JP2004302466A - 水平電界印加型液晶表示装置及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に形成されたゲートライン、共通ライン、データライン、薄膜トランジスタ、画素領域に形成されて共通ラインと接続される共通電極、薄膜トランジスタと接続されて画素領域に共通電極と水平電界を形成する画素電極、ゲートラインに含まれた少なくとも一つの導電層で形成されるゲートパッド、データラインに含まれた少なくとも一つの導電層で形成されるデータパッド、共通ラインに含まれた少なくとも一つの導電層で形成される共通パッド、ゲートパッド、データパッド及び共通パッドを露出させる保護膜を具備する薄膜トランジスタアレイ基板と、薄膜トランジスタアレイ基板と合着されてその間に液晶が満たされるようにするカラーフィルターアレイ基板と、薄膜トランジスタアレイ基板の露出したパッドと接続される導電性フィルムとを具備する。
【選択図】図5
Description
Claims (37)
- 基板上に形成されたゲートラインと、前記ゲートラインと平行に形成された共通ラインと、前記ゲートライン及び前記共通ラインとゲート絶縁膜を間に置いて交差して画素領域を決めるデータラインと、前記ゲートライン及び前記データラインの交差部に形成された薄膜トランジスタと、前記画素領域に形成されて、前記共通ラインと接続された共通電極と、前記薄膜トランジスタと接続され、前記画素領域に前記共通電極と水平電界を形成するように形成された画素電極と、前記ゲートラインに含まれた少なくとも一つの導電層で形成されたゲートパッドと、前記データラインに含まれた少なくとも一つの導電層で形成されたデータパッドと、前記共通ラインに含まれた少なくとも一つの導電層で形成された共通パッドと、前記ゲートパッド、前記データパッド、及び前記共通パッドを露出させる保護膜とを具備する薄膜トランジスタアレイ基板と、前記薄膜トランジスタアレイ基板と合着されて、その間に液晶が満たされるようにするカラーフィルターアレイ基板と、前記薄膜トランジスタアレイ基板の露出したパッドと接続された導電性フィルムとを具備することを特徴とする水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記ゲートライン及び前記共通ラインは、主導電層と、その主導電層の断線防止のための補助導電層とを具備することを特徴とする請求項1記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記ゲートパッド及び前記共通パッドは、前記主導電層と前記補助導電層を具備し、前記補助導電層は露出した構造を有することを特徴とする請求項2記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記ゲートパッド及び前記共通パッドは、前記補助導電層を具備することを特徴とする請求項2記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記主導電層は、低抵抗金属であるアルミニウム系金属、銅、モリブデン、クロム、タングステンの中から少なくとも一つの金属を含み、前記補助導電層は、チタンを含むことを特徴とする請求項2記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記データラインは、主導電層と、その主導電層の断線防止のための補助導電層を具備することを特徴とする請求項1記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記データパッドは、前記主導電層と前記補助導電層を具備し、前記補助導電層は露出した構造を有することを特徴とする請求項6記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記データパッドは、前記補助導電層を具備することを特徴とする請求項6記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記主導電層は、低抵抗金属であるアルミニウム系金属、銅、モリブデン、クロム、タングステンの中から少なくとも一つの金属を含み、前記補助導電層はチタンを含むことを特徴とする請求項6記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記基板のエッチング防止のためのエッチング防止層をさらに具備することを特徴とする請求項1記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記エッチング防止層は、フッ酸系エッチャントに対して強い透明オキサイド系物質を含むことを特徴とする請求項10記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記エッチング防止層は、TiO2及びAl2O3の中からいずれかを含むことを特徴とする請求項11記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記薄膜トランジスタは、前記ゲートラインと接続されたゲート電極と、前記データラインと接続されたソース電極と、前記ソース電極と対向されるドレーン電極と、前記ゲート電極と前記ゲート絶縁膜を間に置いて重畳されて、前記ソース電極及び前記ドレーン電極の間にチャンネル部を形成する半導体層を具備することを特徴とする請求項1記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記ドレーン電極と前記画素電極は、同一な導電層から構成されることを特徴とする請求項13記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記共通ラインの一部からなるストレージ下部電極と、前記ゲート絶縁膜上に前記ストレージ下部電極と重畳されるように形成され、前記画素電極と同一な導電層から構成されるストレージ上部電極を具備するストレージキャパシタをさらに具備することを特徴とする請求項13記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記半導体層は、前記データライン、前記ソース電極、前記ドレーン電極、前記画素電極、及び前記ストレージ上部電極に沿って前記ゲート絶縁膜上に形成されることを特徴とする請求項15記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記画素電極は、前記共通電極と並行するように形成されて前記共通電極と水平電界を成すフィンガー部と、前記フィンガー部と連結されて、前記ゲートラインと並行するように形成される水平部とを含むことを特徴とする請求項13記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記半導体層は、少なくとも前記画素電極のフィンガー部と同一な幅を持つように形成されることを特徴とする請求項17記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- 前記ゲートパッド、前記データパッド、前記共通パッド、及び前記画素電極を露出させる保護膜をさらに具備することを特徴とする請求項18記載の水平電界印加型液晶表示装置。
