JP2004346423A - Fe−Co−B系合金ターゲット材、その製造方法、軟磁性膜および磁気記録媒体ならびにTMR素子 - Google Patents
Fe−Co−B系合金ターゲット材、その製造方法、軟磁性膜および磁気記録媒体ならびにTMR素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004346423A JP2004346423A JP2004100406A JP2004100406A JP2004346423A JP 2004346423 A JP2004346423 A JP 2004346423A JP 2004100406 A JP2004100406 A JP 2004100406A JP 2004100406 A JP2004100406 A JP 2004100406A JP 2004346423 A JP2004346423 A JP 2004346423A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target material
- alloy target
- based alloy
- alloy
- soft magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Hall/Mr Elements (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
Abstract
【解決手段】 断面ミクロ組織においてホウ化物相の存在しない領域に描ける最大内接円の直径が30μm以下であることを特徴とするFe−Co−B系合金ターゲット材である。また、原子比における組成式が(FeXCo100−X)100−YBY、5≦X≦95、5≦Y≦30である前記のFe−Co−B系合金ターゲット材である。
【選択図】 図1
Description
そして、2層記録媒体の軟磁性膜として、Fe−Co−B系合金の軟磁性膜を用いることが提案されている(例えば、特許文献1参照)。
また、近年ではTMR素子を用いたデバイスとしてMRAM等の開発が進んでいる。このようなTMR素子にFe−Co−B系合金軟磁性膜を用いることが提案されている(例えば、特許文献2参照)。
2.ホウ化物相
3.最大内接円
Claims (10)
- 断面ミクロ組織においてホウ化物相の存在しない領域に描ける最大内接円の直径が30μm以下であることを特徴とするFe−Co−B系合金ターゲット材。
- 原子比における組成式が(FeXCo100−X)100−YBY、5≦X≦95、5≦Y≦30であることを特徴とする請求項1に記載のFe−Co−B系合金ターゲット材。
- Bを含有するアトマイズ粉末の焼結体であることを特徴とする請求項1もしくは2に記載のFe−Co−B系合金ターゲット材。
- Fe−Co−B系合金アトマイズ粉末の焼結体であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載のFe−Co−B系合金ターゲット材。
- Bを含有するアトマイズ粉末を焼結して作製することを特徴するFe−Co−B系合金ターゲット材の製造方法。
- Fe−Co−B系合金アトマイズ粉末を焼結して作製することを特徴する請求項5に記載のFe−Co−B系合金ターゲット材の製造方法。
- 熱間静水圧プレスを用いて作製することを特徴とする請求項5もしくは6に記載のFe−Co−B系合金ターゲット材の製造方法。
- 請求項1乃至4のいずれかに記載のFe−Co−B系合金ターゲット材で成膜したことを特徴とする軟磁性膜。
- 請求項1乃至4のいずれかに記載のFe−Co−B系合金ターゲット材で成膜した軟磁性膜を少なくとも1層以上用いたことを特徴とする磁気記録媒体。
- 請求項1乃至4のいずれかに記載のFe−Co−B系合金ターゲット材で成膜した軟磁性膜を少なくとも1層以上用いたことを特徴とするTMR素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004100406A JP4016399B2 (ja) | 2003-04-30 | 2004-03-30 | Fe−Co−B合金ターゲット材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003125914 | 2003-04-30 | ||
JP2004100406A JP4016399B2 (ja) | 2003-04-30 | 2004-03-30 | Fe−Co−B合金ターゲット材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004346423A true JP2004346423A (ja) | 2004-12-09 |
JP4016399B2 JP4016399B2 (ja) | 2007-12-05 |
Family
ID=33543428
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004100406A Expired - Fee Related JP4016399B2 (ja) | 2003-04-30 | 2004-03-30 | Fe−Co−B合金ターゲット材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4016399B2 (ja) |
Cited By (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008127591A (ja) * | 2006-11-17 | 2008-06-05 | Sanyo Special Steel Co Ltd | Co−B系ターゲット材およびその製造方法 |
JP2008260969A (ja) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Hitachi Metals Ltd | Fe−Co系合金スパッタリングターゲット材およびFe−Co系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 |
JP2009068100A (ja) * | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金およびターゲット材 |
JP2010018884A (ja) * | 2008-06-12 | 2010-01-28 | Hitachi Metals Ltd | Fe−Co系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 |
US7780826B2 (en) | 2006-08-16 | 2010-08-24 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | Cr-doped FeCoB based target material and method for producing the same |
CN102211188A (zh) * | 2011-06-03 | 2011-10-12 | 厦门虹鹭钨钼工业有限公司 | 半导体及太阳能溅射靶材行业用钨钛合金靶材的制备方法 |
