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  1. a)少なくとも1種のコオレフィンおよび下記一般式 I、II、III または IV で示される化合物からなる群から選択される少なくとも1種の化合物の存在下で、ニトリルゴムを反応させ:
    Figure 2004300444
    〔式中、
    Mは、OsまたはRuであり、
    RおよびR1は、独立に、水素、またはC2〜C20アルケニル、C2〜C20アルキニル、C1〜C20アルキル、アリール、C1〜C20カルボキシレート、C1〜C20アルコキシ、C2〜C20アルケニルオキシ、C2〜C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、C1〜C20アルキルチオ、C1〜C20アルキルスルホニルおよびC1〜C20アルキルスルフィニルからなる群から選ばれる炭化水素であり、
    XおよびX1は、独立に、アニオン配位子であり、
    LおよびL1は、独立に、電気中性配位子であり、任意にLおよびL1は、相互に連結して、電気中性の二座配位子を形成し得る。〕;
    Figure 2004300444
    〔式中、
    1は、OsまたはRuであり、
    2およびR3は、独立に、水素、またはC2〜C20アルケニル、C2〜C20アルキニル、C1〜C20アルキル、アリール、C1〜C20カルボキシレート、C1〜C20アルコキシ、C2〜C20アルケニルオキシ、C2〜C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、C1〜C20アルキルチオ、C1〜C20アルキルスルホニルおよびC1〜C20アルキルスルフィニルからなる群から選ばれる炭化水素であり、
    2は、アニオン配位子であり、
    2は、電気中性単環または多環π結合配位子であり、
    3は、ホスフィン、スルホン化ホスフィン、フッ素化ホスフィン、3つまでのアミノアルキル基、アンモニウムアルキル基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニルアルキル基、ヒドロキシカルボニルアルキル基、ヒドロキシアルキル基またはケトアルキル基を有する官能化ホスフィン、ホスファイト、ホスフィナイト、ホスホナイト、ホスフィンアミン、アルシン、スチベン、エーテル、アミン、アミド、イミン、スルホキシド、チオエーテルおよびピリジンからなる群から選ばれる配位子であり、
    -は、非配位アニオンであり、
    nは、0〜5の範囲の整数である。〕;
    Figure 2004300444
    〔式中、
    2は、MoまたはWであり、
    4およびR5は、独立に、水素、またはC2〜C20アルケニル、C2〜C20アルキニル、C1〜C20アルキル、アリール、C1〜C20カルボキシレート、C1〜C20アルコキシ、C2〜C20アルケニルオキシ、C2〜C20アルキニルオキシ、アリールオキシ、C2〜C20アルコキシカルボニル、C1〜C20アルキルチオ、C1〜C20アルキルスルホニルおよびC1〜C20アルキルスルフィニルからなる群から選ばれる炭化水素であり、
    6およびR7は、独立に、未置換またはハロ置換のアルキル、アリール、アラルキル基またはそのケイ素含有類似体から選ばれる。〕;
    Figure 2004300444
    〔式中、
    Mは、OsまたはRuであり、
    RおよびR1は、独立に、水素、置換または未置換アルキル、および置換または未置換アルキルからなる群から選ばれ、
    XおよびX1は、独立に、アニオン配位子であり、
    LおよびL1は、独立に、電気中性配位子であり、任意にLおよびL1は、相互に連結して、電気中性の二座配位子を形成し得る。〕、
    b)工程a)の生成物を水素化する
    ことを含んでなる、水素化ニトリルゴムの製造方法。
  2. 水素化を均一触媒条件で行う請求項1に記載の製造方法。
  3. 均一接触還元をその場(in situ)で行う請求項2に記載の製造方法。
  4. 工程b)の前または工程b)中に付加的な水素化触媒を添加しない請求項1に記載の製造方法。
  5. メタセシス触媒は式Iで示される化合物である請求項1に記載の製造方法。
  6. LおよびL1はトリアルキルホスフィンであり、XおよびX1は塩素イオンであり、Mはルテニウムである請求項5に記載の製造方法。
  7. 該化合物対ニトリルゴムの比は0.005〜5の範囲にある請求項1に記載の製造方法。
  8. コオレフィンはC2〜C16直鎖または分枝オレフィンである請求項1に記載の製造方法。
  9. コオレフィンは液体であり、使用されるコオレフィンの量は1〜200質量の範囲である請求項1に記載の製造方法。
  10. コオレフィンは気体であり、使用されるコオレフィンの量は、1×105Pa〜1×107Paの範囲の反応容器圧力が生ずるような量である請求項1に記載の製造方法。
  11. モノクロロベンゼン、ジクロロメタン、ベンゼン、トルエン、テトラヒドロフランおよびシクロヘキサンからなる群から選択される不活性溶媒中で行う請求項1に記載の製造方法。
  12. 水素化を、(PPh3)3RhClの存在下に行う請求項1に記載の製造方法。
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