JP2004526822A - コンプライアントな架橋性サーマルインターフェース材料 - Google Patents

コンプライアントな架橋性サーマルインターフェース材料 Download PDF

Info

Publication number
JP2004526822A
JP2004526822A JP2002561844A JP2002561844A JP2004526822A JP 2004526822 A JP2004526822 A JP 2004526822A JP 2002561844 A JP2002561844 A JP 2002561844A JP 2002561844 A JP2002561844 A JP 2002561844A JP 2004526822 A JP2004526822 A JP 2004526822A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compliant
crosslinkable material
silver
aluminum
filler
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2002561844A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2004526822A5 (ja
Inventor
グエン,ミー
グランデイ,ジエームズ
エドワーズ,カール
Original Assignee
ハネウエル・インターナシヨナル・インコーポレーテツド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=25101321&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JP2004526822(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by ハネウエル・インターナシヨナル・インコーポレーテツド filed Critical ハネウエル・インターナシヨナル・インコーポレーテツド
Publication of JP2004526822A publication Critical patent/JP2004526822A/ja
Publication of JP2004526822A5 publication Critical patent/JP2004526822A5/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F279/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of monomers having two or more carbon-to-carbon double bonds as defined in group C08F36/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01BCABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
    • H01B1/00Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
    • H01B1/04Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors mainly consisting of carbon-silicon compounds, carbon or silicon
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/02Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape
    • B23K35/0222Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape for use in soldering, brazing
    • B23K35/0244Powders, particles or spheres; Preforms made therefrom
    • B23K35/025Pastes, creams, slurries
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F279/00Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of monomers having two or more carbon-to-carbon double bonds as defined in group C08F36/00
    • C08F279/02Macromolecular compounds obtained by polymerising monomers on to polymers of monomers having two or more carbon-to-carbon double bonds as defined in group C08F36/00 on to polymers of conjugated dienes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/02Elements
    • C08K3/08Metals
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K9/00Use of pretreated ingredients
    • C08K9/02Ingredients treated with inorganic substances
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L51/00Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L51/04Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers grafted on to rubbers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/34Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
    • H01L23/36Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
    • H01L23/373Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
    • H01L23/3737Organic materials with or without a thermoconductive filler
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/02Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape
    • B23K35/0222Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by mechanical features, e.g. shape for use in soldering, brazing
    • B23K35/0244Powders, particles or spheres; Preforms made therefrom
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/24Selection of soldering or welding materials proper
    • B23K35/26Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 400 degrees C
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/24Selection of soldering or welding materials proper
    • B23K35/26Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 400 degrees C
    • B23K35/262Sn as the principal constituent
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/36Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest
    • B23K35/3612Selection of non-metallic compositions, e.g. coatings, fluxes; Selection of soldering or welding materials, conjoint with selection of non-metallic compositions, both selections being of interest with organic compounds as principal constituents
    • B23K35/3613Polymers, e.g. resins
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/301Electrical effects
    • H01L2924/3011Impedance
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/901Printed circuit
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/28Web or sheet containing structurally defined element or component and having an adhesive outermost layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)
  • Materials For Medical Uses (AREA)

Abstract

少なくとも1種類のシリコーン樹脂混合物と、少なくとも1種類の湿潤剤と、少なくとも1種類の熱伝導性フィラーとのコンプライアントな架橋性サーマルインターフェース材料、ならびにその製造方法および使用方法、ならびにポリマーおよび樹脂系の熱伝導率を向上させるための方法を開示する。

