション値、Ｒｔｈλレターデーション値が、それぞれ、以下の数式（２）、（３）を満たすことが、液晶表示装置、特にＶＡモード液晶表示装置の視野角を広くするために好ましい。また特にセルロースアシレートフィルムが、偏光板の液晶セル側の保護膜に用いられる場合に好ましい。
数式（２）：０ｎｍ≦Ｒｅ590≦２００ｎｍ
数式（３）：０ｎｍ≦Ｒｔｈ590≦４００ｎｍ
［式中、Ｒｅ590、Ｒｔｈ590は、波長λ＝５９０ｎｍにおける値（単位：ｎｍ）である。］
数式（２）：０ｎｍ≦Ｒｅ590≦２００ｎｍ
数式（３）：０ｎｍ≦Ｒｔｈ590≦４００ｎｍ
［式中、Ｒｅ590、Ｒｔｈ590は、波長λ＝５９０ｎｍにおける値（単位：ｎｍ）である。］
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートフィルムをＶＡモードに使用する場合、セルの両側に１枚ずつ合計２枚使用する形態（２枚型）と、セルの上下のいずれか一方の側にのみ使用する形態（１枚型）の２通りがある。
２枚型の場合、Ｒｅ590は２０〜１００ｎｍが好ましく、３０〜７０ｎｍがさらに好ましい。Ｒｔｈ590については７０〜３００ｎｍが好ましく、１００〜２００ｎｍがさらに好ましい。
１枚型の場合、Ｒｅ590は３０〜１５０ｎｍが好ましく、４０〜１００ｎｍがさらに好ましい。Ｒｔｈ590については１００〜３００ｎｍが好ましく、１５０〜２５０ｎｍがさらに好ましい。
２枚型の場合、Ｒｅ590は２０〜１００ｎｍが好ましく、３０〜７０ｎｍがさらに好ましい。Ｒｔｈ590については７０〜３００ｎｍが好ましく、１００〜２００ｎｍがさらに好ましい。
１枚型の場合、Ｒｅ590は３０〜１５０ｎｍが好ましく、４０〜１００ｎｍがさらに好ましい。Ｒｔｈ590については１００〜３００ｎｍが好ましく、１５０〜２５０ｎｍがさらに好ましい。
［フィルムの透湿度］
本発明の光学補償シートに用いるセルロースアシレートフィルムの透湿度は、ＪＩＳ規格ＪＩＳＺ０２０８をもとに、温度６０℃、湿度９５％ＲＨ（相対湿度）の条件において測定し、膜厚８０μｍに換算して４００〜２０００ｇ／ｍ2・２４ｈであることが好ましい。５００〜１８００ｇ／ｍ2・２４ｈであることがより好ましく、６００〜１６００ｇ／ｍ2・２４ｈであることが特に好ましい。２０００ｇ／ｍ2・２４ｈを超えると、フィルムのＲｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまう。また、本発明のセルロースアシレートフィルムに光学異方性層を積層して光学補償フィルムとした場合も、Ｒｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまい好ましくない。この光学補償シートや偏光板が液晶表示装置に組み込まれた場合、色味の変化や視野角の低下を引き起こす。また、セルロースアシレートフィルムの透湿度が４００ｇ／ｍ2・２４ｈ未満では、偏光膜の両面などに貼り付けて偏光板を作製する場合に、セルロースアシレートフィルムにより接着剤の乾燥が妨げられ、接着不良を生じる。
セルロースアシレートフィルムの膜厚が厚ければ透湿度は小さくなり、膜厚が薄ければ透湿度は大きくなる。そこでどのような膜厚のサンプルでも基準を８０μｍに設け換算する必要がある。膜厚の換算は、８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚μｍ／８０μｍとして求める。
透湿度の測定法は、「高分子の物性II」（高分子実験講座４，共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、本発明のセルロースアシレートフィルム試料７０ｍｍφを２５℃、９０％ＲＨ及び６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、商品名、東洋精機(株)）にて、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ2）し、透湿度＝調湿後重量−調湿前重量で求める。
本発明の光学補償シートに用いるセルロースアシレートフィルムの透湿度は、ＪＩＳ規格ＪＩＳＺ０２０８をもとに、温度６０℃、湿度９５％ＲＨ（相対湿度）の条件において測定し、膜厚８０μｍに換算して４００〜２０００ｇ／ｍ2・２４ｈであることが好ましい。５００〜１８００ｇ／ｍ2・２４ｈであることがより好ましく、６００〜１６００ｇ／ｍ2・２４ｈであることが特に好ましい。２０００ｇ／ｍ2・２４ｈを超えると、フィルムのＲｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまう。また、本発明のセルロースアシレートフィルムに光学異方性層を積層して光学補償フィルムとした場合も、Ｒｅ値、Ｒｔｈ値の湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまい好ましくない。この光学補償シートや偏光板が液晶表示装置に組み込まれた場合、色味の変化や視野角の低下を引き起こす。また、セルロースアシレートフィルムの透湿度が４００ｇ／ｍ2・２４ｈ未満では、偏光膜の両面などに貼り付けて偏光板を作製する場合に、セルロースアシレートフィルムにより接着剤の乾燥が妨げられ、接着不良を生じる。
セルロースアシレートフィルムの膜厚が厚ければ透湿度は小さくなり、膜厚が薄ければ透湿度は大きくなる。そこでどのような膜厚のサンプルでも基準を８０μｍに設け換算する必要がある。膜厚の換算は、８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚μｍ／８０μｍとして求める。
透湿度の測定法は、「高分子の物性II」（高分子実験講座４，共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、本発明のセルロースアシレートフィルム試料７０ｍｍφを２５℃、９０％ＲＨ及び６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、商品名、東洋精機(株)）にて、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ2）し、透湿度＝調湿後重量−調湿前重量で求める。
［フィルムの残留溶剤量］
本発明のセルロースアシレートフィルムに対する残留溶剤量が、０．０１〜１．５質量％の範囲となる条件で乾燥することが好ましい。より好ましくは０．０１〜１．０質量％である。本発明に用いる透明支持体の残留溶剤量は１．５％以下とすることでカールを抑制できる。１．０％以下であることがより好ましい。これは、前述のソルベントキャスト方法による成膜時の残留溶剤量が少なくすることで自由体積が小さくなることが主要な効果要因になるためと思われる。
本発明のセルロースアシレートフィルムに対する残留溶剤量が、０．０１〜１．５質量％の範囲となる条件で乾燥することが好ましい。より好ましくは０．０１〜１．０質量％である。本発明に用いる透明支持体の残留溶剤量は１．５％以下とすることでカールを抑制できる。１．０％以下であることがより好ましい。これは、前述のソルベントキャスト方法による成膜時の残留溶剤量が少なくすることで自由体積が小さくなることが主要な効果要因になるためと思われる。
［フィルムの吸湿膨張係数］
本発明のセルロースアシレートフィルムの吸湿膨張係数は３０×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１０×１０-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０-5／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。この吸湿膨張係数を調節することで、本発明のセルロースアシレートフィルムを光学補償フィルム支持体として用いた際、光学補償フィルムの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。
本発明のセルロースアシレートフィルムの吸湿膨張係数は３０×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０-5／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１０×１０-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０-5／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。この吸湿膨張係数を調節することで、本発明のセルロースアシレートフィルムを光学補償フィルム支持体として用いた際、光学補償フィルムの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。
［表面処理］
セルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上を達成することができる。例えば、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、３０頁〜３２頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
セルロースアシレートフィルムは、場合により表面処理を行うことによって、セルロースアシレートフィルムと各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上を達成することができる。例えば、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、３０頁〜３２頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