- ゲートラインとデータラインの交差部に形成された薄膜トランジスタと、その薄膜トランジスタと接続された画素電極、前記画素電極と水平電界を形成する共通電極、その共通電極と接続された共通ラインを含み、前記ゲートラインに含まれる少なくとも一つの導電層で形成されたゲートパッド、前記データラインに含まれる少なくとも一つの導電層で形成されたデータパッド、及び前記共通ラインに含まれる少なくとも一つの導電層で形成された共通パッドが保護膜を通じて露出した構造を持つ薄膜トランジスタアレイ基板を用意する段階と、前記薄膜トランジスタアレイ基板と対向するようにカラーフィルターアレイ基板を用意する段階と、前記薄膜トランジスタアレイ基板と前記カラーフィルターアレイ基板を合着する段階と、前記露出したゲートパッド、データパッド、及び共通パッドに導電性フィルムを接続させる段階とを含むことを特徴とする水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記薄膜トランジスタアレイ基板を用意する段階は、基板上に前記ゲートライン、そのゲートラインと接続された前記薄膜トランジスタのゲート電極、そのゲートラインと平行な前記共通ライン、前記共通電極、前記ゲートパッド、及び前記共通パッドを含む第1導電パターン群を形成する段階と、前記第1導電パターン群が形成された前記基板上にゲート絶縁膜を形成する段階と、前記データライン、そのデータラインと接続された前記薄膜トランジスタのソース電極、そのソース電極と対向される前記薄膜トランジスタのドレーン電極、そのドレーン電極と接続され、前記共通電極と平行な画素電極、及び前記データパッドを含む第2導電パターン群と、前記薄膜トランジスタのチャンネルを含み、前記第2導電パターン群に沿う半導体層を形成する段階と、前記半導体層及び前記第2導電パターン群が積層された前記ゲート絶縁膜上に前記ゲートパッド、前記データパッド、及び前記共通パッドを露出させる保護膜を形成する段階とを含むことを特徴とする請求項20記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記第1及び第2導電パターン群の中から少なくともいずれかは、主導電層と、その主導電層の断線防止のための補助導電層の二層構造で形成されることを特徴とする請求項21記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記保護膜を形成する段階は、前記ゲートパッド及び前記共通パッドの補助導電層を露出させる段階を含むことを特徴とする請求項22記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記保護膜を形成する段階は、前記保護膜及び前記ゲート絶縁膜を貫くコンタクトホールを形成し、前記ゲートパッド及び前記共通パッドの補助導電層を露出させる段階を含むことを特徴とする請求項22記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記保護膜を形成する段階は、前記保護膜、前記ゲート絶縁膜、前記ゲートパッド及び前記共通パッドの主導電層を貫くコンタクトホールを形成し、前記ゲートパッド及び前記共通パッドの補助導電層を露出させる段階を含むことを特徴とする請求項22記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記保護膜を形成する段階は、前記データパッドの補助導電層を露出させる段階を含むことを特徴とする請求項22記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記保護膜を形成する段階は、前記保護膜を貫くコンタクトホールを形成し、前記データパッドの補助導電層を露出させる段階を含むことを特徴とする請求項22記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記保護膜を形成する段階は、前記保護膜と前記データパッドの主導電層を貫くコンタクトホールを形成し、前記データパッドの補助導電層を露出させる段階を含むことを特徴とする請求項22記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記主導電層は、低抵抗金属であるアルミニウム系金属、銅、モリブデン、クロム、タングステンの中から少なくとも一つの金属を含み、前記補助導電層は、チタンを含むことを特徴とする請求項22記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記第2導電パターン群を形成する段階は、前記共通ラインと前記ゲート絶縁膜を間に置いて重畳されるストレージ上部電極を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項20記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記薄膜トランジスタアレイ基板を用意する段階は、基板を用意する段階と、前記基板上に前記エッチング防止層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項20記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記エッチング防止層は、フッ酸系エッチャントに対して強い透明オキサイド系物質を含むことを特徴とする請求項31記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記エッチング防止層は、TiO2及びAl2O3の中からいずれかを含むことを特徴とする請求項32記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記薄膜トランジスタアレイ基板を用意する段階は、基板上に前記ゲートライン、そのゲートラインと接続された前記薄膜トランジスタのゲート電極、そのゲートラインと平行な前記共通ライン、前記共通電極、前記ゲートパッド、及び前記共通パッドを含む第1導電パターン群を形成する段階と、前記第1導電パターン群が形成された前記基板上にゲート絶縁膜を形成する段階と、前記データライン、そのデータラインと接続された前記薄膜トランジスタのソース電極、そのソース電極と対向される前記薄膜トランジスタのドレーン電極、そのドレーン電極に含まれる少なくとも一つの導電層で形成されて、前記共通電極と水平電界を成すフィンガー部を持つ画素電極、前記データパッドを含む第2導電パターン群と、前記薄膜トランジスタのチャンネル部を形成し、前記画素電極と重畳される半導体層を形成する段階と、前記半導体層及び前記第2導電パターン群を覆うように前記ゲート絶縁膜上に保護膜を形成する段階と、少なくとも前記画素電極のフィンガー部において、前記画素電極と同一な幅を持つように前記半導体層をパターニングする段階とを含むことを特徴とする請求項20記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記保護膜を形成する段階は、前記保護膜を貫くコンタクトホールを形成して前記データパッドの補助導電層を露出させることと同時に、前記保護膜及び前記ゲート絶縁膜を貫く貫通ホールを形成して前記画素電極の補助導電層及び前記画素電極と重畳される半導体層を露出させる段階を含むことを特徴とする請求項34記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記保護膜を形成する段階は、前記保護膜と前記主導電層を貫くコンタクトホールを形成して前記データパッドの補助導電層を露出させることと同時に、前記保護膜及び前記ゲート絶縁膜と前記主導電層を貫く貫通ホールを形成して前記画素電極の補助導電層及び前記画素電極と重畳される半導体層を露出させる段階を含むことを特徴とする請求項34記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
- 前記半導体層をパターニングする段階は、前記画素電極をマスクとして前記半導体層を乾式エッチングする段階を含むことを特徴とする請求項34記載の水平電界印加型液晶表示装置の製造方法。
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