JP2005139263A - セルロース溶液、セルロースフイルム、偏光板および液晶表示装置 - Google Patents

セルロース溶液、セルロースフイルム、偏光板および液晶表示装置 Download PDF

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Hiroyuki Kawanishi
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Abstract

【課題】 レターデーション値が低いセルロースフイルムを製造する。
【解決手段】 β位の炭素原子に二つの芳香族炭化水素基または芳香族複素環基が結合している芳香族置換アクリロニトリルを用い、芳香族置換アクリロニトリルとセルロースとが非塩素系有機溶媒に溶解しているセルロース溶液からフイルムを製造する。
【選択図】 なし

Description

本発明は、セルロース溶液、セルロースフイルム、それを用いた偏光板および液晶表示装置に関する。
セルロースエステルフイルムは、従来から、ハロゲン化銀写真感光材料や液晶表示装置に使用されている。セルロースエステルフイルムは、一般に、ソルベントキャスト法により、セルロースエステル溶液(ドープ)を用いて製造されている。
セルロースエステルフイルムについては、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、光学異方性制御剤、微粒子、剥離剤のような様々な機能を有する添加剤が提案されている(例えば、特許文献1および非特許文献1参照)。
セルロースエステルフイルムを液晶表示装置で位相差フイルムとして使用する場合、フイルムの面内レターデーション値、厚み方向のレターデーション値およびそれらの波長分散特性が重要である。レターデーション値を調節する機能を有する光学的異方性制御剤としては、各種の芳香族化合物が提案されている(例えば、特許文献2、3参照)。これらの芳香族化合物は、いずれもレターデーション上昇剤であって、レターデーション値を上昇させる機能を有している。
また、冷却溶解法により製造したセルロースエステルフイルムは高いレターデーション値を有することが報告されている(例えば、特許文献2参照)。冷却溶解法には、セルロースエステルを非塩素系有機溶媒にも容易に溶解できるとの効果もある。
特開2003−55476号公報 特開2000−111914号公報 特開2001−166144号公報 発明協会公開技法公技番号2001−1745号(第17〜18頁)
セルロースエステルフイルムを、位相差板(光学補償シート)、偏光板や液晶表示装置のような光学的用途に使用する場合、その光学異方性が非常に重要である。セルロースエステルフイルムは一般に、面内方向のレターデーション(Re)の制御が容易であるが、厚み方向のレターデーション(Rth)の制御が難しいとされている。特に厚み方向のレターデーションが低い値となるように、セルロースエステルフイルムを製造することは非常に困難であった。
従来の技術に記載されている光学異方性制御剤は、いずれもレターデーション上昇剤であって、厚み方向のレターデーションを上昇させる機能を有している。
前記特開2000−111914号公報に記載されているように、冷却溶解法により製造したセルロースエステルフイルムは高いレターデーション値を有する。環境問題を配慮して、塩素系有機溶媒に代えて非塩素系有機溶媒を使用すると、セルロースエステルを非塩素系有機溶媒に溶解させるため、冷却溶解法を採用しなければならない場合がある。冷却溶解法を採用する場合、すなわち非塩素系有機溶媒を使用する場合は、レターデーション値を低下させることがさらに難しくなる。
本発明の目的は、レターデーション値が低いセルロースフイルムを製造できるセルロール溶液を提供することである。
また、本発明の目的は、適切なレターデーション値を有するセルロースフイルムを提供することでもある。
さらに、本発明の目的は、レターデーション値が適切に調節された偏光板および液晶表示装置を提供することでもある。
本発明は、下記(1)〜(5)のセルロース溶液、下記(6)、(7)のセルロースフイルム、下記(8)の偏光板および下記(9)の液晶表示装置を提供する。
(1)下記式(I)で表される芳香族置換アクリロニトリルとセルロースとが非塩素系有機溶媒に溶解しているセルロース溶液:
Figure 2005139263
[式中、ArおよびArは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基であり;Rは、水素原子、ハロゲン原子または一価の基である]。
厚み方向のレターデーション値が負の値であることを特徴とするセルロースフイルム。
(2)セルロースが、アシル基への置換度が2.7以上であり、かつ6位のアシル基への置換度が0.9以上であるセルロースアシレートである(1)に記載のセルロース溶液。
(3)芳香族置換アクリロニトリルが、下記式(II)で表される(1)に記載のセルロース溶液:
Figure 2005139263
[式中、R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ヒドロキシル、アミノ、ホルミル、カルボキシル、カルバモイル、スルフィノ、スルホ、スルファモイル、脂肪族基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、−O−R、−NH−R、−N(−R)、−CO−R、−CO−O−R、−CO−NH−R、−CO−N(−R)、−SO−R、−SO−O−R、−SO−NH−Rまたは−SO−N(−R)であって、Rは脂肪族基または芳香族炭化水素基である]。
(4)非塩素系有機溶媒が、炭素原子数が2乃至12のエーテル、炭素原子数が3乃至12のケトンおよび炭素原子数が2乃至12のエステルからなる群より選ばれる少なくとも一種の溶媒を含む(1)に記載のセルロース溶液。
(5)非塩素系有機溶媒が、少なくとも四種の溶媒を含む(4)に記載のセルロース溶液。
(6)上記(1)乃至(5)のいずれか一つに記載のセルロース溶液を用いてソルベントキャスト法により製造したセルロースフイルム。
(7)前記式(I)で表される芳香族置換アクリロニトリルを含み、該芳香族置換アクリロニトリルを除外した以外は同様に作製したセルロースフイルムBとの関係で、下記式(IV)および(V)を満足する厚み方向のレターデーション値を有することを特徴とするセルロースフイルム:
(IV)−70nm≦Rth(a)−Rth(b)<0nm
(V)−10nm≦Rth(A)−Rth(B)<0nm
[式中、Rth(a)は波長632.8nmで測定したセルロースフイルムの厚み方向のレターデーション値であり;Rth(A)は波長700nmで測定したセルロースフイルムの厚み方向のレターデーション値から波長400nmで測定したセルロースフイルムの厚み方向のレターデーション値を引いた値であり;Rth(b)は波長632.8nmで測定したセルロースフイルムBの厚み方向のレターデーション値であり;Rth(B)は波長700nmで測定したセルロースフイルムBの厚み方向のレターデーション値から波長400nmで測定したセルロースフイルムBの厚み方向のレターデーション値を引いた値である]。
(8)偏光膜およびその両側に設けられた二枚の保護フイルムからなる偏光板であって、少なくとも一方の保護フイルムが(6)または(7)に記載のセルロースフイルムであることを特徴とする偏光板。
(9)液晶セルおよび少なくとも一枚の偏光板からなる液晶表示装置であって、偏光板が(8)に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
セルロースエステルフイルムのレターデーション値は、フイルムを25℃、60%RHにて24時間調湿後、エリプソメーター(M−150:日本分光(株)製)を用い、He−Neレーザーを用いて測定した値である。フイルムの幅方向に沿って10点等間隔でサンプリングし、その平均値を求める。厚み方向のレターデーション値(Rth)は、下記式に従って算出する。
Rth={(nx+ny)/2−nz}×d
式中、nxはフイルム面内の遅相軸(x)方向の屈折率であり、nyはフイルム面内の進相軸(y)方向の屈折率であり、nzはフイルムの厚み方向(フイルム面と直交する方向)の屈折率であり、dはフイルムの厚み(nm)である。遅相軸はフイルム面内で屈折率が最大となる方向であり、進相軸はフイルム面内で屈折率が最小となる方向である。