［アルカリ鹸化処理］
アルカリ鹸化処理は、セルロースアシレートフィルムを鹸化液の槽に直接浸漬する方法、又は鹸化液をセルロースアシレートフィルムに塗布する方法により実施することが好ましい。塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法及びＥ型塗布法を挙げることができる。
アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液をセルロースアシレートフィルムに対して塗布するために、濡れ性がよく、また鹸化液溶媒によってセルロースアシレートフィルム表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒〜５分が好ましく、５秒〜５分がさらに好ましく、２０秒〜３分が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。
アルカリ鹸化処理は、セルロースアシレートフィルムを鹸化液の槽に直接浸漬する方法、又は鹸化液をセルロースアシレートフィルムに塗布する方法により実施することが好ましい。塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法及びＥ型塗布法を挙げることができる。
アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液をセルロースアシレートフィルムに対して塗布するために、濡れ性がよく、また鹸化液溶媒によってセルロースアシレートフィルム表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒〜５分が好ましく、５秒〜５分がさらに好ましく、２０秒〜３分が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。
［機能層］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、その用途として光学用途と写真感光材料に適用される。特に光学用途が液晶表示装置であることが好ましく、液晶表示装置が、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償シートを配置した構成であることがさらに好ましい。これらの液晶表示装置としては、ＴＮ、ＩＰＳ、ＦＬＣ、ＡＦＬＣ、ＯＣＢ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＶＡおよびＨＡＮが好ましい。
その際に前述の光学用途に本発明のセルロースアシレートフィルムを用いるに際し、各種の機能層を付与することが実施される。それらは、例えば、帯電防止層、硬化樹脂層（透明ハードコート層）、反射防止層、易接着層、防眩層、光学補償層、配向層、液晶層などである。本発明のセルロースアシレートフィルムを用いることができるこれらの機能層及びその材料としては、界面活性剤、滑り剤、マット剤、帯電防止層、ハードコート層などが挙げられ、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、３２頁〜４５頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、その用途として光学用途と写真感光材料に適用される。特に光学用途が液晶表示装置であることが好ましく、液晶表示装置が、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償シートを配置した構成であることがさらに好ましい。これらの液晶表示装置としては、ＴＮ、ＩＰＳ、ＦＬＣ、ＡＦＬＣ、ＯＣＢ、ＳＴＮ、ＥＣＢ、ＶＡおよびＨＡＮが好ましい。
その際に前述の光学用途に本発明のセルロースアシレートフィルムを用いるに際し、各種の機能層を付与することが実施される。それらは、例えば、帯電防止層、硬化樹脂層（透明ハードコート層）、反射防止層、易接着層、防眩層、光学補償層、配向層、液晶層などである。本発明のセルロースアシレートフィルムを用いることができるこれらの機能層及びその材料としては、界面活性剤、滑り剤、マット剤、帯電防止層、ハードコート層などが挙げられ、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、３２頁〜４５頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
［用途（偏光板）］
本発明のセルロースアシレートフィルムの用途について説明する。
本発明の光学フィルムは特に偏光板保護フィルム用として有用である。偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、特開平６−１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施してもよい。
保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶を含む基板が配置されているが、本発明の光学フィルムを適用した偏光板保護フィルムはどの部位に配置しても優れた表示性が得られる。特に液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フィルムには透明ハードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板保護フィルムをこの部分に用いることが得に好ましい。
本発明のセルロースアシレートフィルムの用途について説明する。
本発明の光学フィルムは特に偏光板保護フィルム用として有用である。偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、特開平６−１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施してもよい。
保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶を含む基板が配置されているが、本発明の光学フィルムを適用した偏光板保護フィルムはどの部位に配置しても優れた表示性が得られる。特に液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護フィルムには透明ハードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられるため、該偏光板保護フィルムをこの部分に用いることが得に好ましい。
［用途（光学補償フィルム）］
本発明のセルロースアシレートフィルムは、様々な用途で用いることができ、液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いると特に効果がある。なお、光学補償フィルムとは、一般に液晶表示装置に用いられ、位相差を補償する光学材料のことを指し、位相差板、光学補償シートなどと同義である。光学補償フィルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、様々な用途で用いることができ、液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いると特に効果がある。なお、光学補償フィルムとは、一般に液晶表示装置に用いられ、位相差を補償する光学材料のことを指し、位相差板、光学補償シートなどと同義である。光学補償フィルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。
（一般的な液晶表示装置の構成）
セルロースアシレートフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合は、偏光素子の透過軸と、セルロースアシレートフィルムからなる光学補償フィルムの遅相軸とをどのような角度で配置しても構わない。液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。
セルロースアシレートフィルムを光学補償フィルムとして用いる場合は、偏光素子の透過軸と、セルロースアシレートフィルムからなる光学補償フィルムの遅相軸とをどのような角度で配置しても構わない。液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。
（液晶表示装置の種類）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明のセルロースアシレートフィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明のセルロースアシレートフィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
（ＴＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ． Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ． Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ． Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ． Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。