Description

【技術分野】
【0001】
本出願は、米国特許出願第09/774466号(この記載内容全体を参照して本明細書に組み込まれる)の利益を主張する。
【背景技術】
【0002】
電子デバイスがより小さくなり動作速度がより高速になるにつれて、熱の形態で放出されるエネルギーが非常に増加する。この産業分野において一般的に実施されていることは、物理インターフェースに散逸した過剰な熱を移動させるためのデバイスなどにおいて、サーマルグリースまたはグリース状材料を単独またはキャリア上で使用することである。最も一般的な種類のサーマルインターフェース材料は、サーマルグリース、相転移材料、およびエラストマーテープである。サーマルグリースまたは相転移材料は、非常に薄い層に広がることができ隣接する面間の接触を密接にするため、エラストマーテープよりも耐熱性が低い。代表的な熱インピーダンス値は0.6℃cm/wから1.6℃cm/wの範囲である。
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0003】
サーマルグリースの重大な欠点は、−65℃から150℃などの熱サイクル後や、VLSIチップに使用される場合のパワーサイクルの後で熱的性能が大きく低下することである。これらの材料の性能低下は、表面の平坦性から大きく逸脱して電子デバイスの係合する面の間に間隙が形成される場合、または製造許容差などの別の理由で係合する表面間に大きな間隙が存在する場合などでも発生することが分かっている。これらの材料の熱伝導性が低下すると、これらの材料が使用される電子デバイスの性能に悪影響が生じる。本発明は、電子デバイスのインターフェース材料として使用すると特に好適であるサーマルインターフェース材料を提供する。
【課題を解決するための手段】
【0004】
本発明によると、シリコーン樹脂混合物(ビニルシリコーン、ビニルQ樹脂、ヒドリド官能性シロキサン、および白金−ビニルシロキサンの混合物など)と、湿潤剤と、少なくとも1種類の熱伝導性フィラーとを含むコンプライアントな架橋性材料が提供される。本発明のコンプライアントな熱伝導性材料は、高出力半導体デバイスの放熱を向上させる能力を有し、安定な熱的性能を維持する。本発明の材料が使用される電子デバイスに熱−機械的応力が生じる間またはパワーサイクルの変動中に、本発明の材料の界面の剥離または相分離は起こらない。
【0005】
本発明のコンプライアントな架橋性サーマルインターフェース材料は、構成要素を互いに混合することによって配合してペーストにすることができ、これを任意の特定の表面に供給して適用して室温または高温で降下させることができる。本発明の材料はヒートシンクなどのあらかじめ適用可能な他のインターフェース用途、またはその他のインターフェース用途で、非常にコンプライアントで、硬化し、粘着性であるエラストマーフィルムまたはシートとして配合することも可能である。
【0006】
混入されるフィラーは好都合には、銀、銅、アルミニウム、およびそれらの合金、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、銀メッキした銅、銀メッキしたアルミニウム、ならびに炭素繊維などの少なくとも1種類の熱伝導性フィラーを含む。樹脂の酸化を軽減する酸化防止剤、表面のぬれを向上させる湿潤剤、室温での硬化を可能にするものなどの硬化促進剤、分散性を向上させる粘度低下剤、および架橋助剤を混入するとさらに有用である場合もある。インターフェース用途のコンプライアントな材料の圧縮率を制限するため、すなわち厚さを制限または制御するために、実質的に球形の粒子のフィラーを含むこことが望ましい場合も多い。
【0007】
フィラーと前述の混合したシリコーン樹脂混合物の組み合わせなどの樹脂系の熱伝導率は、炭素微小繊維を他のフィラーとともに系に混入することによって特に向上させることが可能なことも発見した。
【発明を実施するための最良の形態】
【0008】
本発明のコンプライアントな架橋性サーマルインターフェース材料は、ビニルシリコーン、ビニルQ樹脂、ヒドリド官能性シロキサン、および白金−ビニルシロキサンの混合物などのシリコーン樹脂混合物と、有機チタン酸塩湿潤剤と、少なくとも1種類の熱伝導性フィラーとを混合することによって配合される。2種類以上のシリコーン樹脂混合物を混合して、コンプライアントな架橋性インターフェース材料を製造することも可能である。シリコーン樹脂と適切な熱伝導性フィラーとを含有するインターフェース材料は、熱容量が0.5cm℃/w未満となる。サーマルグリースとは異なり、この材料はICデバイスの熱サイクルまたはフローサイクル後に熱的性能の劣化が起こらないが、その理由は、液体シリコーン樹脂は熱活性化によって架橋して軟質ゲルを形成するからである。さらに、インターフェース材料として適用される場合、サーマルグリースを使用する場合のように「絞り出される」ことはなく、熱サイクル中の界面剥離も生じない。この新規材料は、定量供給方法によって適用され、その後に希望に応じて硬化させる機能定量供給可能な液体ペーストとして提供することができる。ヒートシンクなどのインターフェース表面上に予備適用するための非常にコンプライアントな硬化エラストマーフィルムまたはシートを提供することもできる。好都合には、熱伝導率が約0.2w/m℃を超え、好ましくは少なくとも約0.4w/m℃であるフィラーが使用される。最適な場合では、熱伝導率が約1w/m℃以上であるフィラーが好ましい。コンプライアントな熱伝導性材料は、高出力半導体デバイスの放熱性を向上させる。このペーストは、官能性シリコーン樹脂と熱伝導性フィラーの混合物として配合することができる。
【0009】
本明細書で使用される場合、用語「コンプライアントな」は、室温で固体であり降伏しない材料とは逆に、室温で降伏し成形可能である材料の性質を含んでいる。本明細書で使用される場合、用語「架橋性」は、まだ架橋していない材料または化合物を意味する。
【0010】
ビニルQ樹脂は、以下のベースポリマー構造:
【0011】
【化1】
を有する活性化硬化特殊シリコーンゴムである。
【0012】
ビニルQ樹脂は、付加硬化エラストマーの明らかな補強添加剤でもある。少なくとも20%のQ樹脂を含有するビニルQ樹脂分散液の例は、VQM−135(DMS−V41ベース)、VQM−146(DMS−V46ベース)およびVQX−221(キシレンベース中50%)である。
【0013】
例えば、考慮されるシリコーン樹脂混合物は以下のように配合することができる。
【0014】
【表1】
これらの樹脂混合物は、室温または高温で硬化させてコンプライアントなエラストマーにすることができる。このときに起こる反応は、白金錯体またはニッケル触媒などの触媒の存在下でヒドリド官能性シロキサンによるビニル官能性シロキサンのヒドロシリル化(付加硬化)である。好ましい白金触媒は、SIP6830.0、SIP6832.0、および白金−ビニルシロキサンである。
【0015】
ビニルシリコーンとして考慮される例としては、分子量が約10000から50000のビニル末端ポリジメチルシロキサン。ヒドリド官能性シロキサンとして考慮される例としては、分子量が約500から5000のメチルヒドロシロキサン−ジメチルシロキサンコポリマーが挙げられる。物理的性質は、架橋密度が非常に低い非常に軟質のゲルから、架橋密度が非常に高い強靱なエラストマー網目構造まで変動させることができる。
【0016】
樹脂混合物に分散させる熱伝導性フィラー粒子は、好都合には高い熱伝導率を有する。好適なフィラー材料としては、銀、銅、アルミニウム、およびそれらの合金、窒化ホウ素、アルミニウム球、窒化アルミニウム、銀メッキした銅、銀メッキしたアルミニウム、ならびに炭素繊維が挙げられる。窒化ホウ素と銀または窒化ホウ素、および銀/銅の組み合わせも熱伝導率を向上させる。少なくとも20重量%の量の窒化ホウ素、少なくとも70重量%の量のアルミニウム球、および少なくとも約60重量%の銀が特に有用である。
【0017】
特に有効なフィラーは、オハイオ州シーダービルのアプライド・サイエンシズ(Applied Sciences,Inc.(Cedarville,Ohio))より入手可能なものなどの「気相成長炭素繊維」(VGCF)と呼ばれる特殊形態の炭素繊維を含む。VGCFまたは「炭素微小繊維」は、熱処理によって高度にグラファイト化される(熱伝導率=1900w/m℃)。約0.5重量%の炭素微小繊維を添加することによって有意に熱伝導率が増加する。このような繊維は、様々な長さおよび直径のものが入手可能であり、長さ1mmから数十cm、および直径0.1μm未満から100μmを超えるものが入手可能である。有用な形態の1つでは、直径が約1μm以下であり、長さが約50μmから100μmであり、直径が5μmを超える他の一般的な炭素繊維の約2倍または3倍の熱伝導率を有する。
【0018】
前述のシリコーン樹脂混合物などの樹脂系に多量のVGCFを混入することは困難である。炭素微小繊維(例えば約1μm以下)を樹脂に加える場合、有用となる熱伝導率増加のためには樹脂量に対して多量の繊維を混入する必要があるのでうまく混合されない。しかし、本発明者らは、他のフィラーを比較的多量に含有する樹脂には、比較的多量の炭素微小繊維を加えることが可能なことを発見した。他の繊維とともに使用すると、単独でポリマーに加える場合よりもより多くの量の炭素微小繊維を樹脂に加えることができ、そのためサーマルインターフェース材料の熱伝導率を向上させるためにはより好都合である。望ましくは、炭素微小繊維のポリマーに対する重量比は0.05から0.50の範囲である。
【0019】
充填密度を最大化するために実質的に球形のフィラーを混入することも好都合である。さらに実質的に球形またはそれと同様の形状によって、圧縮中の厚さをある程度制御することもできる。オルガノシラン、有機チタン酸塩、有機ジルコニウムなどの官能性有機金属カップリング剤または湿潤剤を添加することによって、フィラー粒子の分散を促進することができる。樹脂材料中のフィラーに有用である一般的な粒径は、約1μmから20μmの範囲になることができ、最大で約100μmである。樹脂混合物ゲルの酸化および熱分解を防止するために酸化防止剤を加えることができる。代表的である有用な酸化防止剤としてはニューヨーク州ホーソーンのチバ・ガイギー(Ciba Giegy(Hawthorne,New York)より入手可能なイルガノズ(Irganoz)1076(イルガノックス(lrganox)565のフェノール型、アミン型)(0.01%から約1重量%)が挙げられる。
【実施例】
【0020】
本発明の説明のため、以下の実施例AからFに示される構成要素を混合して多数の実施例を調製した。これらの実施例は酸化防止剤や湿潤剤などの1種類以上の任意の添加剤を含む。これらの添加剤の量は変動しうるが、一般には、以下の適切な量(単位、重量%)で存在すると有用である。フィラー:全体(フィラー+樹脂)の最大95%、湿潤剤:(全体の)0.1%から5%、接着促進剤:(全体の)0.01%から1%、酸化防止剤:(全体の)0.01%から1%。少なくとも約0.5%の炭素繊維を加えると熱伝導率を有意に増加する。実施例では、考慮される混合物の物理化学的測定も示している。
【0021】
熱伝導性ペーストの実施例
【0022】
【表2】
エポキシシランおよびシラノール末端ビニルシロキサンは接着促進剤である。有機チタン酸塩は、ペーストの粘度を減少させフィラーのフィラーを増加させる湿潤剤として機能する。使用した有機チタン酸塩はチタン酸イソプロピルトリイソステアリルであった。有機チタン酸塩の一般的構造はRO−Ti(OXRY)であり、式中、ROは加水分解性基であり、XおよびYは結合性官能基である。アルミニウム球の粒径は1μmから20μmの範囲である。
【0023】
以上のように、コンプライアントな架橋性サーマルインターフェース材料の具体的な実施形態および用途について開示してきた。しかし、本明細書に記載される本発明の概念から逸脱せずに、すでに開示した内容以外の多くの修正が可能であることは当業者には明らかであろう。したがって、本発明の主題は、添付の請求項以外によって制限されるべきではない。さらに、明細書と請求項の両方の記述において、その状況で一貫性が維持されるかぎり最も広い意味ですべての用語が解釈されるべきである。特に、用語「含む」は、要素、構成要素、または工程を非限定的な意味で言及していると解釈すべきであり、言及された要素、構成要素、または工程が、特に言及されない要素、構成要素、または工程とともに存在したり、使用したり、組み合わせたりすることが可能なことを示している。