本発明者の研究の結果、前記式(I)で表される芳香族置換アクリロニトリルでは、二つの芳香族環が立体障害を起こし、化合物が等方的に配向しにくい構造になっていることが判明した。このような芳香族化合物には、セルロースフイルムの光学的異方性、特に厚み方向のレターデーション値(Rth)を低下させる作用がある。
セルロースフイルムの厚み方向のレターデーション値を低下させる作用があるレターデーション調整剤が発見されたことにより、セルロースフイルムの光学的異方性を従来よりも任意に調整することが可能になった。本発明に従うと、非塩素系有機溶媒にセルロースが溶解しているセルロース溶液を用いても、厚み方向のレターデーション値が低いセルロースフイルムを製造することができる。そして、本発明に従うと、光学材料に用いるセルロースフイルムの光学異方性を最適な値に調整できる。
本発明では、下記式(I)で表される芳香族置換アクリロニトリルをレターデーション調整剤として用いる。
Figure 2005139263
式(I)において、ArおよびArは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基である。芳香族炭化水素基の方が芳香族複素環基よりも好ましい。
芳香族炭化水素基の例には、フェニル、ペンタレニル、インデニル、ナフチル、アズレニル、ヘプタレニル、ビフェニレニル、インダセニル、アセナフチル、フルオレニル、フェナレニル、フェナントリル、アントリル、フルオランテニル、アセフェナントリル、アセアントリル、トリフェニル、ピレニル、クリセニル、ナフタセニル、プレイアデニル、ピセニル、ペリレニル、ペンタフェニル、ペンタセニル、テトラフェニル、ヘキサフェニル、ヘキサセニル、ルビセニル、コロネニル、トリナフチル、ヘプタフェニル、ヘプタセニル、ピラントレニル、オバニレルが含まれる。
フェニルおよびナフチル(1−ナフチル、2−ナフチル)が好ましく、フェニルが特に好ましい。
芳香族炭化水素環に、芳香族複素環、脂肪族炭化水素環または脂肪族複素環が縮合してもよい。
芳香族複素環基は、ヘテロ原子を含む不飽和環(芳香族複素環)を有する。ヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子であることが好ましい。芳香族複素環基の例には、チエニル、イミダゾリル、ピラゾリル、ピリジル、ピラジニル、ピリダジニル、トリアゾリル、トリアジニル、インドリル、インダゾリル、プリニル、チアゾリニル、チアゾリル、チアジアゾリル、オキサゾリニル、オキサゾリル、オキサジアゾリル、キノリニル、イソキノリニル、フタラジニル、ナフチリジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニル、プテリジニル、アクリジニル、フェナントロリニル、フェナジニル、テトラゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズオキサゾリル、ベンズチアゾリル、ベンゾトリアゾリルが含まれる。
ピリジル、トリアジニル、キノリニルが好ましい。
芳香族複素環に、芳香族炭化水素環、脂肪族炭化水素環または脂肪族複素環が縮合してもよい。
芳香族炭化水素環基および芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ヒドラジノ、ホルミル、カルボキシル、カルバモイル、ヒドロキシカルバモイル(−CO−NH−OH)、ウレイド、スルフィノ、スルホ、スルファモイル、リン酸アミド(−NH−P(=O)(−OH))、シリル(−SiH)、脂肪族基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、脂肪族複素環基、−O−R、−S−R、−NH−R、−N(−R)、−CO−R、−CO−O−R、−O−CO−R、−NH−CO−R、−NH−CO−O−R、−CO−NH−R、−CO−N(−R)、−NH−CO−NH−R、−SO−R、−SO−R、−SO−O−R、−O−SO−R、−NH−SO−R、−SO−NH−R、−SO−N(−R)、−NH−P(=O)(−OH)−O−R、−NH−P(=O)(−O−R)、−SiH−R、−SiH(−R)、−Si(−R)が含まれる。Rは脂肪族基または芳香族炭化水素基である。
芳香族炭化水素環および芳香族複素環の縮合環も置換基を有していてもよい。縮合環を構成する芳香族複素環および芳香族複素環の置換基は、上記と同様である。縮合環を構成する脂肪族炭化水素環および脂肪族複素環の置換基の例は、芳香族炭化水素環および芳香族複素環の置換基の例に加えて、オキソ(=O)、チオ(=S)、イミノ(=NH、=N−R、Rは脂肪族基または芳香族炭化水素基)を含む。
本明細書において、脂肪族基は、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基を意味する。脂肪族基は環状構造(脂肪族炭化水素環)または分岐構造を有していてもよい。脂肪族基の炭素原子数は、1乃至20が好ましく、1乃至12がさらに好ましく、1乃至8が最も好ましい。
脂肪族基(置換アルキル基、置換アルケニル基、置換アルキニル基)の置換基の例には、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)、シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ヒドラジノ、ホルミル、カルボキシル、カルバモイル、ヒドロキシカルバモイル(−CO−NH−OH)、ウレイド、スルフィノ、スルホ、スルファモイル、リン酸アミド(−NH−P(=O)(−OH))、シリル(−SiH)、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、脂肪族複素環基、−O−R、−S−R、−NH−R、−N(−R)、−CO−R、−CO−O−R、−O−CO−R、−NH−CO−R、−NH−CO−O−R、−CO−NH−R、−CO−N(−R)、−NH−CO−NH−R、−SO−R、−SO−R、−SO−O−R、−O−SO−R、−NH−SO−R、−SO−NH−R、−SO−N(−R)、−NH−P(=O)(−OH)−O−R、−NH−P(=O)(−O−R)、−SiH−R、−SiH(−R)、−Si(−R)が含まれる。Rは脂肪族基または芳香族炭化水素基である。
脂肪族基が環状構造(脂肪族炭化水素環)を有する場合、置換基の例は、上記に加えて、オキソ(=O)、チオ(=S)、イミノ(=NH、=N−R、Rは脂肪族基または芳香族炭化水素基)を含む。
本明細書において、芳香族炭化水素基および芳香族複素環基は、前記ArおよびARで定義した芳香族炭化水素基および芳香族複素環基と同様である。
本明細書において、脂肪族複素環基は、ヘテロ原子を含む飽和環(脂肪族複素環)を有する。ヘテロ原子は、窒素原子、酸素原子または硫黄原子であることが好ましい。脂肪族複素環基の例には、モルホリノ(4−モルホリニル)、(2−または3−)モルホリニル、ピペリジノ(1−ピペリジル)、(2−、3−または4−)ピペリジルが含まれる。脂肪族複素環基は、置換基を有していてもよい。脂肪族複素環基の置換基の例は、前述した芳香族炭化水素環基および芳香族複素環基の置換基の例に加えて、オキソ(=O)、チオ(=S)、イミノ(=NH、=N−R、Rは脂肪族基または芳香族炭化水素基)を含む。
式(I)において、Rは、水素原子、ハロゲン原子(F、Cl、Br、I)または一価の基である。
一価の基の例には、シアノ、ニトロ、ヒドロキシル、メルカプト、アミノ、ヒドラジノ、ホルミル、カルボキシル、カルバモイル、ヒドロキシカルバモイル(−CO−NH−OH)、ウレイド、スルフィノ、スルホ、スルファモイル、リン酸アミド(−NH−P(=O)(−OH))、シリル(−SiH)、脂肪族基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、脂肪族複素環基、−O−R、−S−R、−NH−R、−N(−R)、−CO−R、−CO−O−R、−O−CO−R、−NH−CO−R、−NH−CO−O−R、−CO−NH−R、−CO−N(−R)、−NH−CO−NH−R、−SO−R、−SO−R、−SO−O−R、−O−SO−R、−NH−SO−R、−SO−NH−R、−SO−N(−R)、−NH−P(=O)(−OH)−O−R、−NH−P(=O)(−O−R)、−SiH−R、−SiH(−R)、−Si(−R)が含まれる。Rは脂肪族基または芳香族炭化水素基である。脂肪族基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、脂肪族複素環基の定義および例は、前述した通りである。