本発明のセルロースアシレートフィルムを、ＴＮモードの液晶セルを有するＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。ＴＮモードの液晶セルとＴＮ型液晶表示装置については、古くから良く知られている。ＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平３−９３２５号、特開平６−１４８４２９号、特開平８−５０２０６号、特開平９−２６５７２号の各公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ． Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ． Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１４３や、Ｊｐｎ． Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ． Ｖｏｌ．３６（１９９７）ｐ．１０６８）に記載がある。
（ＳＴＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムを、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。
本発明のセルロースアシレートフィルムを、ＳＴＮモードの液晶セルを有するＳＴＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として用いてもよい。一般的にＳＴＮ型液晶表示装置では、液晶セル中の棒状液晶性分子が９０〜３６０度の範囲にねじられており、棒状液晶性分子の屈折率異方性（Δｎ）とセルギャップ（ｄ）との積（Δｎｄ）が３００〜１５００ｎｍの範囲にある。ＳＴＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開２０００−１０５３１６号公報に記載がある。
（ＶＡ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として特に有利に用いられる。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートのＲｅレターデーション値を０〜１５０ｎｍとし、Ｒｔｈレターデーション値を７０〜４００ｎｍとすることが好ましい。Ｒｅレターデーション値は、２０〜７０ｎｍであることが更に好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈレターデーション値は７０〜２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈレターデーション値は１５０〜４００ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＶＡモードの液晶セルを有するＶＡ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体として特に有利に用いられる。ＶＡ型液晶表示装置に用いる光学補償シートのＲｅレターデーション値を０〜１５０ｎｍとし、Ｒｔｈレターデーション値を７０〜４００ｎｍとすることが好ましい。Ｒｅレターデーション値は、２０〜７０ｎｍであることが更に好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に二枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈレターデーション値は７０〜２５０ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置に一枚の光学的異方性ポリマーフィルムを使用する場合、フィルムのＲｔｈレターデーション値は１５０〜４００ｎｍであることが好ましい。ＶＡ型液晶表示装置は、例えば特開平１０−１２３５７６号公報に記載されているような配向分割された方式であっても構わない。
（ＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＩＰＳモードおよびＥＣＢモードの液晶セルを有するＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体、または偏光板の保護膜としても特に有利に用いられる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は色味の改善、視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。この態様においては、液晶セルの上下の前記偏光板の保護膜のうち、液晶セルと偏光板との間に配置された保護膜（セル側の保護膜）に本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板を少なくとも片側一方に用いることが好ましい。更に好ましくは、偏光板の保護膜と液晶セルの間に光学異方性層を配置し、配置された光学異方性層のリターデーションの値を、液晶層のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定するのが好ましい。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＩＰＳモードおよびＥＣＢモードの液晶セルを有するＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体、または偏光板の保護膜としても特に有利に用いられる。これらのモードは黒表示時に液晶材料が略平行に配向する態様であり、電圧無印加状態で液晶分子を基板面に対して平行配向させて、黒表示する。これらの態様において本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板は色味の改善、視野角拡大、コントラストの良化に寄与する。この態様においては、液晶セルの上下の前記偏光板の保護膜のうち、液晶セルと偏光板との間に配置された保護膜（セル側の保護膜）に本発明のセルロースアシレートフィルムを用いた偏光板を少なくとも片側一方に用いることが好ましい。更に好ましくは、偏光板の保護膜と液晶セルの間に光学異方性層を配置し、配置された光学異方性層のリターデーションの値を、液晶層のΔｎ・ｄの値の２倍以下に設定するのが好ましい。
（ＯＣＢ型液晶表示装置およびＨＡＮ型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ． Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ． Ｖｏｌ．３８（１９９９）ｐ．２８３７）に記載がある。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＯＣＢモードの液晶セルを有するＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮモードの液晶セルを有するＨＡＮ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートには、レターデーションの絶対値が最小となる方向が光学補償シートの面内にも法線方向にも存在しないことが好ましい。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートの光学的性質も、光学的異方性層の光学的性質、支持体の光学的性質および光学的異方性層と支持体との配置により決定される。ＯＣＢ型液晶表示装置あるいはＨＡＮ型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、特開平９−１９７３９７号公報に記載がある。また、モリ（Ｍｏｒｉ）他の論文（Ｊｐｎ． Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ． Ｖｏｌ．３８（１９９９）ｐ．２８３７）に記載がある。
（反射型液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の光学補償シートとしても有利に用いられる。これらの表示モードは古くから良く知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、ＷＯ９８４８３２０号、特許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、ＷＯ００−６５３８４号に記載がある。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の光学補償シートとしても有利に用いられる。これらの表示モードは古くから良く知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、ＷＯ９８４８３２０号、特許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、ＷＯ００−６５３８４号に記載がある。
（その他の液晶表示装置）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ ｅｔ ａｌ．， ＳＩＤ ９８ Ｄｉｇｅｓｔ １０８９（１９９８））に記載がある。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードの液晶セルを有するＡＳＭ型液晶表示装置の光学補償シートの支持体としても有利に用いられる。ＡＳＭモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴がある。その他の性質は、ＴＮモードの液晶セルと同様である。ＡＳＭモードの液晶セルとＡＳＭ型液晶表示装置については、クメ（Ｋｕｍｅ）他の論文（Ｋｕｍｅ ｅｔ ａｌ．， ＳＩＤ ９８ Ｄｉｇｅｓｔ １０８９（１９９８））に記載がある。
（ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、またハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムへの適用が好ましく実施できる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、本発明のセルロースアシレートフィルムの片面または両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れかあるいは全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公開技報２００１−１７４５、５４頁〜５７頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に詳細に記載されており、本発明のセルロースアシレートフィルムを好ましく用いることができる。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、またハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムへの適用が好ましく実施できる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、本発明のセルロースアシレートフィルムの片面または両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れかあるいは全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公開技報２００１−１７４５、５４頁〜５７頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に詳細に記載されており、本発明のセルロースアシレートフィルムを好ましく用いることができる。
（写真フィルム支持体）
さらに本発明のセルロースアシレートフィルムは、ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としても適用でき、該特許文献に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。それらの技術については、特開２０００−１０５４４５号公報にカラーネガティブに関する記載が詳細に挙げられており、本発明のセルロースアシレートフィルムが好ましく用いられる。またカラー反転ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としての適用も好ましく、特開平１１−２８２１１９号公報に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。
さらに本発明のセルロースアシレートフィルムは、ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としても適用でき、該特許文献に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。それらの技術については、特開２０００−１０５４４５号公報にカラーネガティブに関する記載が詳細に挙げられており、本発明のセルロースアシレートフィルムが好ましく用いられる。またカラー反転ハロゲン化銀写真感光材料の支持体としての適用も好ましく、特開平１１−２８２１１９号公報に記載されている各種の素材や処方さらには処理方法が適用できる。
（透明基板）
本発明のセルロースアシレートフィルムは、光学的異方性がゼロに近く、優れた透明性を持っていることから、液晶表示装置の液晶セルガラス基板の代替、すなわち駆動液晶を封入する透明基板としても用いることができる。
液晶を封入する透明基板はガスバリアー性に優れる必要があることから、必要に応じて本発明のセルロースアシレートフィルムの表面にガスバリアー層を設けてもよい。ガスバリアー層の形態や材質は特に限定されないが、本発明のセルロースアシレートフィルムの少なくとも片面にＳｉＯ2等を蒸着したり、あるいは塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーなど相対的にガスバリアー性の高いポリマーのコート層を設ける方法が考えられ、これらを適宜使用できる。
また液晶を封入する透明基板として用いるには、電圧印加によって液晶を駆動するための透明電極を設けてもよい。透明電極としては特に限定されないが、本発明のセルロースアシレートフィルムの少なくとも片面に、金属膜、金属酸化物膜などを積層することによって透明電極を設けることができる。中でも透明性、導電性、機械的特性の点から、金属酸化物膜が好ましく、なかでも酸化スズを主として酸化亜鉛を２〜１５％含む酸化インジウムの薄膜が好ましく使用できる。これら技術の詳細は例えば、特開２００１−１２５０７９号公報や特開２０００−２２７６０３号公報などに公開されている。
本発明のセルロースアシレートフィルムは、光学的異方性がゼロに近く、優れた透明性を持っていることから、液晶表示装置の液晶セルガラス基板の代替、すなわち駆動液晶を封入する透明基板としても用いることができる。
液晶を封入する透明基板はガスバリアー性に優れる必要があることから、必要に応じて本発明のセルロースアシレートフィルムの表面にガスバリアー層を設けてもよい。ガスバリアー層の形態や材質は特に限定されないが、本発明のセルロースアシレートフィルムの少なくとも片面にＳｉＯ2等を蒸着したり、あるいは塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系ポリマーなど相対的にガスバリアー性の高いポリマーのコート層を設ける方法が考えられ、これらを適宜使用できる。
また液晶を封入する透明基板として用いるには、電圧印加によって液晶を駆動するための透明電極を設けてもよい。透明電極としては特に限定されないが、本発明のセルロースアシレートフィルムの少なくとも片面に、金属膜、金属酸化物膜などを積層することによって透明電極を設けることができる。中でも透明性、導電性、機械的特性の点から、金属酸化物膜が好ましく、なかでも酸化スズを主として酸化亜鉛を２〜１５％含む酸化インジウムの薄膜が好ましく使用できる。これら技術の詳細は例えば、特開２００１−１２５０７９号公報や特開２０００−２２７６０３号公報などに公開されている。
本発明のハロゲン化銀写真感光材料に用いられる種々の材料や装置等については、例えば、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、５９頁、２００１年３月１５日発行、発明協会）に記載のものを採用できる。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。
＜合成例１＞
Ａ−１の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた２００ｍｌの三ツ口フラスコに１４．６ｇのアジピン酸を量り取り、４７．６ｇの塩化チオニルをゆっくりと滴下した後、８０℃で１時間反応させた。反応液が均一になったのを確認した後、アスピレーターを用いて反応系をそのまま濃縮し、過剰量の塩化チオニルを留去することで油状生成物を得た。新たにメカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた５００ｍｌの三ツ口フラスコに２４．９ｇのＮ−メチルシクロヘキシルアミン、２２．３ｇのトリエチルアミンおよび２００ｍｌのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を量り取り、氷冷下、上記反応で得られた油状物をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻してさらに４．５時間反応させた。得られた反応混合物を水１Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると白色結晶が析出した。結晶を濾別後、５０℃で終夜乾燥することで目的の化合物Ａ−１を１５．１ｇ得た（収率４５％）。
Ａ−１の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた２００ｍｌの三ツ口フラスコに１４．６ｇのアジピン酸を量り取り、４７．６ｇの塩化チオニルをゆっくりと滴下した後、８０℃で１時間反応させた。反応液が均一になったのを確認した後、アスピレーターを用いて反応系をそのまま濃縮し、過剰量の塩化チオニルを留去することで油状生成物を得た。新たにメカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた５００ｍｌの三ツ口フラスコに２４．９ｇのＮ−メチルシクロヘキシルアミン、２２．３ｇのトリエチルアミンおよび２００ｍｌのテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を量り取り、氷冷下、上記反応で得られた油状物をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻してさらに４．５時間反応させた。得られた反応混合物を水１Ｌへ激しく攪拌しながら投入すると白色結晶が析出した。結晶を濾別後、５０℃で終夜乾燥することで目的の化合物Ａ−１を１５．１ｇ得た（収率４５％）。