Claims (22)

  1. 少なくとも1種類のシリコーン樹脂混合物と、少なくとも1種類の湿潤剤と、少なくとも1種類の熱伝導性フィラーとを含む、電子デバイスのインターフェース材料として有用であるコンプライアントな架橋性材料。
  2. 前記少なくとも1種類のシリコーン樹脂混合物が、ビニル末端シロキサン、補強添加剤、架橋剤、および触媒を含む請求項1に記載のコンプライアントな架橋性材料。
  3. 前記ビニル末端シロキサンがビニルシリコーンである、請求項2に記載のコンプライアントな架橋性材料。
  4. 前記補強添加剤がビニルQ樹脂である、請求項2に記載のコンプライアントな架橋性材料。
  5. 前記架橋剤がヒドリド官能性シロキサンを含む、請求項2に記載のコンプライアントな架橋性材料。
  6. 前記触媒が白金錯体を含む、請求項2に記載のコンプライアントな架橋性材料。
  7. 前記白金錯体が白金−ビニルシロキサン化合物である、請求項6に記載のコンプライアントな架橋性材料。
  8. 前記湿潤剤が有機チタン酸塩化合物を含む、請求項1に記載のコンプライアントな架橋性材料。
  9. 前記フィラーが、銀、銅、アルミニウム、およびそれらの合金、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、アルミニウム球、銀メッキした銅、銀メッキしたアルミニウム、および炭素繊維、ならびにそれらの混合物の中の少なくとも1種類を含む、請求項1に記載のコンプライアントな架橋性材料。
  10. 少なくとも1種類の他のフィラー以外に炭素微小繊維をさらに含む、請求項9に記載のコンプライアントな架橋性材料。
  11. 前記フィラーが、前記炭素微小繊維と、銀、銅、アルミニウム、およびそれらの合金、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、銀メッキした銅、銀メッキしたアルミニウム、および炭素繊維、ならびにそれらの混合物を含む少なくとも1種類の他のフィラーとを含む、請求項1に記載のコンプライアントな架橋性材料。
  12. 前記フィラーの少なくとも一部が実質的に球形の粒子を含む、請求項1に記載のコンプライアントな架橋性材料。
  13. 酸化防止剤をさらに含む、請求項1に記載のコンプライアントな架橋性材料。
  14. 前記酸化防止剤が0.01重量%から1重量%の量で存在する、請求項7に記載のコンプライアントな架橋性材料。
  15. 少なくとも1種類のシリコーン樹脂混合物と、少なくとも1種類の湿潤剤と、少なくとも1種類の熱伝導性フィラーとを含む、電子デバイスのインターフェース材料として有用であるコンプライアントな架橋性材料の定量供給可能なペースト。
  16. 少なくとも1種類のシリコーン樹脂混合物と、少なくとも1種類の湿潤剤と、少なくとも1種類の熱伝導性フィラーとを含む、電子デバイスのインターフェース材料として有用であるコンプライアントな架橋性材料のシートまたはフィルム。
  17. 少なくとも1種類のシリコーン樹脂混合物を、少なくとも1種類の湿潤剤および少なくとも1種類の熱伝導性フィラーと混合する工程を含む、コンプライアントな架橋性材料の製造方法。
  18. 前記材料の定量供給可能なペーストを配合する工程をさらに含む、請求項17に記載の方法。
  19. 電子デバイスの構成要素間のインターフェースとしての大きさに切断して使用することが可能なシートまたはフィルムに前記材料を成形する工程をさらに含む、請求項17に記載の方法。
  20. 炭素微小繊維と少なくとも1種類の熱伝導性フィラーとを混入する工程を含む、ポリマーの熱伝導率を増加させる方法。
  21. 前記炭素微小繊維が、少なくとも約0.5重量%の量で存在するか、ポリマーに対する炭素微小繊維の比率が少なくとも0.05で存在する、請求項20に記載の方法。
  22. 銀、銅、アルミニウム、およびそれらの合金、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、銀メッキした銅、銀メッキしたアルミニウム、および炭素繊維、ならびにそれらの混合物の中の少なくとも1種類を含むフィラーをさらに混入する工程をさらに含む、請求項21に記載の方法。
JP2002561844A 2001-01-30 2002-01-17 コンプライアントな架橋性サーマルインターフェース材料 Withdrawn JP2004526822A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US09/774,466 US6605238B2 (en) 1999-09-17 2001-01-30 Compliant and crosslinkable thermal interface materials
PCT/US2002/001573 WO2002061764A1 (en) 2001-01-30 2002-01-17 Compliant and crosslinkable thermal interface materials

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004526822A true JP2004526822A (ja) 2004-09-02
JP2004526822A5 JP2004526822A5 (ja) 2008-04-17

Family

ID=25101321

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002561844A Withdrawn JP2004526822A (ja) 2001-01-30 2002-01-17 コンプライアントな架橋性サーマルインターフェース材料

Country Status (11)

Country Link
US (2) US6605238B2 (ja)
EP (2) EP1993134A3 (ja)
JP (1) JP2004526822A (ja)
KR (1) KR100621538B1 (ja)
CN (2) CN1288668C (ja)
AT (1) ATE411605T1 (ja)
CA (1) CA2433567A1 (ja)
DE (1) DE60229355D1 (ja)
MY (1) MY122904A (ja)
TW (1) TWI305218B (ja)
WO (1) WO2002061764A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004533705A (ja) * 2001-05-07 2004-11-04 ハネウエル・インターナシヨナル・インコーポレーテツド 界面材料ならびにその製造法および使用
JP2007161806A (ja) * 2005-12-12 2007-06-28 Shin Etsu Chem Co Ltd 熱伝導性シリコーンゴム組成物
JP2008160126A (ja) * 2007-12-21 2008-07-10 Shin Etsu Chem Co Ltd 電子部品の冷却構造