は、水素原子、シアノ、ニトロ、脂肪族基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、−CO−R、−CO−O−R、−CO−NH−R、−CO−N(−R)、−SO−R、−SO−O−R、−SO−NH−R、−SO−N(−R)が好ましい。
芳香族置換アクリロニトリルは、下記式(II)で表されることが好ましい。
Figure 2005139263
式(II)において、R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ヒドロキシル、アミノ、ホルミル、カルボキシル、カルバモイル、スルフィノ、スルホ、スルファモイル、脂肪族基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、−O−R、−NH−R、−N(−R)、−CO−R、−CO−O−R、−CO−NH−R、−CO−N(−R)、−SO−R、−SO−O−R、−SO−NH−Rまたは−SO−N(−R)である。Rは脂肪族基または芳香族炭化水素基である。
芳香族置換アクリロニトリルは、下記式(III)で表されることがさらに好ましい。
Figure 2005139263
式(III)において、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ヒドロキシル、アミノ、ホルミル、カルボキシル、カルバモイル、スルフィノ、スルホ、スルファモイル、脂肪族基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、−O−R、−NH−R、−N(−R)、−CO−R、−CO−O−R、−CO−NH−R、−CO−N(−R)、−SO−R、−SO−O−R、−SO−NH−Rまたは−SO−N(−R)である。Rは脂肪族基または芳香族炭化水素基である。
式(III)において、nは1乃至20の整数である。なお、−C2n−1は、分岐を有していてもよい鎖状アルキル基(例、n−オクチル、1,1−ジメチルヘプチル、2−エチルヘキシル、n−デシル、2−ドデシル)を意味する。
およびRがいずれも水素原子の場合、nは、2乃至12の整数であることが好ましく、4乃至12の整数であることがさらに好ましく、6乃至12であることが最も好ましい。
およびRの一方が、水素原子以外の基である場合、nは、化合物全体の分子量が300以上となる範囲内で1乃至20の整数であることが好ましい。
以下に、式(I)で表される芳香族置換アクリロニトリルの例を示す。
Figure 2005139263
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Figure 2005139263
Figure 2005139263
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Figure 2005139263
Figure 2005139263
Figure 2005139263
Figure 2005139263
Figure 2005139263
式(I)で表される芳香族置換アクリロニトリルは、各種文献(例えば、Journal of American Chemical Society 63巻、3452頁(1941))を参照して合成できる。
式(I)で表される芳香族置換アクリロニトリルを、二種類以上併用してもよい。式(I)で表される芳香族置換アクリロニトリルの使用量は、セルロースに対して、0.001乃至20質量%が好ましく、0.001乃至5質量%がより好ましく、0.01乃至5質量%がさらに好ましく、0.1乃至5質量%がさらにまた好ましく、0.5乃至3質量%が最も好ましい。
本発明のセルロースフイルムとは、セルロース化合物、およびセルロースを原料として生物的あるいは化学的に官能基を導入して得られるセルロース骨格を有する化合物を含むフイルムである。そのなかでもセルロースエステルフイルムが好ましく、セルロースアシレートフイルムがより好ましい。
セルロースエステルは、セルロースと酸とのエステルである。エステルを構成する酸は、有機酸が好ましく、カルボン酸がより好ましく、炭素原子数が2乃至22の脂肪酸がさらに好ましく、炭素原子数が2乃至4の低級脂肪酸がさらにまた好ましく、酢酸が最も好ましい。
セルロースアシレートは、セルロースとカルボン酸とのエステルである。セルロースアシレートは、セルロースを構成するグルコース単位の2位、3位および6位に存在するヒドロキシル基の水素原子の全部または一部が、アシル基で置換されている。アシル基の例には、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、イソブタノイル、t−ブタノイル、ヘプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルが含まれる。アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、t−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルが好ましく、アセチル、プロピオニル、ブタノイルがさらに好ましく、アセチルが最も好ましい。
セルロースエステルが、セルロースと複数の酸とのエステルであってもよい。セルロースアシレートは、複数のアシル基で置換されていてもよい。
セルロースエステルの置換度は、2.87以上であることが好ましく、2.87乃至2.96であることがより好ましく、2.88乃至2.95がさらに好ましく、2.90乃至2.95が最も好ましい。
セルロースエステルの合成方法について、基本的な原理は、右田伸彦他、木材化学180〜190頁(共立出版、1968年)に記載されている。セルロースアシレートの代表的な合成方法は、カルボン酸無水物−酢酸−硫酸触媒による液相酢化法である。具体的には、綿花リンタや木材パルプ等のセルロース原料を適当量の酢酸で前処理した後、予め冷却したカルボン酸化混液に投入してエステル化し、完全セルロースアシレート(2位、3位および6位のアシル置換度の合計が、ほぼ3.00)を合成する。上記カルボン酸化混液は、一般に溶媒としての酢酸、エステル化剤としての無水カルボン酸および触媒としての硫酸を含む。無水カルボン酸は、これと反応するセルロースおよび系内に存在する水分の合計よりも、化学量論的に過剰量で使用することが普通である。
アシル化反応終了後に、系内に残存している過剰無水カルボン酸の加水分解およびエステル化触媒を一部中和するために、中和剤(例えば、カルシウム、マグネシウム、鉄、アルミニウムまたは亜鉛の炭酸塩、酢酸塩または酸化物)の水溶液を添加する。次に、得られた完全セルロースアシレートを少量の酢化反応触媒(一般には、残存する硫酸)の存在下で、50〜90℃に保つことによりケン化熟成し、所望のアシル置換度および重合度を有するセルロースアシレートまで変化させる。所望のセルロースアシレートが得られた時点で、系内に残存している触媒を前記のような中和剤を用いて完全に中和するか、あるいは中和することなく水または希硫酸中にセルロースアシレート溶液を投入(あるいは、セルロースアシレート溶液中に、水または希硫酸を投入)してセルロースアシレートを分離し、洗浄および安定化処理によりセルロースアシレートを得る。
セルロースエステルの重合度は、粘度平均重合度で200乃至700が好ましく、250乃至550がより好ましく、250乃至400がさらに好ましく、250乃至350が最も好ましい。粘度平均重合度は、宇田らの極限粘度法(宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第18巻第1号、105〜120頁、1962年)に従い測定できる。粘度平均重合度の測定方法については、特開平9−95538号公報にも記載がある。
低分子成分が少ないセルロースエステルは、平均分子量(重合度)が高いが、粘度は通常のセルロースエステルよりも低い値になる。低分子成分の少ないセルロースエステルは、通常の方法で合成したセルロースエステルから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースエステルを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。また、低分子成分の少ないセルロースエステルを合成することもできる。低分子成分の少ないセルロースエステルを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース100質量に対して0.5乃至25質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量分布の点でも好ましい(分子量分布の均一な)セルロースエステルを合成することができる。