＜合成例２＞
Ａ−２の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに７１．３ｇの３，３'−チオジプロピオン酸を量り取り、１０４．７ｇの塩化チオニルをゆっくりと滴下した後、８０℃で２時間反応させた。反応液が均一になったのを確認した後、アスピレーターを用いて反応系をそのまま濃縮し、過剰量の塩化チオニルを留去することで油状生成物を得た。新たにメカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコに９２．１ｇのＮ−メチルシクロヘキシルアミン、８２．３ｇのトリエチルアミンおよび５００ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、上記反応で得られた油状物をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻してさらに４時間反応させた。得られた反応混合物に水５００ｍｌを投入し、５００ｍｌの酢酸エチルで分液・抽出した。得られた有機層を５００ｍｌの１Ｎ塩酸、５００ｍｌの飽和重曹水および５００ｍｌの水で２回ずつ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮して黄色油状物を得た。得られた油状物を室温で真空乾燥することにより目的の化合物Ａ−２を１２０．１ｇ得た（収率８１％）。
Ａ−２の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに７１．３ｇの３，３'−チオジプロピオン酸を量り取り、１０４．７ｇの塩化チオニルをゆっくりと滴下した後、８０℃で２時間反応させた。反応液が均一になったのを確認した後、アスピレーターを用いて反応系をそのまま濃縮し、過剰量の塩化チオニルを留去することで油状生成物を得た。新たにメカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた１Ｌの三ツ口フラスコに９２．１ｇのＮ−メチルシクロヘキシルアミン、８２．３ｇのトリエチルアミンおよび５００ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、上記反応で得られた油状物をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻してさらに４時間反応させた。得られた反応混合物に水５００ｍｌを投入し、５００ｍｌの酢酸エチルで分液・抽出した。得られた有機層を５００ｍｌの１Ｎ塩酸、５００ｍｌの飽和重曹水および５００ｍｌの水で２回ずつ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮して黄色油状物を得た。得られた油状物を室温で真空乾燥することにより目的の化合物Ａ−２を１２０．１ｇ得た（収率８１％）。
＜合成例３＞
Ａ−３の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた５００ｍｌの三ツ口フラスコに４０．４ｇのジシクロヘキシルアミン、２２．６ｇのトリエチルアミンおよび１５０ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、１９．４ｇのアジピン酸クロリドをゆっくりと滴下した後、室温で２時間反応させた。得られた反応混合物に水３００ｍｌを投入し、３００ｍｌの酢酸エチルで分液・抽出した。得られた有機層を３００ｍｌの１Ｎ塩酸、３００ｍｌの飽和重曹水および３００ｍｌの水で２回ずつ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮して透明油状物を得た。得られた油状物を室温で真空乾燥することにより目的の化合物Ａ−３を３０．０ｇ得た（収率６０％）。
Ａ−３の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた５００ｍｌの三ツ口フラスコに４０．４ｇのジシクロヘキシルアミン、２２．６ｇのトリエチルアミンおよび１５０ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、１９．４ｇのアジピン酸クロリドをゆっくりと滴下した後、室温で２時間反応させた。得られた反応混合物に水３００ｍｌを投入し、３００ｍｌの酢酸エチルで分液・抽出した。得られた有機層を３００ｍｌの１Ｎ塩酸、３００ｍｌの飽和重曹水および３００ｍｌの水で２回ずつ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮して透明油状物を得た。得られた油状物を室温で真空乾燥することにより目的の化合物Ａ−３を３０．０ｇ得た（収率６０％）。
＜合成例４＞
Ａ−４の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに２５．０ｇの３−メチルアジピン酸を量り取り、４０．９ｇの塩化チオニルをゆっくりと滴下した後、８０℃で２時間反応させた。反応液が均一になったのを確認した後、アスピレーターを用いて反応系をそのまま濃縮し、過剰量の塩化チオニルを留去することで油状生成物を得た。新たにメカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた５００ｍｌの三ツ口フラスコに２７．３ｇのＮ−メチルシクロヘキシルアミン、２４．３ｇのトリエチルアミンおよび１００ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、上記反応で得られた油状物をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻してさらに４時間反応させた。得られた反応混合物に水３００ｍｌを投入し、３００ｍｌの酢酸エチルで分液・抽出した。得られた有機層を３００ｍｌの１Ｎ塩酸、３００ｍｌの飽和重曹水および３００ｍｌの水で２回ずつ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮して透明油状物を得た。得られた油状物を室温で真空乾燥することにより目的の化合物Ａ−４を２５．３ｇ得た（収率４７％）。
Ａ−４の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに２５．０ｇの３−メチルアジピン酸を量り取り、４０．９ｇの塩化チオニルをゆっくりと滴下した後、８０℃で２時間反応させた。反応液が均一になったのを確認した後、アスピレーターを用いて反応系をそのまま濃縮し、過剰量の塩化チオニルを留去することで油状生成物を得た。新たにメカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた５００ｍｌの三ツ口フラスコに２７．３ｇのＮ−メチルシクロヘキシルアミン、２４．３ｇのトリエチルアミンおよび１００ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、上記反応で得られた油状物をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻してさらに４時間反応させた。得られた反応混合物に水３００ｍｌを投入し、３００ｍｌの酢酸エチルで分液・抽出した。得られた有機層を３００ｍｌの１Ｎ塩酸、３００ｍｌの飽和重曹水および３００ｍｌの水で２回ずつ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮して透明油状物を得た。得られた油状物を室温で真空乾燥することにより目的の化合物Ａ−４を２５．３ｇ得た（収率４７％）。
＜合成例５＞
Ａ−５の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに２０．２ｇのセバシン酸を量り取り、４７．６ｇの塩化チオニルをゆっくりと滴下した後、８０℃で２時間反応させた。反応液が均一になったのを確認した後、アスピレーターを用いて反応系をそのまま濃縮し、過剰量の塩化チオニルを留去することで油状生成物を得た。新たにメカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに２４．９ｇのＮ−メチルシクロヘキシルアミン、２２．３ｇのトリエチルアミンおよび２００ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、上記反応で得られた油状物をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻してさらに４時間反応させた。得られた反応混合物を水１Ｌへ投入したところ白色結晶が析出した。結晶を濾別後、５０℃で終夜乾燥することで目的の化合物Ａ−５を１９．９ｇ得た（収率８４％）。
Ａ−５の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに２０．２ｇのセバシン酸を量り取り、４７．６ｇの塩化チオニルをゆっくりと滴下した後、８０℃で２時間反応させた。反応液が均一になったのを確認した後、アスピレーターを用いて反応系をそのまま濃縮し、過剰量の塩化チオニルを留去することで油状生成物を得た。新たにメカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに２４．９ｇのＮ−メチルシクロヘキシルアミン、２２．３ｇのトリエチルアミンおよび２００ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、上記反応で得られた油状物をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻してさらに４時間反応させた。得られた反応混合物を水１Ｌへ投入したところ白色結晶が析出した。結晶を濾別後、５０℃で終夜乾燥することで目的の化合物Ａ−５を１９．９ｇ得た（収率８４％）。
＜合成例６＞
Ａ−８の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに２０．２ｇのセバシン酸を量り取り、４７．６ｇの塩化チオニルをゆっくりと滴下した後、８０℃で２時間反応させた。反応液が均一になったのを確認した後、アスピレーターを用いて反応系をそのまま濃縮し、過剰量の塩化チオニルを留去することで油状生成物を得た。新たにメカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに３９．９ｇのジシクロヘキシルアミン、２２．３ｇのトリエチルアミンおよび２００ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、上記反応で得られた油状物をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻してさらに４時間反応させた。得られた反応混合物を水１Ｌへ投入したところ白色結晶が析出した。結晶を濾別後、５０℃で終夜乾燥することで目的の化合物Ａ−８を２５．４ｇ得た（収率４８％）。
Ａ−８の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに２０．２ｇのセバシン酸を量り取り、４７．６ｇの塩化チオニルをゆっくりと滴下した後、８０℃で２時間反応させた。反応液が均一になったのを確認した後、アスピレーターを用いて反応系をそのまま濃縮し、過剰量の塩化チオニルを留去することで油状生成物を得た。新たにメカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに３９．９ｇのジシクロヘキシルアミン、２２．３ｇのトリエチルアミンおよび２００ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、上記反応で得られた油状物をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻してさらに４時間反応させた。得られた反応混合物を水１Ｌへ投入したところ白色結晶が析出した。結晶を濾別後、５０℃で終夜乾燥することで目的の化合物Ａ−８を２５．４ｇ得た（収率４８％）。
＜合成例７＞
Ａ−１３の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた５００ｍｌの三ツ口フラスコに２８．４ｇのジ−ｓｅｃ−ブチルアミン、２２．６ｇのトリエチルアミンおよび１５０ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、１８．３ｇのアジピン酸クロリドをゆっくりと滴下した後、室温で２時間反応させた。得られた反応混合物に水３００ｍｌを投入し、３００ｍｌの酢酸エチルで分液・抽出した。得られた有機層を３００ｍｌの１Ｎ塩酸、３００ｍｌの飽和重曹水および３００ｍｌの水で２回ずつ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮して透明油状物を得た。得られた油状物を室温で真空乾燥することにより目的の化合物Ａ−１３を２２．１ｇ得た（収率６０％）。
Ａ−１３の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた５００ｍｌの三ツ口フラスコに２８．４ｇのジ−ｓｅｃ−ブチルアミン、２２．６ｇのトリエチルアミンおよび１５０ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、１８．３ｇのアジピン酸クロリドをゆっくりと滴下した後、室温で２時間反応させた。得られた反応混合物に水３００ｍｌを投入し、３００ｍｌの酢酸エチルで分液・抽出した。得られた有機層を３００ｍｌの１Ｎ塩酸、３００ｍｌの飽和重曹水および３００ｍｌの水で２回ずつ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮して透明油状物を得た。得られた油状物を室温で真空乾燥することにより目的の化合物Ａ−１３を２２．１ｇ得た（収率６０％）。
＜合成例８＞
Ａ−１６の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた５００ｍｌの三ツ口フラスコに１６．１ｇのジエチルアミン、２２．６ｇのトリエチルアミンおよび１５０ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、２３．９ｇのセバシン酸クロリドをゆっくりと滴下した後、室温で２時間反応させた。得られた反応混合物に水３００ｍｌを投入し、３００ｍｌの酢酸エチルで分液・抽出した。得られた有機層を３００ｍｌの１Ｎ塩酸、３００ｍｌの飽和重曹水および３００ｍｌの水で２回ずつ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮して透明油状物を得た。得られた油状物を室温で真空乾燥することにより目的の化合物Ａ−１６を１９．９ｇ得た（収率６４％）。
Ａ−１６の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた５００ｍｌの三ツ口フラスコに１６．１ｇのジエチルアミン、２２．６ｇのトリエチルアミンおよび１５０ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、２３．９ｇのセバシン酸クロリドをゆっくりと滴下した後、室温で２時間反応させた。得られた反応混合物に水３００ｍｌを投入し、３００ｍｌの酢酸エチルで分液・抽出した。得られた有機層を３００ｍｌの１Ｎ塩酸、３００ｍｌの飽和重曹水および３００ｍｌの水で２回ずつ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮して透明油状物を得た。得られた油状物を室温で真空乾燥することにより目的の化合物Ａ−１６を１９．９ｇ得た（収率６４％）。
＜合成例９＞
Ａ−２０の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた５００ｍｌの三ツ口フラスコに２８．４ｇのジ−ｓｅｃ−ブチルアミン、２２．６ｇのトリエチルアミンおよび１５０ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、２３．９ｇのセバシン酸クロリドをゆっくりと滴下した後、室温で２時間反応させた。得られた反応混合物に水３００ｍｌを投入し、３００ｍｌの酢酸エチルで分液・抽出した。得られた有機層を３００ｍｌの１Ｎ塩酸、３００ｍｌの飽和重曹水および３００ｍｌの水で２回ずつ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮して透明油状物を得た。得られた油状物を室温で真空乾燥することにより目的の化合物Ａ−２０を２９．７ｇ得た（収率７０％）。
Ａ−２０の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた５００ｍｌの三ツ口フラスコに２８．４ｇのジ−ｓｅｃ−ブチルアミン、２２．６ｇのトリエチルアミンおよび１５０ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、２３．９ｇのセバシン酸クロリドをゆっくりと滴下した後、室温で２時間反応させた。得られた反応混合物に水３００ｍｌを投入し、３００ｍｌの酢酸エチルで分液・抽出した。得られた有機層を３００ｍｌの１Ｎ塩酸、３００ｍｌの飽和重曹水および３００ｍｌの水で２回ずつ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮して透明油状物を得た。得られた油状物を室温で真空乾燥することにより目的の化合物Ａ−２０を２９．７ｇ得た（収率７０％）。
＜合成例１０＞
Ａ−２２の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに２０．２ｇのセバシン酸を量り取り、４７．６ｇの塩化チオニルをゆっくりと滴下した後、８０℃で２時間反応させた。反応液が均一になったのを確認した後、アスピレーターを用いて反応系をそのまま濃縮し、過剰量の塩化チオニルを留去することで油状生成物を得た。新たにメカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに２２．３ｇのジイソプロピルアミン、２２．３ｇのトリエチルアミンおよび２００ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、上記反応で得られた油状物をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻してさらに４時間反応させた。得られた反応混合物を水１Ｌへ投入したところ白色結晶が析出した。結晶を濾別後、５０℃で終夜乾燥することで目的の化合物Ａ−２２を２９．９ｇ得た（収率８１％）。