Families Citing this family (58)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6673434B2 (en) * 1999-12-01 2004-01-06 Honeywell International, Inc. Thermal interface materials
US7608324B2 (en) * 2001-05-30 2009-10-27 Honeywell International Inc. Interface materials and methods of production and use thereof
US6651736B2 (en) * 2001-06-28 2003-11-25 Intel Corporation Short carbon fiber enhanced thermal grease
JP4784720B2 (ja) * 2001-09-25 2011-10-05 信越化学工業株式会社 粘着テープ
KR100796678B1 (ko) * 2001-09-28 2008-01-21 삼성에스디아이 주식회사 평면 표시 소자용 전자 방출원 조성물, 이를 이용한 평면 표시 소자용 전자 방출원의 제조방법 및 이를 포함하는 평면 표시 소자
US6620515B2 (en) * 2001-12-14 2003-09-16 Dow Corning Corporation Thermally conductive phase change materials
EP1531985A4 (en) * 2002-07-15 2008-03-19 Honeywell Int Inc THERMAL CONNECTING AND BORDER AREA SYSTEMS, MANUFACTURING METHOD AND USES THEREOF
US6783692B2 (en) * 2002-10-17 2004-08-31 Dow Corning Corporation Heat softening thermally conductive compositions and methods for their preparation
JP4568472B2 (ja) * 2002-11-29 2010-10-27 東レ・ダウコーニング株式会社 銀粉末の製造方法および硬化性シリコーン組成物
EP1751479B1 (en) * 2004-04-09 2014-05-14 Ail Research Inc. Heat and mass exchanger
CN100370604C (zh) * 2004-04-15 2008-02-20 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 一种热界面材料及其制造方法
CN100389166C (zh) * 2004-04-29 2008-05-21 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 一种热界面材料及其制造方法
CN100543103C (zh) * 2005-03-19 2009-09-23 清华大学 热界面材料及其制备方法
US7390377B1 (en) 2005-09-22 2008-06-24 Sandia Corporation Bonding thermoplastic polymers
CN100528315C (zh) * 2005-10-11 2009-08-19 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 热界面材料混合装置
US20070097651A1 (en) * 2005-11-01 2007-05-03 Techfilm, Llc Thermal interface material with multiple size distribution thermally conductive fillers
CN1962067B (zh) * 2005-11-10 2010-04-14 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 碾磨设备
CN1978580B (zh) * 2005-12-09 2010-09-29 富准精密工业(深圳)有限公司 导热膏及使用该导热膏的电子装置
TWI291480B (en) * 2005-12-20 2007-12-21 Ind Tech Res Inst Composition for thermal interface materials
US20100219369A1 (en) * 2005-12-20 2010-09-02 Industrial Technology Research Institute Composition of thermal interface material
CN1986643B (zh) * 2005-12-23 2010-05-12 富准精密工业(深圳)有限公司 硅脂组合物
CN101003685A (zh) * 2006-01-18 2007-07-25 富准精密工业(深圳)有限公司 导热聚硅氧烷组合物
CN101003725A (zh) * 2006-01-21 2007-07-25 富准精密工业(深圳)有限公司 热界面材料及其制作方法
US7951871B2 (en) * 2006-11-10 2011-05-31 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Curing rubber by hydrosilation
EP2039496A1 (en) * 2007-09-20 2009-03-25 ABB Research Ltd. A method of producing a rubber product
EP2042558A1 (en) * 2007-09-20 2009-04-01 ABB Research Ltd. An electric insulation device and an electric device provided therewith
CN102066488A (zh) * 2008-04-21 2011-05-18 霍尼韦尔国际公司 热互连和界面材料、它们的制造方法和用途
US7808099B2 (en) * 2008-05-06 2010-10-05 International Business Machines Corporation Liquid thermal interface having mixture of linearly structured polymer doped crosslinked networks and related method
US20100112360A1 (en) * 2008-10-31 2010-05-06 Delano Andrew D Layered thermal interface systems methods of production and uses thereof