セルロースエステルの原料綿や合成方法については、公開技報2001−1745号(2001年3月15日発行、発明協会)7〜12頁にも記載がある。
セルロースエステルフイルムは、フイルムを構成するポリマー成分が実質的にセルロースエステルからなることが好ましい。『実質的に』とは、ポリマー成分の55質量%以上(好ましくは70質量%以上、より好ましくは80質量%以上、さらに好ましくは90質量%以上)を意味する。セルロースエステルフイルムに、二種類以上のセルロースエステルを併用してもよい。
セルロースエステルフイルムは、セルロースエステル溶液を用いるソルベントキャスト法により製造することが好ましい。
セルロースエステル溶液の原料としては、セルロースエステル粒子を使用することが好ましい。使用する粒子の90質量%以上は、0.5乃至5mmの粒子径を有することが好ましい。また、使用する粒子の50質量%以上が1乃至4mmの粒子径を有することが好ましい。セルロースエステル粒子は、なるべく球形に近い形状を有することが好ましい。
セルロースエステル溶液の調製に使用するセルロースエステルは、含水率が2質量%以下であることが好ましく、1質量%以下であることがさらに好ましく、0.7質量%以下であることが最も好ましい。セルロースエステルは一般に、2.5〜5質量%の含水率を有している。従って、セルロースエステルを乾燥してから使用することが好ましい。
セルロースエステル溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤(例えば、可塑剤、改質剤、紫外線防止剤、光学異方性コントロール剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤)を加えることができる。可塑剤については、特開2001−151901号公報に記載がある。赤外吸収剤については、特開平2001−194522号公報に記載がある。添加剤を添加する時期は、添加剤の種類に応じて決定する。
セルロースエステルフイルムが多層構造を有する場合、各層における添加剤の種類や量が異なってもよい(例えば、特開平2001−151902号公報記載)。
セルロースエステルフイルムの添加剤については、公開技報2001−1745号(2001年3月15日発行、発明協会)16頁〜22頁にも記載がある。
セルロースエステル溶液の溶媒は、有機溶媒が好ましく、非塩素系有機溶媒がさらに好ましい。
非塩素系有機溶媒は、エステル、ケトン、エーテル、アルコールおよび炭化水素を含む。有機溶媒の炭素原子数は、1乃至12であることが好ましい。エステル、ケトン、エーテル、アルコールおよび炭化水素は、分岐構造あるいは環状構造を有していてもよい。エステル、ケトン、エーテルおよびアルコールの官能基(すなわち、−O−、−CO−、−COO−、−OH)のいずれか二つ以上有する化合物も溶媒として用いることができる。エステル、ケトン、エーテルおよびアルコールの炭化水素部分における水素原子は、ハロゲン原子(特に、フッ素原子)で置換されていてもよい。
炭素原子数が2〜12のエステルの例は、メチルホルメート、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテート、ペンチルアセテートを含む。
炭素原子数が3〜12のケトンの例は、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノンを含む。
炭素原子数が2〜12のエーテルの例は、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトールを含む。
炭素原子数が1〜12のアルコールの例は、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、t−ブタノール、1−ペンタノール、2−メチル−2−ブタノール、シクロヘキサノール、2−フルオロエタノール、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,3,3−テトラフルオロ−1−プロパノールを含む。
二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例は、2−エトキシエチルアセテート、2−メトキシエタノール、2−ブトキシエタノール、メチルアセトアセテートを含む。
炭素原子数が6〜12の炭化水素の例は、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンを含む。
特に好ましい有機溶媒は、メチルホルメート、エチルホルメート、メチルアセテート、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、シクロヘキサノール、メチルアセトアセテート、ヘキサン、シクロヘキサンである。
非塩素系有機溶媒を複数併用することもできる。
特に好ましい混合溶媒は、互いに異なる3種類以上の混合溶媒であって、第1の溶媒はエステル(例、メチルアセテート、エチルアセテート、メチルホルメート、エチルホルメート)、アセトン、エーテル(例、ジオキソラン、ジオキサン)から選ばれ、第2の溶媒は炭素原子数が4〜7のケトン(アセト酢酸のエステルを含む)から選ばれ、第3の溶媒は炭素原子数が1〜10のアルコールまたは炭化水素から選ばれる。さらに第4の溶媒を用いてもよい。第4の溶媒も炭素原子数が1〜10のアルコールまたは炭化水素から選ばれる。第3および第4の溶媒は、炭素原子数1〜8のアルコールであることが好ましい。第1の溶媒が、2種以上の溶媒の混合液である場合は、第2の溶媒がなくてもよい。第1の溶媒は、メチルアセテート、アセトン、メチルホルメート、エチルホルメートから選ばれることが好ましい。第2の溶媒は、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアセトアセテートから選ばれることが好ましい。
第3および第4の溶媒であるアルコールの例は、前述したアルコールと同様である。
第3および第4の溶媒である炭化水素は、環状構造または分岐構造を有していてもよい。炭化水素は、芳香族炭化水素と脂肪族炭化水素とを含む。脂肪族炭化水素は、不飽和であってもよい。炭化水素の例には、シクロヘキサン、ヘキサン、ベンゼン、トルエンおよびキシレンが含まれる。第3および第4の溶媒は、それぞれメタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサン、ヘキサンから選ばれることが好ましく、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノールから選ばれることがさらに好ましい。
4種類の混合溶媒は、第1の溶媒が20〜95質量%、第2の溶媒が2〜60質量%、第3および第4の溶媒の和が2〜30質量%の比率で含まれることが好ましい。第1の溶媒が30〜90質量%であり、第2の溶媒が3〜50質量%、第3および第4の溶媒であるアルコールの和が3〜25質量%含まれることがさらに好ましい。第1の溶媒が30〜90質量%、第2の溶媒が3〜30質量%、第3および第4の溶媒であるアルコールの和が3〜15質量%含まれることが最も好ましい。なお、第1の溶媒が混合液で第2の溶媒を用いない場合は、第1の溶媒が20〜90質量%、第3および第4の溶媒の和が5〜30質量%の比率で含まれることが好ましい。混合液からなる第1の溶媒が30〜86質量%であり、第3および第4の溶媒の和が7〜25質量%含まれることがさらに好ましい。
非塩素系有機溶媒は、発明協会公開技報(公技番号2001−1745、2001年3月15日発行、発明協会)の12頁〜16頁に記載がある。
非塩素系有機溶媒の組合せの例を以下に挙げる。比率の数値は、質量部である。
(1)メチルアセテート/アセトン/メタノール/エタノール/ブタノール=75/10/5/5/5
(2)メチルアセテート/アセトン/メタノール/エタノール/プロパノール=75/10/5/5/5
(3)メチルアセテート/アセトン/メタノール/ブタノール/シクロヘキサン=75/10/5/5/5
