JP2005109242A5 - - Google Patents
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- 強磁性層からなる自由層及び固定層と、強磁性層からなり、前記自由層及び固定層の間に設けられる平均自由行程以下の寸法を持つ1又は2以上のナノ接合部とを有し、前記ナノ接合部の内部に現れる磁壁が、主として、ブロッホ磁壁、ネール磁壁又はそれらが混在している磁壁であることを特徴とする磁気抵抗効果素子。
- 前記磁壁が主としてブロッホ磁壁である請求項1に記載の磁気抵抗効果素子において、当該磁気抵抗効果素子の積層方向における前記ナノ接合部の寸法hとナノ接合部の形成材料の格子定数aとが、h<4×aの関係であることを特徴とする磁気抵抗効果素子。
- 前記磁壁が主としてネール磁壁である請求項1に記載の磁気抵抗効果素子において、当該磁気抵抗効果素子の積層方向における前記ナノ接合部の寸法hとナノ接合部の形成材料の格子定数aとが、h>20×aの関係であることを特徴とする磁気抵抗効果素子。
- 強磁性層からなる前記自由層及び前記固定層が、分極率0.5以上の強磁性材料で形成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の磁気抵抗効果素子。
- 前記ナノ接合部及び当該ナノ接合部以外の部位である絶縁層と、前記自由層及び固定層の一方又は両方との間に、導電性薄層が設けられていることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の磁気抵抗効果素子。
- 前記導電性薄層の厚さが0.1〜1nmであることを特徴とする請求項5に記載の磁気抵抗効果素子。
- 前記絶縁層が、酸化物又は窒化物等の絶縁材料で構成されていることを特徴とする請求項5に記載の磁気抵抗効果素子。
- 信号を検出するためのセンス電流が、ナノ接合部を介して、前記自由層と固定層との間を流れることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に記載の磁気抵抗効果素子。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の磁気抵抗効果素子を有することを特徴とする磁気ヘッド。
- 強磁性層からなる自由層及び固定層と、
強磁性層からなり、前記自由層及び固定層の間に設けられる1又は2以上のナノ接合部とを有し、
前記ナノ接合部及び当該ナノ接合部以外の部位である絶縁層と、前記自由層及び固定層の一方又は両方との間に、導電性薄層が設けられていることを特徴とする磁気抵抗効果素子。
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US7356909B1 (en) * | 2004-09-29 | 2008-04-15 | Headway Technologies, Inc. | Method of forming a CPP magnetic recording head with a self-stabilizing vortex configuration |
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US6590750B2 (en) * | 1996-03-18 | 2003-07-08 | International Business Machines Corporation | Limiting magnetoresistive electrical interaction to a preferred portion of a magnetic region in magnetic devices |
EP0844679B1 (en) * | 1996-05-28 | 2003-11-19 | Shimadzu Corporation | Magneto-resistance effect element, magneto-resistance effect type head, memory element, and method for manufacturing them |
EP0843827A2 (en) * | 1996-06-12 | 1998-05-27 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | A magneto-resistive magnetic field sensor |
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US6579635B2 (en) * | 2000-10-12 | 2003-06-17 | International Business Machines Corporation | Smoothing and stabilization of domain walls in perpendicularly polarized magnetic films |
US6937446B2 (en) * | 2000-10-20 | 2005-08-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetoresistance effect element, magnetic head and magnetic recording and/or reproducing system |
JP2002314168A (ja) * | 2001-04-18 | 2002-10-25 | Fujitsu Ltd | Cpp構造電磁変換素子およびその製造方法 |
US6937447B2 (en) * | 2001-09-19 | 2005-08-30 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetoresistance effect element, its manufacturing method, magnetic reproducing element and magnetic memory |
JP3967237B2 (ja) | 2001-09-19 | 2007-08-29 | 株式会社東芝 | 磁気抵抗効果素子及びその製造方法、磁気再生素子並びに磁気メモリ |
US7035062B1 (en) * | 2001-11-29 | 2006-04-25 | Seagate Technology Llc | Structure to achieve sensitivity and linear density in tunneling GMR heads using orthogonal magnetic alignments |
JP2003218425A (ja) * | 2002-01-18 | 2003-07-31 | Hitachi Ltd | 有限電圧下で高磁気抵抗率を示す強磁性トンネル接合素子、および、それを用いた強磁気抵抗効果型ヘッド、磁気ヘッドスライダ、ならびに磁気ディスク装置 |
US6724652B2 (en) * | 2002-05-02 | 2004-04-20 | Micron Technology, Inc. | Low remanence flux concentrator for MRAM devices |
JP4487472B2 (ja) * | 2002-07-05 | 2010-06-23 | 株式会社日立製作所 | 磁気抵抗効果素子、及びこれを備える磁気ヘッド、磁気記録装置、磁気メモリ |
US7218484B2 (en) * | 2002-09-11 | 2007-05-15 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetoresistance effect element, magnetic head, and magnetic reproducing apparatus |
JP2005109240A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Tdk Corp | 磁気抵抗効果素子及び磁気ヘッド |
US20050136600A1 (en) * | 2003-12-22 | 2005-06-23 | Yiming Huai | Magnetic elements with ballistic magnetoresistance utilizing spin-transfer and an MRAM device using such magnetic elements |
JP2005191101A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-14 | Tdk Corp | 磁気抵抗効果素子及び磁気ヘッド |
ES2249974B1 (es) * | 2004-03-01 | 2007-06-01 | Consejo Sup. Investig. Cientificas | Dispositivo spintronico magnetoresistivo, su procedimiento de fabricacion y sus aplicaciones. |
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