US9751264B2 (en) * 2009-10-09 2017-09-05 Alcatel-Lucent Usa Inc. Thermal interface device
US8247494B2 (en) * 2009-11-23 2012-08-21 Exxonmobil Chemical Patents Inc. Thermoset compositions with dispersed thermoplastic resin therein and process for making them
CN102554486A (zh) * 2010-12-28 2012-07-11 上海杰远环保科技有限公司 一种高导热焊接材料及其制造方法
US9428680B2 (en) 2013-03-14 2016-08-30 Dow Corning Corporation Conductive silicone materials and uses
EP2970728A1 (en) 2013-03-14 2016-01-20 Dow Corning Corporation Curable silicone compositions, electrically conductive silicone adhesives, methods of making and using same, and electrical devices containing same
US9693481B2 (en) 2013-06-25 2017-06-27 Henkel IP & Holding GmbH Thermally conductive dielectric interface
KR20160094385A (ko) 2013-12-05 2016-08-09 허니웰 인터내셔날 인코포레이티드 조절된 pH를 갖는 주석(II) 메탄술포네이트 용액
CN105980512A (zh) 2014-02-13 2016-09-28 霍尼韦尔国际公司 可压缩热界面材料
MX2016016984A (es) 2014-07-07 2017-05-03 Honeywell Int Inc Material de interconexion termica con depurador ionico.
EP3169717A1 (en) 2014-07-18 2017-05-24 SABIC Global Technologies B.V. Methods of forming dynamic cross-linked polymer compositions
JP6149831B2 (ja) * 2014-09-04 2017-06-21 信越化学工業株式会社 シリコーン組成物
CN112080258A (zh) 2014-12-05 2020-12-15 霍尼韦尔国际公司 具有低热阻的高性能热界面材料
EP3274124A1 (en) * 2015-03-26 2018-01-31 SABIC Global Technologies B.V. Use of dynamic cross-linked polymer compositions in soldering applications
US10312177B2 (en) 2015-11-17 2019-06-04 Honeywell International Inc. Thermal interface materials including a coloring agent
CN109072051B (zh) 2016-03-08 2023-12-26 霍尼韦尔国际公司 相变材料
US10501671B2 (en) 2016-07-26 2019-12-10 Honeywell International Inc. Gel-type thermal interface material
US9937662B2 (en) 2016-09-01 2018-04-10 International Business Machines Corporation Shape memory thermal interface materials
US9873774B1 (en) * 2016-09-01 2018-01-23 International Business Machines Corporation Shape memory thermal interface materials
US10165841B2 (en) 2016-10-28 2019-01-01 SWings Products, LLC Footwear carrying system
JP2018078272A (ja) * 2016-10-31 2018-05-17 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 三次元形状熱伝導性成形体、及びその製造方法
CN107189767B (zh) * 2017-05-27 2020-11-27 广州中科检测技术服务有限公司 一种高界面传热效果、可塑、无粘污的界面传热材料及其制备方法
US11041103B2 (en) 2017-09-08 2021-06-22 Honeywell International Inc. Silicone-free thermal gel
US10428256B2 (en) 2017-10-23 2019-10-01 Honeywell International Inc. Releasable thermal gel
US11072706B2 (en) 2018-02-15 2021-07-27 Honeywell International Inc. Gel-type thermal interface material
CN108620765A (zh) * 2018-05-09 2018-10-09 长沙小如信息科技有限公司 一种汽车钣金件焊接材料及焊接工艺
IT201800006010A1 (it) * 2018-06-04 2019-12-04 Strato sigillante di uno pneumatico
US11373921B2 (en) 2019-04-23 2022-06-28 Honeywell International Inc. Gel-type thermal interface material with low pre-curing viscosity and elastic properties post-curing
CN110591658A (zh) * 2019-08-20 2019-12-20 深圳市博恩实业有限公司 通道式柔性复合材料高导热体及其制备方法
JP7257529B2 (ja) * 2019-08-26 2023-04-13 富士フイルム株式会社 熱伝導材料形成用組成物、熱伝導材料、熱伝導シート、熱伝導層付きデバイス