(4)メチルアセテート/メチルエチルケトン/メタノール/ブタノール=80/10/5/5
(5)メチルアセテート/アセトン/メチルエチルケトン/エタノール/イソプロパノール=75/10/10/5/7
(6)メチルアセテート/シクロペンタノン/メタノール/イソプロパノール=80/10/5/8
(7)メチルアセテート/アセトン/ブタノール=85/5/5
(8)メチルアセテート/シクロペンタノン/アセトン/メタノール/ブタノール=60/15/15/5/6
(9)メチルアセテート/シクロヘキサノン/メタノール/ヘキサン=70/20/5/5
(10)メチルアセテート/メチルエチルケトン/アセトン/メタノール/エタノール=50/20/20/5/5
(11)メチルアセテート/1,3−ジオキソラン/メタノール/エタノール=70/20/5/5
(12)メチルアセテート/ジオキサン/アセトン/メタノール/エタノール=60/20/10/5/5
(13)メチルアセテート/アセトン/シクロペンタノン/エタノール/イソブタノール/シクロヘキサン=65/10/10/5/5/5
(14)メチルホルメート/メチルエチルケトン/アセトン/メタノール/エタノール=50/20/20/5/5
(15)メチルホルメート/アセトン/エチルアセテート/エタノール/ブタノール/ヘキサン=65/10/10/5/5/5
(16)アセトン/メチルアセトアセテート/メタノール/エタノール=65/20/10/5
(17)アセトン/シクロペンタノン/エタノール/ブタノール=65/20/10/5
(18)アセトン/1,3ジオキソラン/エタノール/ブタノール=65/20/10/5
(19)1,3−ジオキソラン/シクロヘキサノン/メチルエチルケトン/メタノール/ブタノール=55/20/10/5/5/5
混合溶媒を用いる場合、一部の溶媒を後から添加(追加添加)することができる。
例えば、メチルアセテート/アセトン/エタノール/ブタノール(=81/8/7/4)の混合溶媒でセルロースエステル溶液を調製し、濾過および濃縮後に2質量部のブタノールを追加添加することができる。
また、メチルアセテート/アセトン/エタノール/ブタノール(=84/10/4/2)の混合溶媒でセルロースエステル溶液を調製し、濾過および濃縮後に4質量部のブタノールを追加添加することもできる。
さらに、メチルアセテート/アセトン/エタノール(=84/10/6)の混合溶媒でセルロースエステル溶液を調製し、濾過および濃縮後に5質量部のブタノールを追加添加してもよい。
調製するセルロースエステル溶液の濃度は、10乃至30質量%が好ましく、13乃至27質量%がさらに好ましく、15乃至25質量%が最も好ましい。
セルロースエステルを溶媒に溶解する段階で所定の濃度になるように調整できる。また予め低濃度(例えば9乃至14質量%)の溶液を調製後に、濃縮してもよい。さらに、予め高濃度の溶液を調製後に、希釈してもよい。添加剤を添加することで、セルロースエステルの濃度を低下させることもできる。
セルロースエステル溶液(ドープ)の調製は、冷却溶解法、高温溶解法またはこれらの組み合わせで実施することが好ましい。セルロースエステル溶液の調製方法については、特開昭58−127737号、同61−106628号、特開平2−276830号、同4−259511号、同5−163301号、同9−95544号、同10−45950号、同10−95854号、同11−71463号、同11−302388号、同11−322946号、同11−322947号、同11−323017号、特開2000−53784号、同2000−273184、同2000−273239号の各公報に記載がある。
セルロースエステル溶液の調製方法については、公開技報2001−1745号(2001年3月15日発行、発明協会)25頁にも記載がある。
なお、高温溶解法における加熱温度が使用する有機溶媒の沸点以上である場合は、加圧しながら加熱する。
セルロースエステルと溶媒との混合物を冷却する工程について、その冷却温度は特に限定されないが、−100℃乃至−10℃が好ましく、−100℃乃至−30℃がさらに好ましく、−100℃乃至−50℃が特に好ましい。
セルロースエステル溶液は、40℃での粘度が1乃至400Pa・sであることが好ましく、10乃至200Pa・sであることがさらに好ましい。
セルロースエステル溶液は、15℃での動的貯蔵弾性率が100Pa以上であることが好ましく、500乃至100万Paであることがさらに好ましい。また、低温での動的貯蔵弾性率は、大きいほど好ましい。例えば、ドープを流延する支持体の温度が−5℃の場合、−5℃での動的貯蔵弾性率が1万乃至100万Paであることが好ましい。支持体の温度が−50℃の場合、−50℃での動的貯蔵弾性率が1万乃至500万Paであることが好ましい。
粘度および動的貯蔵弾性率は、試料溶液1mLを直径 4cm/2°の容器(Steel Cone、TA Instruments社製)に入れ、レオメーター(CLS500、TA Instruments社製)を用いて測定する。測定条件は、装置(Oscillation Step/Temperature Ramp)を用い、40℃〜−10℃の範囲を2℃/分で可変して測定した。これにより、40℃の静的非ニュートン粘度(n*(Pa・s))および−5℃の貯蔵弾性率(G’(Pa))を求める。なお、試料溶液を予め測定開始温度にて液温一定となるまで保温した後に、測定を開始する。
セルロースエステルフイルムは、従来の溶液流延製膜方法に従い、従来の溶液流延製膜装置を用いて製造できる。溶解機(釜)で調製されたドープ(セルロースエステル溶液)は、貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープは、ドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金(スリット)からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延し、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜(ウェブとも呼ぶ)を金属支持体から剥離する。
得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。
ハロゲン化銀写真感光材料の支持体や画像表示装置の機能性保護膜として用いるセルロースエステルフイルムには、一般に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層や保護層が設けられる。各層を設けるため、溶液流延製膜において、溶液流延製膜装置に加えて、塗布装置を用いる場合が多い。溶液流延製膜の各製造工程(流延(共流延を含む)、乾燥、剥離、延伸)と使用する金属支持体については、公開技報2001−1745号(2001年3月15日発行、発明協会)25頁〜30頁に記載がある。
溶液の流延における空間温度は、−50℃乃至50℃が好ましく、−30℃乃至40℃がさらに好ましく、−20℃乃至30℃が最も好ましい。低い空間温度で流延されたセルロースエステル溶液は、支持体上で瞬時に冷却され、ゲル強度が向上する。これにより、有機溶媒が多く残存するフイルムが得られる。従って、セルロースエステルから有機溶媒を蒸発させることなく、支持体からフイルムを短時間で剥ぎ取ることができる。空間を冷却する気体は、通常の空気、窒素、アルゴンあるいはヘリウムを用いることができる。相対湿度は、0乃至70%が好ましく、0乃至50%がさらに好ましい。
セルロースエステル溶液を流延する支持体(流延部)の温度は、−50℃乃至130℃が好ましく、−30℃乃至25℃がさらに好ましく、−20℃乃至15℃が最も好ましい。流延部を冷却するために、流延部に冷却した気体を導入できる。冷却装置を流延部に配置して空間を冷却してもよい。冷却においては、流延部に水が付着しないように注意することが重要である。気体で冷却する場合は、気体を乾燥しておくことが望ましい。
セルロースエステル溶液は、各種の液体または固体の添加剤を含むことができる。添加剤の例には、可塑剤(好ましい添加量はセルロースエステルに対して0.1乃至20質量%、以下同様)、改質剤(0.1乃至20質量%)、紫外線吸収剤(0.001乃至5質量%)、平均粒径が5乃至3000nmである微粒子粉体(0.001乃至5質量%)、フッ素系界面活性剤(0.001乃至2質量%)、剥離剤(0.0001乃至2質量%)、劣化防止剤(0.0001乃至2質量%)、光学異方性制御剤(0.1乃至15質量%)、赤外線吸収剤(0.1乃至5質量%)が含まれる。