Ａ−２２の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに２０．２ｇのセバシン酸を量り取り、４７．６ｇの塩化チオニルをゆっくりと滴下した後、８０℃で２時間反応させた。反応液が均一になったのを確認した後、アスピレーターを用いて反応系をそのまま濃縮し、過剰量の塩化チオニルを留去することで油状生成物を得た。新たにメカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに２２．３ｇのジイソプロピルアミン、２２．３ｇのトリエチルアミンおよび２００ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、上記反応で得られた油状物をゆっくりと滴下した。滴下終了後、室温に戻してさらに４時間反応させた。得られた反応混合物を水１Ｌへ投入したところ白色結晶が析出した。結晶を濾別後、５０℃で終夜乾燥することで目的の化合物Ａ−２２を２９．９ｇ得た（収率８１％）。
＜合成例１１＞
Ｂ−１の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに１０．０ｇのＮ，Ｎ'−ジメチル−１，３−ジアミノプロパン、２０．８ｇのトリエチルアミンおよび１００ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、２９．６ｇのシクロヘキサンカルボニルクロリドをゆっくりと滴下した後、室温に戻し、さらに室温で２時間反応させた。得られた反応混合物に水２００ｍｌを投入し、３００ｍｌの酢酸エチルで分液・抽出した。得られた有機層を３００ｍｌの１Ｎ塩酸、３００ｍｌの飽和重曹水および３００ｍｌの水で２回ずつ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮して透明油状物を得た。得られた油状物を室温で真空乾燥することにより目的の化合物Ｂ−１を２７．７ｇ得た（収率４７％）。
Ｂ−１の合成
メカニカルスターラー、温度計、冷却管、滴下ロートをつけた３００ｍｌの三ツ口フラスコに１０．０ｇのＮ，Ｎ'−ジメチル−１，３−ジアミノプロパン、２０．８ｇのトリエチルアミンおよび１００ｍｌのＴＨＦを量り取り、氷冷下、２９．６ｇのシクロヘキサンカルボニルクロリドをゆっくりと滴下した後、室温に戻し、さらに室温で２時間反応させた。得られた反応混合物に水２００ｍｌを投入し、３００ｍｌの酢酸エチルで分液・抽出した。得られた有機層を３００ｍｌの１Ｎ塩酸、３００ｍｌの飽和重曹水および３００ｍｌの水で２回ずつ洗浄し、無水硫酸マグネシウムで脱水した後、濃縮して透明油状物を得た。得られた油状物を室温で真空乾燥することにより目的の化合物Ｂ−１を２７．７ｇ得た（収率４７％）。
＜実施例１＞ セルロース体フィルムおよびセルロース体フィルム用改質剤
（１−１）セルロースアシレート溶液の作製
攪拌羽根を有する５Ｌのガラス容器に、下記の溶媒混合溶液によく攪拌・分散しつつ、下記記述のセルローストリアセテート粉体Ａ（フレーク）を徐々に添加し、全体が２ｋｇになるように仕込んだ。なお、溶媒である酢酸メチル、アセトンおよびエタノールは、すべてその含水率が０．２質量％以下のものを利用した。まず、セルローストリアセテートの粉末は、分散タンクに紛体を投入し窒素ガスを封入して、ディゾルバータイプの偏芯攪拌軸および、中心軸にアンカー翼を有する攪拌機で３０分間分散した。分散の開始温度は３０℃であった。分散終了後、高速攪拌は停止し、アンカー翼の周速を０．５ｍ／ｓｅｃとしてさらに１００分間攪拌し、セルローストリアセテートフレークを膨潤させた。膨潤終了までは窒素ガスでタンク内を０．１２ＭＰａになるように加圧した。この際のタンク内の酸素濃度は２体積％未満であり防爆上で問題のない状態を保った。またドープ中の水分量は０．２質量％以下であることを確認した。セルロースアシレート溶液の組成は以下の通りである。
（１−１）セルロースアシレート溶液の作製
攪拌羽根を有する５Ｌのガラス容器に、下記の溶媒混合溶液によく攪拌・分散しつつ、下記記述のセルローストリアセテート粉体Ａ（フレーク）を徐々に添加し、全体が２ｋｇになるように仕込んだ。なお、溶媒である酢酸メチル、アセトンおよびエタノールは、すべてその含水率が０．２質量％以下のものを利用した。まず、セルローストリアセテートの粉末は、分散タンクに紛体を投入し窒素ガスを封入して、ディゾルバータイプの偏芯攪拌軸および、中心軸にアンカー翼を有する攪拌機で３０分間分散した。分散の開始温度は３０℃であった。分散終了後、高速攪拌は停止し、アンカー翼の周速を０．５ｍ／ｓｅｃとしてさらに１００分間攪拌し、セルローストリアセテートフレークを膨潤させた。膨潤終了までは窒素ガスでタンク内を０．１２ＭＰａになるように加圧した。この際のタンク内の酸素濃度は２体積％未満であり防爆上で問題のない状態を保った。またドープ中の水分量は０．２質量％以下であることを確認した。セルロースアシレート溶液の組成は以下の通りである。
セルローストリアセテートＡ（ＳＡ＋ＳＢが２．７８、ＳＡが２．７８、ＳＢが０で、粘度平均重合度３０３、含水率が１質量％以下のセルロースアシレートフレーク、また、セルロースアシレートの６位の置換度が０．９０のものを用いた。）（１００質量部） 、ジクロロメタン（３００．０質量部）、メタノール（４５．０質量部）、下記に示すＴＰＰ／ＢＤＰ（２／１質量部）（１２．０質量部）を用いて表１記載の試料１０２を作製した。
試料１０１に関しては、試料１０２で用いたＴＰＰ／ＢＤＰを添加せずに作製した。また、試料１０３〜１２１に関しては、表１に示すとおり、試料１０２で用いたＴＰＰ／ＢＤＰを各々比較化合物、本発明の改質剤に置き換えて８．０質量部もしくは１２．０質量部用いて作製した。
（１−２）セルローストリアセテートフィルム溶液
得られた不均一なゲル状溶液をスクリューポンプで送液して、−７０℃で３分間となるように冷却部分を通過させた。冷却は冷凍機で冷却した−８０℃の冷媒を用いて実施した。そして、冷却により得られた溶液はステンレス製の容器に移送し、５０℃で２時間攪拌し均一溶液とした後、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（東洋濾紙（株）製、＃６３）でろ過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの濾紙（ポール社製、ＦＨ０２５）にて濾過した。
得られた不均一なゲル状溶液をスクリューポンプで送液して、−７０℃で３分間となるように冷却部分を通過させた。冷却は冷凍機で冷却した−８０℃の冷媒を用いて実施した。そして、冷却により得られた溶液はステンレス製の容器に移送し、５０℃で２時間攪拌し均一溶液とした後、絶対濾過精度０．０１ｍｍの濾紙（東洋濾紙（株）製、＃６３）でろ過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの濾紙（ポール社製、ＦＨ０２５）にて濾過した。
（１−３）セルローストリアセテートフィルムの作製
ろ過済みの５０℃のセルローストリアセテート溶液を、流延ギーサーを通して鏡面ステンレス支持体上に流延した。支持体の温度は５℃であり、流延スピードは３ｍ／分でその塗布幅は３０ｃｍとした。室温で１分放置し、その後に乾燥のために５５℃の乾燥風を送風した。５分後に鏡面ステンレス支持体から剥ぎ取り後、１３３℃で２７分乾燥して、膜厚８０μｍのセルローストリアセテートフィルムを得た。
ろ過済みの５０℃のセルローストリアセテート溶液を、流延ギーサーを通して鏡面ステンレス支持体上に流延した。支持体の温度は５℃であり、流延スピードは３ｍ／分でその塗布幅は３０ｃｍとした。室温で１分放置し、その後に乾燥のために５５℃の乾燥風を送風した。５分後に鏡面ステンレス支持体から剥ぎ取り後、１３３℃で２７分乾燥して、膜厚８０μｍのセルローストリアセテートフィルムを得た。
（１−４）セルローストリアセテートフィルムの透湿度、熱揮散性およびＲｔｈの試験
得られたセルローストリアセテートフィルムについて、透湿度、熱揮散性およびＲｔｈ試験を行った。本実施例において、セルローストリアセテートフィルムの透湿度、熱揮散性およびＲｔｈ試験は以下のように行った。
得られたセルローストリアセテートフィルムについて、透湿度、熱揮散性およびＲｔｈ試験を行った。本実施例において、セルローストリアセテートフィルムの透湿度、熱揮散性およびＲｔｈ試験は以下のように行った。
（透湿度の測定）
塩化カルシウムを入れたカップを、各々のフィルム試料を用いて蓋をし、かつ、密閉したものを、６０℃および９５％ＲＨの条件で、２４時間放置した前後の重量変化（ｇ／（ｍ2・ｄａｙ））から、塩化カルシウムの吸湿性に基づくセルローストリアセテートフィルムの透湿度を評価した。結果を表１に示す。
塩化カルシウムを入れたカップを、各々のフィルム試料を用いて蓋をし、かつ、密閉したものを、６０℃および９５％ＲＨの条件で、２４時間放置した前後の重量変化（ｇ／（ｍ2・ｄａｙ））から、塩化カルシウムの吸湿性に基づくセルローストリアセテートフィルムの透湿度を評価した。結果を表１に示す。
（熱揮散性の測定）
セイコーインスツルメンツ（株）製ＴＧ／ＤＴＡ同時測定装置（ＴＧ／ＤＴＡ６２００、商品名）を用いて、１３３℃、１時間保持したときのフィルムの重量減少を測定し、低分子成分である可塑剤および本発明の改質剤の熱揮散性を評価した。なお、重量減少の数値は小数点以下第２位を四捨五入して算出した。結果を表１に示す。
セイコーインスツルメンツ（株）製ＴＧ／ＤＴＡ同時測定装置（ＴＧ／ＤＴＡ６２００、商品名）を用いて、１３３℃、１時間保持したときのフィルムの重量減少を測定し、低分子成分である可塑剤および本発明の改質剤の熱揮散性を評価した。なお、重量減少の数値は小数点以下第２位を四捨五入して算出した。結果を表１に示す。