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4842911A (en) * 1983-09-02 1989-06-27 The Bergquist Company Interfacing for heat sinks
US4790968A (en) 1985-10-19 1988-12-13 Toshiba Silicone Co., Ltd. Process for producing pressure-sensitive electroconductive sheet
US5891951A (en) * 1987-09-14 1999-04-06 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Styrene-based resin composition
US5094769A (en) * 1988-05-13 1992-03-10 International Business Machines Corporation Compliant thermally conductive compound
JPH0484444A (ja) 1990-07-27 1992-03-17 Toshiba Chem Corp 導電性ペースト
EP0476224A1 (en) 1990-08-21 1992-03-25 Ricon Resins, Inc. Adhesive rubber compositions
US5227093A (en) * 1991-11-29 1993-07-13 Dow Corning Corporation Curable organosiloxane compositions yielding electrically conductive materials
US5380770A (en) 1992-04-09 1995-01-10 General Electric Company Heat cured silicone rubber compositions containing a potassium aluminosilicate filler which provides resistance to hydrocarbon oils and adjustable shrinkage
US5665473A (en) * 1994-09-16 1997-09-09 Tokuyama Corporation Package for mounting a semiconductor device
US5837119A (en) 1995-03-31 1998-11-17 International Business Machines Corporation Methods of fabricating dendritic powder materials for high conductivity paste applications
US5859105A (en) 1997-02-11 1999-01-12 Johnson Matthey, Inc. Organosilicon-containing compositions capable of rapid curing at low temperature
US5852092A (en) 1997-02-11 1998-12-22 Johnson Matthey, Inc. Organosilicon-containing compositions having enhanced adhesive properties
JPH1140224A (ja) 1997-07-11 1999-02-12 Jsr Corp 異方導電性シート
US6432497B2 (en) * 1997-07-28 2002-08-13 Parker-Hannifin Corporation Double-side thermally conductive adhesive tape for plastic-packaged electronic components
GB9816377D0 (en) 1998-07-29 1998-09-23 Dow Corning Sa Foam control agents
JP3948642B2 (ja) * 1998-08-21 2007-07-25 信越化学工業株式会社 熱伝導性グリース組成物及びそれを使用した半導体装置
JP2000109373A (ja) * 1998-10-02 2000-04-18 Shin Etsu Chem Co Ltd 放熱用シリコーングリース組成物及びそれを使用した半導体装置
US6271299B1 (en) 1999-02-02 2001-08-07 Dow Corning Corporation Fire resistant sealant composition
US6238596B1 (en) * 1999-03-09 2001-05-29 Johnson Matthey Electronics, Inc. Compliant and crosslinkable thermal interface materials
US5989459A (en) 1999-03-09 1999-11-23 Johnson Matthey, Inc. Compliant and crosslinkable thermal interface materials
US6162663A (en) * 1999-04-20 2000-12-19 Schoenstein; Paul G. Dissipation of heat from a circuit board having bare silicon chips mounted thereon
US6706219B2 (en) * 1999-09-17 2004-03-16 Honeywell International Inc. Interface materials and methods of production and use thereof