流延工程では、2以上のセルロースエステル溶液を同時または逐次共流延してもよい。
2以上のセルロースエステル溶液は、組成が全く同一であってもよい。組成が異なる場合、溶媒または添加剤の種類を溶液毎に変更できる。2以上の溶液は、濃度が異なっていてもよい。2以上の溶液は、セルロースエステルの会合体分子量が異なっていてもよい。2以上の溶液は、温度が異なっていてもよい。2以上の溶液または形成される層は、塗布量、粘度、乾燥後の膜厚、構成成分の分布、物性あるいは物性の分布が異なっていてもよい。セルロースエステルフイルムの物性(ヘイズ、透過率、分光特性、Reレターデーション、Rthレターデーション、分子配向軸、軸ズレ、引裂強度、耐折強度、引張強度、巻き内外Rth差、キシミ、動摩擦、アルカリ加水分解、カール値、含水率、残留溶剤量、熱収縮率、高湿寸度評価、透湿度、ベースの平面性、寸法安定性、熱収縮開始温度、弾性率、輝点異物、インピーダンス、面状、イエローインデックス、透明度、Tg、結晶化熱)については、公開技報2001−1745号(2001年3月15日発行、発明協会)6頁〜7頁および同2001−1745号(2001年3月15日発行、発明協会)11頁に記載がある。
セルロースエステルフイルムに表面処理を行うことができる。表面処理は、一般に、セルロースエステルフイルムと各機能層(例えば、下塗層およびバック層)との接着を改善するために実施する。表面処理には、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、ケン化処理(酸ケン化処理、アルカリケン化処理)が含まれる。グロー放電処理およびアルカリケン化処理が好ましい。
グロー放電処理は、10−3〜20Torrの低圧ガス下で実施する低温プラズマ処理を含む。また、大気圧下でのプラズマ処理も、好ましいグロー放電処理である。プラズマ励起性気体としては、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、フロン(例、テトラフルオロメタン)およびそれらの混合物が用いられる。大気圧でのプラズマ処理は、好ましくは10乃至1000Kev、さらに好ましくは30乃至500Kevで実施する。照射エネルギーは、20乃至500Kgyが好ましく、20乃至300Kgyがさらに好ましい。グロー放電処理については、公開技報2001−1745号(2001年3月15日発行、発明協会)30頁〜32頁に記載がある。
アルカリケン化処理は、フイルムにケン化液を塗布するか、あるいはフイルムをケン化液に浸漬することにより実施する。
塗布方法は、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法またはE型塗布法を採用できる。塗布液の溶媒は、フイルムに対する濡れ性が良く、フイルム表面に凹凸を形成させずに面状を良好なまま保つことが望ましい。具体的には、溶媒は、アルコールが好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、水(好ましくは、界面活性剤の水溶液)を溶媒として使用することもできる。アルカリは、アルカリ金属の水酸化物が好ましく、KOHおよびNaOHがさらに好ましい。ケン化塗布液のpHは、10以上が好ましく、12以上がさらに好ましい。アルカリケン化時の反応条件は、室温で1秒以上5分以下が好ましく、5秒以上5分以下がさらに好ましく、20秒以上3分以下が最も好ましい。アルカリケン化反応後、ケン化液塗布面を水洗するか、あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。
フイルムと機能層との接着を改善するため、表面処理に加えて、あるいは表面処理に代えて、下塗層(接着層)を設けることができる。下塗層については、公開技報2001−1745号(2001年3月15日発行、発明協会)32頁に記載がある。
セルロースエステルフイルムに設ける機能性層については、公開技報2001−1745号(2001年3月15日発行、発明協会)32頁〜45頁に記載がある。
セルロースエステルフイルムの厚み方向のレターデーション値は50乃至300nmである。厚み方向のレターデーション値は、用途に応じて、やや高い値(50〜180nm)にする場合と、非常に高い値(180〜300nm)にする場合とがある。
厚み方向のレターデーション値が高い値であるセルロースエステルフイルム、あるいはそれを複数枚積層した位相差板、もしくは、それと厚み方向のレターデーション値が負の値であるセルロースエステルフイルムとを積層した位相差板は、光学補償シート(その支持体を含む)または偏光板保護フイルムとして用いることができる。
上記セルロースエステルフイルムおよび位相差板は、そのまま光学補償シートとして用いることができる。また、上記セルロースエステルフイルムおよび位相差板を支持体とし、その上に光学異方性層(例えば、液晶性分子から形成される層)を設け、光学補償シートを製造することもできる。
偏光板は、偏光膜とその両面を保護する二枚の偏光板保護フイルムからなる。セルロースエステルフイルムまたは位相差板は、少なくとも一方の偏光板保護フイルムとして用いることができる。
偏光板保護フイルムとして用いる場合、セルロースエステルフイルムはアルカリケン化処理しておくことが望ましい。ポリビニルアルコールフイルムを沃素溶液中に浸漬して延伸した偏光膜を用いる場合、接着剤を用いて偏光膜の両面にセルロースエステルフイルムのアルカリケン化処理面を貼り合わせることができる。接着剤としては、ポリビニルアルコールまたはポリビニルアセタール(例、ポリビニルブチラール)の水溶液や、ビニル系ポリマー(例、ポリブチルアクリレート)のラテックスを用いることができる。特に好ましい接着剤は、完全ケン化ポリビニルアルコールの水溶液である。
アルカリケン化処理以外の表面処理(特開平6−94915号、同6−118232号の各公報に記載)を実施してもよい。
偏光板の製造後、使用前は、偏光板の一方の面に外部保護フイルム、反対面にセパレートフイルムが貼り合わされている。外部保護フイルムおよびセパレートフイルムは、偏光板の出荷や製品検査において偏光板を保護する目的で用いられる。外部保護フイルムは、偏光板を液晶セルへ貼合する面の反対面側に用いられる。セパレートフイルムは、偏光板を液晶セルへ貼合するための接着層をカバーする目的で用いられる。一般に液晶表示装置は、二枚の偏光板の間に液晶セルが設けられ、一般に液晶セルは、二枚の基板の間に液晶注入される。従って、通常の液晶表示装置では、四枚の偏光板保護フイルムを有する。本発明に従うセルロースエステルフイルムは、四枚の偏光板保護フイルムのいずれに用いても良い。ただし、液晶表示装置における偏光子と液晶層との間に配置されるプラスチックフイルムとして、特に有利に用いることができる。
本発明に従うセルロースエステルフイルム、およびそれを用いた位相差板、光学補償シートおよび偏光板は、様々な表示モードの液晶表示装置に用いることができる。表示モードには、TN(Twisted Nematic)、IPS(In-Plane Switching)、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)、AFLC(Anti-ferroelectric Liquid Crystal)、OCB(Optically Compensatory Bend)、STN(Supper Twisted Nematic)、VA(Vertically Aligned)およびHAN(Hybrid Aligned Nematic)、ASM(Axially Symmetric Aligned Microcell)が含まれる。液晶表示装置は、透過型、反射型および半透過型のいずれでもよい。
TN型反射型液晶表示装置については、特開平10−123478号、特許第3022477号の各公報、国際公開第98/48320号パンフレットに記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、国際公開第00−65384号パンフレットに記載がある。ASMモードの液晶セルは、セルの厚さが位置調整可能な樹脂スペーサーにより維持されているとの特徴があり、他の性質は、TNモードの液晶セルと同様である。ASMモードの液晶セルとASM型液晶表示装置については、クメ(Kume)他の論文(Kume et al., SID 98 Digest 1089 (1998))に記載がある。
セルロースエステルフイルムの用途については、公開技報2001−1745号(2001年3月15日発行、発明協会)45頁〜59頁に記載がある。
[実施例1]
(セルロースエステル溶液の調製)
攪拌羽根を有し外周を冷却水が循環する400リットルのステンレス製溶解タンクに、メチルアセテート476.3質量部、アセトン47.0質量部、エタノール41.2質量部、ブタノール23.5質量部、トリフェニルホスフェート(可塑剤)8.0質量部、ビフェニルジフェニルホスフェート(可塑剤)4.0質量部、クエン酸エチルエステル(モノエステルとジエステルの混合比=1:1)0.04質量部、粒径20nmの二酸化ケイ素微粒子0.05質量部、芳香族置換アクリロニトリル(9)1質量部を投入した。なお、各溶媒(メチルアセテート、アセトン、エタノール、ブタノール)の含水率は、いずれも0.2質量%以下であった。混合溶媒をよく攪拌しながら、酢化度が60.9%、アルル基への置換度が2.80、6位のアシル基への置換度が0.93のセルロースアセテートフレーク100質量部を徐々に添加し、全体が200kgになるように仕込んだ。
セルロースアセテートフレークを分散タンクに投入後、タンク内を1300Paに減圧した。攪拌は、15m/sec(剪断応力5×104kgf/m/sec)の周速で攪拌するディゾルバータイプの偏芯攪拌軸および中心軸にアンカー翼を有して周速1m/sec(剪断応力1×104kgf/m/sec)で攪拌する攪拌軸を用いて、30分間実施した。攪拌の開始温度は25℃であり、冷却水を流しながら攪拌し、最終到達温度を35℃とした。その後、高速攪拌軸を停止し、アンカー翼を有する攪拌軸の周速を0.5m/secとして、さらに100分間攪拌し、セルロースアセテートフレークを膨潤させた。膨潤終了までは窒素ガスでタンク内を0.12MPaになるように加圧した。防爆のため、タンク内の酸素濃度は2vol%未満とした。ドープ中の水分量は、0.2質量%以下であることを確認した。
得られた不均一なゲル状物質を、軸中心部を30℃に加温したスクリューポンプで送液して、そのスクリュー外周部から冷却して−75℃で3分間となるように冷却部分を通過させた。冷却は冷凍機で冷却した−80℃の冷媒を用いて実施した。冷却により得られた溶液は、スクリューポンプで送液中に35℃に加温し、ステンレス製の容器に移送した。50℃で2時間攪拌し均一溶液とした後、絶対濾過精度0.01mmの濾紙(#63、東洋濾紙(株)製)で濾過し、さらに絶対濾過精度2.5μmの濾紙(FH025、ポール社製)にて濾過した。得られたセルロースエステル溶液は、送液パイプの加温加圧部で110℃、1MPaに加温加圧し、常圧(約0.1Mpa)に放出することで有機溶媒を揮発させると共に冷却して、温度40℃、セルロースアセテート濃度22.1質量%の溶液を得た。溶液を攪拌しつつ、セルロースアセテート個帰依分に対してブタノール2質量%を徐々に添加して均一溶液を得た。溶液の粘度(35℃)は103Pa・s、動的貯蔵弾性率(15℃)は850Paであった。
(セルロースエステルフイルムの作製)
濾過した50℃のセルロースエステル溶液を、流延ギーサー(特開平11−314233号公報に記載)を通して直径3mのドラムである鏡面ステンレス支持体上に流延した。支持体の温度は、−5℃に設定した。流延スピードは75m/分、塗布幅は200cmとした。流延部全体の空間温度は、15℃に設定した。そして、流延部から50cm手前で流延して回転してきたセルロースエステルフイルムをドラムから剥ぎ取り、両端をピンテンターでクリップした。ピンテンターで保持されたセルロースエステルフイルムは、乾燥ゾーンに搬送した。初めの乾燥では45℃の乾燥風を送風した。次に110℃で5分、さらに145℃(フイルム温度は約140℃)で10分乾燥して、膜厚60μmのセルロースアセテートフイルムを得た。
得られた試料は両端を3cm裁断し、さらに端から2〜10mmの部分に高さ100μmのナーリングを実施し、ロール状に巻き取った。
前述した方法でセルロースエステルフイルムの厚み方向のレターデーション(Rth)値を測定した。
また、フイルムについて、下記(1)〜(4)の項目を評価した。さらにフイルムのヘイズを、ヘイズ計(1001DP型、日本電色工業(株)製)を用いて測定した。
結果は、第1表に示す。
(1)強制条件下でのUV吸収特性変化
得られたフイルムを単体で60℃90%RHの恒温恒湿庫に静置し、500時間経過させたのちに、分光光度計(UV−3150)を用いて波長190nm〜780nmの吸収スペクトルを測定し、サーモ経時前の試料の吸収スペクトルとの差を求め、Δ透過率(サーモ前後)とした。評価基準は以下の通り。
A:透過率の変化が0.2%未満
B:Δ透過率が0.2%以上0.4%未満
C:Δ透過率が0.4%以上0.6%未満
D:Δ透過率が0.6%以上
(2)フイルムの剥げ残り
得られたフイルムを支持体から剥ぎ取る際の支持体表面を目視で観察し、セルロースアシレートフイルムの剥げ残りを以下の如く評価した。
A:支持体に剥げ残りは認められない。
B:支持体に剥げ残りがわずかに認められた。
C:支持体に剥げ残りがかなり認められた。
D:支持体に剥げ残りが多量認められた。
(3)フイルムの横段ムラ
得られたフイルムを目視で観察し、その横段状ムラの欠陥を以下の如く評価した。
A:フイルムに横段ムラは認められない。
B:フイルムに横段ムラがわずかに認められた。
C:フイルムに横段ムラがかなり認められた。
D:フイルムに横段ムラが多量認められた。
(4)フイルムのブツ
得られたフイルムを目視で観察し、その表面上のブツを以下の如く評価した。
A:フイルム表面にブツは認められなかった。
B:フイルム表面にブツがわずかに認められた。
C:フイルム表面にかなりのブツが認められた。
D:フイルム表面に凹凸が見られ、ブツが多数認められた。
[実施例2]
芳香族置換アクリロニトリル(9)の添加量を2質量部に変更した以外は、実施例1と同様にフイルムを作製して評価した。
結果は、第1表に示す。
[実施例3]
芳香族置換アクリロニトリル(9)の添加量を3質量部に変更した以外は、実施例1と同様にフイルムを作製して評価した。
結果は、第1表に示す。
[実施例4]
芳香族置換アクリロニトリル(9)に代えて、芳香族置換アクリロニトリル(2)4質量部を用いた以外は、実施例1と同様にフイルムを作製して評価した。
結果は、第1表に示す。
[実施例5]
芳香族置換アクリロニトリル(9)に代えて、芳香族置換アクリロニトリル(2)2質量部を用いた以外は、実施例1と同様にフイルムを作製して評価した。
結果は、第1表に示す。
[実施例6]
芳香族置換アクリロニトリル(9)に代えて、芳香族置換アクリロニトリル(14)2質量部を用いた以外は、実施例1と同様にフイルムを作製して評価した。
結果は、第1表に示す。
[比較例1]
芳香族置換アクリロニトリル(9)に代えて、下記の芳香族化合物(x)2質量部を用いた以外は、実施例1と同様にフイルムを作製して評価した。
結果は、第1表に示す。
Figure 2005139263
[比較例2]
芳香族置換アクリロニトリル(9)に代えて、下記の芳香族化合物(y)2質量部を用いた以外は、実施例1と同様にフイルムを作製して評価した。
結果は、第1表に示す。
Figure 2005139263
[比較例3]
芳香族置換アクリロニトリル(9)を添加しなかった以外は、実施例1と同様にフイルムを作製して評価した。
結果は、第1表に示す。
[比較例4]
芳香族置換アクリロニトリル(9)を添加せず、混合溶媒をメチレンクロリド482質量部、メタノール88.2質量部、ブタノール16.7質量部に変更した以外は、実施例1と同様にフイルムを作製して評価した。
結果は、第1表に示す。
[比較例5]
芳香族置換アクリロニトリル(9)に代えて、下記の芳香族化合物(z)2質量部を用い、混合溶媒をメチレンクロリド482質量部、メタノール88.2質量部、ブタノール16.7質量部に変更した以外は、実施例1と同様にフイルムを作製して評価した。
結果は、第1表に示す。
Figure 2005139263
第1表
────────────────────────────────────────
添加化合物 光学特性 評価結果
フイルム (種類)量 Rth a−b A−B 1 2 3 4 ヘイズ
────────────────────────────────────────
実施例1 (9)1% 80.0 −8.9 −4.5 A A A A 0.3
実施例2 (9)2% 80.4 −8.5 −5.3 A A A A 0.3