US8057650B2 (en) | 2006-11-13 | 2011-11-15 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | Soft magnetic FeCo based target material |
US8066825B2 (en) | 2006-11-17 | 2011-11-29 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | (CoFe)Zr/Nb/Ta/Hf based target material |
JP2012251244A (ja) * | 2012-07-30 | 2012-12-20 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材 |
JP2013011018A (ja) * | 2012-07-30 | 2013-01-17 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材 |
JP2013204067A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Nec Tokin Corp | 粉末及び球状粒子結合体とそれらの製造方法、粉末及び球状粒子結合体の混合粉末、その混合粉末を含む磁性ペースト、並びにその磁性ペーストを用いたインダクタ及び磁心材料 |
US8582252B2 (en) * | 2005-11-02 | 2013-11-12 | Seagate Technology Llc | Magnetic layer with grain refining agent |
WO2015080009A1 (ja) | 2013-11-28 | 2015-06-04 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
JP2015129332A (ja) * | 2014-01-08 | 2015-07-16 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
JP2015129331A (ja) * | 2014-01-08 | 2015-07-16 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
WO2016140113A1 (ja) * | 2015-03-04 | 2016-09-09 | Jx金属株式会社 | 磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
JP2017039994A (ja) * | 2015-08-21 | 2017-02-23 | Jx金属株式会社 | Fe−Co基合金スパッタリングターゲット |
WO2017047753A1 (ja) * | 2015-09-18 | 2017-03-23 | 山陽特殊製鋼株式会社 | スパッタリングターゲット材 |
KR20180054595A (ko) | 2015-09-18 | 2018-05-24 | 산요오도꾸슈세이꼬 가부시키가이샤 | 스퍼터링 타겟재 |
WO2020166380A1 (ja) * | 2019-02-13 | 2020-08-20 | 三井金属鉱業株式会社 | スパッタリングターゲット材 |
WO2020188987A1 (ja) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | Jx金属株式会社 | スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法 |
CN112371987A (zh) * | 2020-11-13 | 2021-02-19 | 河南东微电子材料有限公司 | 一种铁钴硼铬铝合金粉末的制备方法 |
WO2021141042A1 (ja) | 2020-01-06 | 2021-07-15 | 山陽特殊製鋼株式会社 | スパッタリングターゲット材の製造方法 |
WO2021162081A1 (ja) | 2020-02-13 | 2021-08-19 | 山陽特殊製鋼株式会社 | スパッタリングターゲット材及びその製造方法 |
-
2004
- 2004-03-30 JP JP2004100406A patent/JP4016399B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (43)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8582252B2 (en) * | 2005-11-02 | 2013-11-12 | Seagate Technology Llc | Magnetic layer with grain refining agent |
US9632149B2 (en) | 2005-11-02 | 2017-04-25 | Seagate Technology Llc | Magnetic layer with grain refining agent |
US7780826B2 (en) | 2006-08-16 | 2010-08-24 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | Cr-doped FeCoB based target material and method for producing the same |
US8057650B2 (en) | 2006-11-13 | 2011-11-15 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | Soft magnetic FeCo based target material |
JP2008127591A (ja) * | 2006-11-17 | 2008-06-05 | Sanyo Special Steel Co Ltd | Co−B系ターゲット材およびその製造方法 |
US8066825B2 (en) | 2006-11-17 | 2011-11-29 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | (CoFe)Zr/Nb/Ta/Hf based target material |
JP2008260969A (ja) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Hitachi Metals Ltd | Fe−Co系合金スパッタリングターゲット材およびFe−Co系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 |
JP2009068100A (ja) * | 2007-09-18 | 2009-04-02 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金およびターゲット材 |