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004533705A (ja) * 2001-05-07 2004-11-04 ハネウエル・インターナシヨナル・インコーポレーテツド 界面材料ならびにその製造法および使用
JP2007161806A (ja) * 2005-12-12 2007-06-28 Shin Etsu Chem Co Ltd 熱伝導性シリコーンゴム組成物
JP2008160126A (ja) * 2007-12-21 2008-07-10 Shin Etsu Chem Co Ltd 電子部品の冷却構造

Also Published As

Publication number Publication date
CN1927989A (zh) 2007-03-14
EP1356477A4 (en) 2005-10-12
US6605238B2 (en) 2003-08-12
US6811725B2 (en) 2004-11-02
TWI305218B (en) 2009-01-11
US20040026670A1 (en) 2004-02-12
ATE411605T1 (de) 2008-10-15
DE60229355D1 (de) 2008-11-27
WO2002061764A8 (en) 2003-11-06
MY122904A (en) 2006-05-31
EP1993134A2 (en) 2008-11-19
KR100621538B1 (ko) 2006-09-13
EP1356477A1 (en) 2003-10-29
CN1561524A (zh) 2005-01-05
EP1993134A3 (en) 2009-03-18
WO2002061764A1 (en) 2002-08-08
CN1288668C (zh) 2006-12-06
US20020007035A1 (en) 2002-01-17
EP1356477B1 (en) 2008-10-15
CA2433567A1 (en) 2002-08-08
KR20040030491A (ko) 2004-04-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2004526822A (ja) コンプライアントな架橋性サーマルインターフェース材料
JP3608612B2 (ja) 電磁波吸収性熱伝導組成物及び熱軟化性電磁波吸収性放熱シート並びに放熱施工方法
JP2004526822A5 (ja)
KR101696485B1 (ko) 열 계면 물질
JP3938681B2 (ja) 放熱構造体
US8221645B2 (en) Heat dissipating material and semiconductor device using same
JP2004533705A (ja) 界面材料ならびにその製造法および使用
JP2003509574A (ja) コンプライアントで架橋性の熱インタフェース材料
JP5472055B2 (ja) 熱伝導性シリコーングリース組成物
US6940722B2 (en) Heat-dissipating member, manufacturing method and installation method
JP2020002236A (ja) 熱伝導性シリコーン組成物、熱伝導性シリコーンシート及びその製造方法
CN1580116A (zh) 散热界面材料组成
WO2022230600A1 (ja) 硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び半導体装置
CN114729193B (zh) 热传导性硅酮组合物和热传导性硅酮片材
JP2021195478A (ja) 熱伝導性シリコーン組成物、その硬化物、及び放熱シート
WO2023024571A1 (zh) 复合导热材料和电子设备
WO2023132192A1 (ja) 高熱伝導性シリコーン組成物
JP2022180701A (ja) 熱伝導性シリコーン組成物及びその硬化物
JP7478805B2 (ja) 新規な低オイルブリードサーマルギャップパッド材料
WO2024084897A1 (ja) 硬化性オルガノポリシロキサン組成物及び半導体装置
KR20240011681A (ko) 열전도성 실리콘 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20060228

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060307

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20060531

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20060607

A524 Written submission of copy of amendment under article 19 pct

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524

Effective date: 20060906

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20071002

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080128

A524 Written submission of copy of amendment under article 19 pct

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A524

Effective date: 20080128

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080128

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20080407

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20080822

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20100409