実施例3 (9)3% 81.9 −7.0 −6.4 A A A A 0.2
実施例4 (2)4% 82.3 −6.6 −9.5 B A A B 0.4
実施例5 (2)4% 79.8 −9.3 −3.8 A A A A 0.2
実施例6 (14)2% 80.1 −8.8 −9.7 A A B A 0.3
────────────────────────────────────────
比較例1 (x)2% 102.2 13.3 0 A A A A 0.3
比較例2 (y)2% 90.2 0.3 −2.6 A A A A 0.3
比較例3 なし 88.9 − −4.7 C A B A 0.4
比較例4 なし 30.1 − −4.7 C A B A 0.4
比較例5 (z)1.4% 80.5 50.4 −4.5 A A A A 0.3
────────────────────────────────────────
[実施例7]
特開平11−316378号公報の[実施例1]において、その第1透明支持体を実施例2で得られるセルローストリアセテートフィルムの厚さを80μmとしたものに変更する以外は、全く同様にして特開平11−316378号公報の[実施例1]を実施して試料2−2を作製した。得られた楕円偏光板は、光学特性は優れたものであった。従って、本発明の製造工程において特定の洗浄溶液を用いることで、その後に作製されるセルロースアシレートフイルムが光学偏光板に適応されても問題のない好ましい態様であることが明らかである。
[実施例8]
特開平7−333433号公報の実施例1の富士写真フイルム(株)製セルローストリアセテートを、実施例1〜6のセルローストリエステルフィルムに変更する以外は、特開平7−333433号公報の実施例1と全く同様にした光学補償フィルターフィルム試料を作製した。得られたフイルムは全て左右上下に優れた視野角を有するものであった。したがって、本発明のセルローストリアセテートフィルムが、光学的用途として優れたものであることが判る。
[実施例9]
本発明では更に、多種の光学用途に利用され、実施例1〜6を、例えば特開平10−48420号公報の実施例1に記載の液晶表示装置、特開平9−26572実施例1に記載のディスコティック液晶分子を含む光学的異方性層、ポリビニルアルコールを塗布した配向膜、特開2000−154261号公報の図2〜9に記載のVA型液晶表示装置、特開2000−154261号公報の図10〜15に記載のOCB型液晶表示装置に用いたところ良好な性能が得られた。したがって、本発明のセルローストリアセテートフィルムが、光学的用途として優れたものであることが判る。
[実施例10]
実施例2においてセルローストリアセテートを、該セルローストリアセテート(15質量部)とセルロースアセテートプロピオネート(アセチル置換度2.44、プロピオネート置換度0.26で全置換度は2.70、粘度平均重合度318、含水率0.4質量%、ジクロロメタン溶液中6質量%の粘度 277mPa・s、平均粒子径1.3mmであって標準偏差0.4mmである粉体、残存酢酸量およびプロピオン酸量は共に0.06質量%以下、Caが0.011質量%、Mgは0.08質量%、Feは0.54ppm、6位アセチル基及びプロピオニル基はそれぞれ0.70と0.17であり全置換基の33%、アセトン抽出分は7質量%、重量平均分子量と数平均分子量の比は3.5、イエローネスインデックスは1.3、ヘイズは0.2、透明度は93.3%、Tgは157℃、結晶化発熱量は4.3J/g)(5質量部)、及びセルロースアセテートブチレート(アセチル置換度2.39、ブチレート置換度0.45で全置換度は2.84、粘度平均重合度340、含水率0.4質量%、ジクロロメタン溶液中6質量%の粘度295mPa・s、平均粒子径1.3mmであって標準偏差0.4mmである粉体、残存酢酸量およびブタン酸量は共に0.03質量%以下、Caが0.005質量%、Mgは0.004質量%、Feは5ppm、6位アセチル基及びブチロイル基はそれぞれ0.72と0.20であり全置換基の32%、アセトン抽出分は14質量%、重量平均分子量と数平均分子量の比は1.3、イエローネスインデックスは0.9、ヘイズは0.5、透明度は92.9%、Tgは153℃、結晶化発熱量は3.9J/g)(5質量部)に変更する以外は、実施例2と全く同様にしてフイルムを作製した。このフイルムのRth(a)−Rth(b)は−7.8、Rth(A)−Rth(B)は−4.5であり本発明の範囲内であった。剥げ残りA、ムラAおよびブツAであり、ヘイズも0.3で小さくすべての点で優れたものであった。したがって、本発明ではセルロースアシレートを2種類以上混合して用いても優れたセルロースアシレートフイルムを得る事が出来る。

Claims (9)

  1. 下記式(I)で表される芳香族置換アクリロニトリルとセルロースとが非塩素系有機溶媒に溶解しているセルロース溶液:
    Figure 2005139263
    [式中、ArおよびArは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基であり;Rは、水素原子、ハロゲン原子または一価の基である]。
  2. セルロースが、アシル基への置換度が2.7以上であり、かつ6位のアシル基への置換度が0.9以上であるセルロースアシレートである請求項1に記載のセルロース溶液。
  3. 芳香族置換アクリロニトリルが、下記式(II)で表される請求項1に記載のセルロース溶液:
    Figure 2005139263
    [式中、R、RおよびRは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ、ヒドロキシル、アミノ、ホルミル、カルボキシル、カルバモイル、スルフィノ、スルホ、スルファモイル、脂肪族基、芳香族炭化水素基、芳香族複素環基、−O−R、−NH−R、−N(−R)、−CO−R、−CO−O−R、−CO−NH−R、−CO−N(−R)、−SO−R、−SO−NH−Rまたは−SO−N(−R)であって、Rは脂肪族基または芳香族炭化水素基である]。
  4. 非塩素系有機溶媒が、炭素原子数が2乃至12のエーテル、炭素原子数が3乃至12のケトンおよび炭素原子数が2乃至12のエステルからなる群より選ばれる少なくとも一種の溶媒を含む請求項1に記載のセルロース溶液。
  5. 非塩素系有機溶媒が、少なくとも四種の溶媒を含む請求項4に記載のセルロース溶液。
  6. 請求項1乃至5のいずれか一項に記載のセルロース溶液を用いてソルベントキャスト法により製造したセルロースフイルム。
  7. 下記式(I)で表される芳香族置換アクリロニトリルを含み、該芳香族置換アクリロニトリルを除外した以外は同様に作製したセルロースフイルムBとの関係で、下記式(IV)および(V)を満足する厚み方向のレターデーション値を有することを特徴とするセルロースフイルム:
    Figure 2005139263
    (IV)−70nm≦Rth(a)−Rth(b)<0nm
    (V)−10nm≦Rth(A)−Rth(B)<0nm
    [式中、ArおよびArは、それぞれ独立に、芳香族炭化水素基または芳香族複素環基であり;Rは、水素原子、ハロゲン原子または一価の基である]
    [式中、Rth(a)は波長632.8nmで測定したセルロースフイルムの厚み方向のレターデーション値であり;Rth(A)は波長700nmで測定したセルロースフイルムの厚み方向のレターデーション値から波長400nmで測定したセルロースフイルムの厚み方向のレターデーション値を引いた値であり;Rth(b)は波長632.8nmで測定したセルロースフイルムBの厚み方向のレターデーション値であり;Rth(B)は波長700nmで測定したセルロースフイルムBの厚み方向のレターデーション値から波長400nmで測定したセルロースフイルムBの厚み方向のレターデーション値を引いた値である]。
  8. 偏光膜およびその両側に設けられた二枚の保護フイルムからなる偏光板であって、少なくとも一方の保護フイルムが請求項6または7に記載のセルロースフイルムであることを特徴とする偏光板。
  9. 液晶セルおよび少なくとも一枚の偏光板からなる液晶表示装置であって、偏光板が請求項8に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
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