JP2010018884A (ja) * | 2008-06-12 | 2010-01-28 | Hitachi Metals Ltd | Fe−Co系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 |
CN102211188A (zh) * | 2011-06-03 | 2011-10-12 | 厦门虹鹭钨钼工业有限公司 | 半导体及太阳能溅射靶材行业用钨钛合金靶材的制备方法 |
JP2013204067A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Nec Tokin Corp | 粉末及び球状粒子結合体とそれらの製造方法、粉末及び球状粒子結合体の混合粉末、その混合粉末を含む磁性ペースト、並びにその磁性ペーストを用いたインダクタ及び磁心材料 |
JP2013011018A (ja) * | 2012-07-30 | 2013-01-17 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材 |
JP2012251244A (ja) * | 2012-07-30 | 2012-12-20 | Sanyo Special Steel Co Ltd | 垂直磁気記録媒体における軟磁性膜層用合金ターゲット材 |
WO2015080009A1 (ja) | 2013-11-28 | 2015-06-04 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
KR20160075723A (ko) | 2013-11-28 | 2016-06-29 | 제이엑스금속주식회사 | 자성재 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법 |
JP6037415B2 (ja) * | 2013-11-28 | 2016-12-07 | Jx金属株式会社 | 磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
JPWO2015080009A1 (ja) * | 2013-11-28 | 2017-03-16 | Jx金属株式会社 | 磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
US10724134B2 (en) | 2013-11-28 | 2020-07-28 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Magnetic material sputtering target and method for producing same |
KR20180088491A (ko) | 2013-11-28 | 2018-08-03 | 제이엑스금속주식회사 | 자성재 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법 |
JP2015129331A (ja) * | 2014-01-08 | 2015-07-16 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
JP2015129332A (ja) * | 2014-01-08 | 2015-07-16 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
WO2016140113A1 (ja) * | 2015-03-04 | 2016-09-09 | Jx金属株式会社 | 磁性材スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
US10644230B2 (en) | 2015-03-04 | 2020-05-05 | Jx Nippon Mining & Metals Corporation | Magnetic material sputtering target and method for producing same |
KR20190136124A (ko) | 2015-03-04 | 2019-12-09 | 제이엑스금속주식회사 | 자성재 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법 |
JP2017039994A (ja) * | 2015-08-21 | 2017-02-23 | Jx金属株式会社 | Fe−Co基合金スパッタリングターゲット |
WO2017047753A1 (ja) * | 2015-09-18 | 2017-03-23 | 山陽特殊製鋼株式会社 | スパッタリングターゲット材 |
EP3351654A4 (en) * | 2015-09-18 | 2019-04-17 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | CATHODIC SPUTTER TARGET MATERIAL |
KR20180054596A (ko) | 2015-09-18 | 2018-05-24 | 산요오도꾸슈세이꼬 가부시키가이샤 | 스퍼터링 타겟재 |
KR20180054595A (ko) | 2015-09-18 | 2018-05-24 | 산요오도꾸슈세이꼬 가부시키가이샤 | 스퍼터링 타겟재 |
JP2017057477A (ja) * | 2015-09-18 | 2017-03-23 | 山陽特殊製鋼株式会社 | CoFeB系合金ターゲット材 |
US11377726B2 (en) | 2015-09-18 | 2022-07-05 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | Sputtering target material |
US10844476B2 (en) | 2015-09-18 | 2020-11-24 | Sanyo Special Steel Co., Ltd. | Sputtering target material |
WO2020166380A1 (ja) * | 2019-02-13 | 2020-08-20 | 三井金属鉱業株式会社 | スパッタリングターゲット材 |
JP7422095B2 (ja) | 2019-02-13 | 2024-01-25 | 三井金属鉱業株式会社 | スパッタリングターゲット材 |
CN113614281A (zh) * | 2019-03-20 | 2021-11-05 | Jx金属株式会社 | 溅射靶及溅射靶的制造方法 |
TWI732428B (zh) * | 2019-03-20 | 2021-07-01 | 日商Jx金屬股份有限公司 | 濺鍍靶及濺鍍靶之製造方法 |
JPWO2020188987A1 (ja) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | ||
WO2020188987A1 (ja) * | 2019-03-20 | 2020-09-24 | Jx金属株式会社 | スパッタリングターゲット及び、スパッタリングターゲットの製造方法 |