（Ｒｔｈの測定）
試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、Ｒｅは自動複屈折計ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）社製）において波長５８９ｎｍの光をフイルム法線方向に入射させて測定した。また、Ｒｔｈは前記Ｒｅと、面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向を０°としてサンプルを１０°ごとに５０°まで傾斜させて波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値を基に、平均屈折率の仮定値１．４８および膜厚を入力し算出した。
試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、Ｒｅは自動複屈折計ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）社製）において波長５８９ｎｍの光をフイルム法線方向に入射させて測定した。また、Ｒｔｈは前記Ｒｅと、面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向を０°としてサンプルを１０°ごとに５０°まで傾斜させて波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値を基に、平均屈折率の仮定値１．４８および膜厚を入力し算出した。
表１中の比較化合物ＴＰＰ、ＢＤＰ、Ｄ−１およびＤ−２のそれぞれの構造について下記に示す。
比較化合物
表１より、本発明の化合物Ａ−１、Ａ−２、Ａ−３、Ａ−４、Ａ−５、Ａ−８、Ａ−１３、Ａ−１６、Ａ−２０、Ａ−２２、Ｂ−１およびＣ−１を添加することにより、汎用に使用されているＴＰＰ／ＢＤＰや、本発明の改質剤と類似する（但し、本発明の規定の範囲外である）骨格を有するＤ−１およびＤ−２よりも、低い透湿性を有するセルローストリアセテートフィルムが作製できることがわかった。また、表１記載の本発明の改質剤は低分子化合物でありながら、熱揮散性はいずれも０．１％程度と非常に低く、本発明の改質剤が従来の可塑剤に比べて優れていることがわかった。また、本発明の化合物を添加したセルローストリアセテートフィルムは、前記の低い透湿性および低い揮散性に加え、著しく小さな光学異方性（Ｒｔｈ）を示すという効果も奏した。
＜実施例２＞
実施例１と同様の方法で下記の組成物を用いてセルロースアシレートフィルムを作製した。
セルローストリアセテート（酢化度６０．９％）（１００質量部）
酢酸メチル（５２２．０質量部）
アセトン（４８．０質量部）
エタノール（３０．０質量部）
実施例１記載の試料１０２〜１１６で用いた改質剤（１１．７質量部）
この場合も実施例１と同様に、本発明のセルロース体フィルムにおいては良好な結果が得られた。
実施例１と同様の方法で下記の組成物を用いてセルロースアシレートフィルムを作製した。
セルローストリアセテート（酢化度６０．９％）（１００質量部）
酢酸メチル（５２２．０質量部）
アセトン（４８．０質量部）
エタノール（３０．０質量部）
実施例１記載の試料１０２〜１１６で用いた改質剤（１１．７質量部）
この場合も実施例１と同様に、本発明のセルロース体フィルムにおいては良好な結果が得られた。
＜実施例３＞ 偏光板保護膜
実施例１の試料１０２〜１１６、および、実施例２の試料２０２〜２１６を用いて、特開平１１−３１６３７８号公報の実施例１に記載の方法により、楕円偏光板試料３１０２〜３１１６および試料３２０２〜３２１６を作製して評価した。本発明のセルロース体フィルムにより得られた楕円偏光板の光学特性は優れたものであった。また、試料３１０４〜３１１６に関しては、経時での耐久性も比較試料３１０２より得られた保護膜と比較して特に問題なかった。
実施例１の試料１０２〜１１６、および、実施例２の試料２０２〜２１６を用いて、特開平１１−３１６３７８号公報の実施例１に記載の方法により、楕円偏光板試料３１０２〜３１１６および試料３２０２〜３２１６を作製して評価した。本発明のセルロース体フィルムにより得られた楕円偏光板の光学特性は優れたものであった。また、試料３１０４〜３１１６に関しては、経時での耐久性も比較試料３１０２より得られた保護膜と比較して特に問題なかった。
＜実施例４＞ 液晶表示装置
実施例１の試料１０２〜１１６、および、実施例２の試料２０２〜２１６を用いて、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開平９−２６５７２号公報の実施例１に記載のディスコティック液晶分子を含む光学異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載のＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載のＯＣＢ型液晶表示装置を作製し、評価した。本発明のセルロース体フィルムを用いて得られた装置では、いずれの場合においても良好な性能が得られた。
実施例１の試料１０２〜１１６、および、実施例２の試料２０２〜２１６を用いて、特開平１０−４８４２０号公報の実施例１に記載の液晶表示装置、特開平９−２６５７２号公報の実施例１に記載のディスコティック液晶分子を含む光学異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開２０００−１５４２６１号公報の図２〜９に記載のＶＡ型液晶表示装置、特開２０００−１５４２６１号公報の図１０〜１５に記載のＯＣＢ型液晶表示装置を作製し、評価した。本発明のセルロース体フィルムを用いて得られた装置では、いずれの場合においても良好な性能が得られた。
＜実施例５＞ ハロゲン化銀写真感光材料
実施例１の試料１０２〜１１６、および、実施例２の試料２０２〜２１６を用いて、その膜厚を１２０μｍにする以外は実施例１、または実施例３と同様にして、試料５１０２〜５１１６、および、試料５２０２〜５２１６を作製した。得られたフィルムの一方の面に特開平４−７３７３６号公報の実施例１記載の第１層および第２層を付与し、カチオン系ポリマーを導電性層とするバック層を作成した。さらに、得られたバック層を付与したフィルムベースの反対面に、特開平１１−３８５６８号公報の実施例１に記載の試料１０５と同じ組成を有する各層を塗布し、ハロゲン化銀写真感光材料を作製した。本発明のセルロース体フィルムを用いて得られたハロゲン化銀写真感光材料は、いずれも優れた映像が得られかつその取り扱い性においても問題のないものであった。
実施例１の試料１０２〜１１６、および、実施例２の試料２０２〜２１６を用いて、その膜厚を１２０μｍにする以外は実施例１、または実施例３と同様にして、試料５１０２〜５１１６、および、試料５２０２〜５２１６を作製した。得られたフィルムの一方の面に特開平４−７３７３６号公報の実施例１記載の第１層および第２層を付与し、カチオン系ポリマーを導電性層とするバック層を作成した。さらに、得られたバック層を付与したフィルムベースの反対面に、特開平１１−３８５６８号公報の実施例１に記載の試料１０５と同じ組成を有する各層を塗布し、ハロゲン化銀写真感光材料を作製した。本発明のセルロース体フィルムを用いて得られたハロゲン化銀写真感光材料は、いずれも優れた映像が得られかつその取り扱い性においても問題のないものであった。
Claims (11)
- セルロース体と、下記一般式（５）で表される化合物の少なくとも１種を含有するセルロース体組成物。
一般式（５）
- Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43およびＲ44は、それぞれ、炭素数１〜２５の脂肪族基を表す、請求項１に記載のセルロース体組成物。
- Ｒ41、Ｒ42、Ｒ43およびＲ44は、それぞれ、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、シクロプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、シクロヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ビシクロオクチル基、アダマンチル基、ｎ−デシル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、ジデシル基である、請求項１または２に記載のセルロース体組成物。
- Ｌ3はアルキレン基である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のセルロース体組成物。
- 一般式（５）が下記Ｂ−１〜Ｂ−５から選択される、請求項１に記載のセルロース体組成物。
- セルロース体に対して、一般式（５）で表される化合物を１〜３０質量％の割合で含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載のセルロース体組成物。
- セルロース体が、セルロースアシレートである、請求項１〜６のいずれか１項に記載のセルロース体組成物。
- 請求項１〜７のいずれか１項に記載のセルロース体組成物からなるセルロース体フィルム。
- 請求項８に記載のセルロース体フィルムを有する偏光板保護膜。
- 請求項８に記載のセルロース体フィルムを有する液晶表示装置。
- 請求項８に記載のセルロース体フィルムを有するハロゲン化銀写真感光材料。
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