WO2021141042A1 (ja) | 2020-01-06 | 2021-07-15 | 山陽特殊製鋼株式会社 | スパッタリングターゲット材の製造方法 |
KR20220124147A (ko) | 2020-01-06 | 2022-09-13 | 산요오도꾸슈세이꼬 가부시키가이샤 | 스퍼터링 타겟재의 제조 방법 |
WO2021162081A1 (ja) | 2020-02-13 | 2021-08-19 | 山陽特殊製鋼株式会社 | スパッタリングターゲット材及びその製造方法 |
KR20220139876A (ko) | 2020-02-13 | 2022-10-17 | 산요오도꾸슈세이꼬 가부시키가이샤 | 스퍼터링 타겟재 및 그 제조 방법 |
CN112371987A (zh) * | 2020-11-13 | 2021-02-19 | 河南东微电子材料有限公司 | 一种铁钴硼铬铝合金粉末的制备方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4016399B2 (ja) | 2007-12-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4016399B2 (ja) | Fe−Co−B合金ターゲット材の製造方法 | |
JP2005320627A (ja) | Co合金ターゲット材の製造方法、Co合金ターゲット材および垂直磁気記録用軟磁性膜ならびに垂直磁気記録媒体 | |
US7381282B2 (en) | Co alloy target and its production method, soft magnetic film for perpendicular magnetic recording and perpendicular magnetic recording medium | |
US20080083616A1 (en) | Co-Fe-Zr BASED ALLOY SPUTTERING TARGET MATERIAL AND PROCESS FOR PRODUCTION THEREOF | |
JP5472688B2 (ja) | Fe−Co系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 | |
JP2008189996A (ja) | Co−Fe系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 | |
US20030228238A1 (en) | High-PTF sputtering targets and method of manufacturing | |
JP5359890B2 (ja) | 軟磁性膜形成用Fe−Co系合金スパッタリングターゲット材 | |
US7141208B2 (en) | Fe-Co-B alloy target and its production method, and soft magnetic film produced by using such target, and magnetic recording medium and TMR device | |
JP5370917B2 (ja) | Fe−Co−Ni系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 | |
JP2008115461A (ja) | Co−Fe−Zr系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 | |
JP2018188726A (ja) | スパッタリングターゲットおよびその製造方法 | |
JP2009191359A (ja) | Fe−Co−Zr系合金ターゲット材 | |
JP2008260970A (ja) | Co−Zr系合金焼結スパッタリングターゲット材およびその製造方法 | |
JP6094848B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体用Fe−Co系合金軟磁性膜の製造方法 | |
JP5403418B2 (ja) | Co−Fe−Ni系合金スパッタリングターゲット材の製造方法 | |
JP2023144067A (ja) | スパッタリングターゲット、グラニュラ膜および垂直磁気記録媒体 | |
JP2010024548A (ja) | 軟磁性膜形成用Fe−Co系合金スパッタリングターゲット材 | |
JP6581780B2 (ja) | スパッタ性に優れたNi系ターゲット材 | |
JP2009203537A (ja) | Co−Fe系合金スパッタリングターゲット材およびその製造方法 | |
JP3076141B2 (ja) | 磁性薄膜用ターゲット材とその製造方法、Fe−M−C軟磁性膜とその製造方法、およびこれを用いた磁気ヘッドならびに磁気記録再生装置 | |
KR900007666B1 (ko) | 자기헤드용 비정질 합금 | |
JP7157573B2 (ja) | 磁気記録媒体のシード層用Ni系合金 | |
JP6575775B2 (ja) | 軟磁性膜 | |
JP2006265656A (ja) | 軟磁性合金膜形成用Fe−Ni−Co系合金ターゲット材およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040917 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070509 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070518 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070713 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070824 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070906 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100928 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100928 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110928 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110928 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120928 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120928 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130928 Year of fee payment: 6 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |