JP2001513528A5

JP2001513528A5 -

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Publication number: JP2001513528A5
Application number: JP2000507207A
Authority: JP
Filing date: 1998-08-04
Publication date: 2006-01-05

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】１，３−ブタジエンまたは１，３−ブタジエンを含む炭化水素混合物を、式Ｉ
【化１】

[式I中、
Ｒ¹は式ＰＬ₂ で表わされる基（Ｌはアルキル、シクロアルキル、アリールであり、同じであっても異なっていてもよい）を意味し、
Ｒ^1´は水素、アルキル、または式ＰＬ₂ で表わされる基（Ｌは上に示したのと同じ意味である）を意味し、
Ｒ²、Ｒ^2´、Ｒ³、Ｒ^3´、Ｒ⁴、Ｒ^4´、Ｒ⁵、Ｒ^5´は、相互に関係なく、水素、シクロアルキル、アリール、またはアルキル｛これらは分子の途中に酸素を含んでもよく、式ＮＥ¹Ｅ² で表わされる基（Ｅ¹およびＥ²はアルキル、シクロアルキルまたはアリールであり、同じであっても異なっていてもよい）によって置換されていてもよい｝から選択した基を意味し、
あるいは、それぞれの場合において、隣同士の位置に在る置換基Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵ かつ／もしくはＲ^2´、Ｒ^3´、Ｒ^4´、Ｒ^5´がそれらと結合しているシクロペンタジエニル環の一部とともに、芳香族あるいは非芳香族の、５ないし７員環である炭素環類あるいはＯ、ＮあるいはＳから選択した１、２あるいは３個のヘテロ原子を含むヘテロ環類を形成し、
Ｍは、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｒｈ、Ｍｎ、ＣｒまたはＶを意味する。]で表わされる少なくとも１種の単座配位あるいは二座配位のメタロセン−燐（ＩＩＩ）あるいはこれらの塩または混合物を配位子として含む少なくとも１種のメタロセン−燐（ＩＩＩ）−ニッケル（０）錯体を含む触媒の存在下で、接触的にヒドロシアン化することにより、非共役のＣ＝ＣおよびＣ≡Ｎ結合を持つモノオレフィン性Ｃ₅モノニトリルの混合物を合成する方法。
【請求項２】式I中のＭがＦｅである場合の触媒を使用する、請求項１の方法。
【請求項３】式I中の
Ｒ¹が、基ＰＬ₂（このＬはフェニルである）を意味し、
Ｒ^1´が、水素、あるいは基ＰＬ₂（このＬはフェニルである）を意味し、
Ｒ²、Ｒ^2´、Ｒ³、Ｒ^3´、Ｒ⁴、Ｒ^4´、Ｒ⁵、Ｒ^5´の中の１個、ことにＲ¹もしくはＲ^1´に対してα−位に在る１個が、水素、あるいは分子の途中に酸素を含んでもよくまたは基ＮＥ¹Ｅ²（これらＥ¹、Ｅ²は、それぞれアルキルであり、相互に同じでも異なってもよい）により置換されていてもよいアルキルを意味し、他のＲ²、Ｒ^2´、Ｒ³、Ｒ^3´、Ｒ⁴、Ｒ^4´、Ｒ⁵、Ｒ^5´が相互に関係なく、それぞれ、水素またはアルキルを意味する場合の触媒を使用する、請求項１または２の方法。
【請求項４】式Ｉの配位子のほかに、ハロゲン化物、アミン、カルボキシラート、アセチルアセトナート、アリール−もしくはアルキルスルホナート、ヒドリド、ＣＯ、オレフィン、ジエン、シクロオレフィン、ニトリル、Ｎ−含有ヘテロ環、芳香族環およびヘテロ芳香族環、エーテル、ＰＦ₃、単座、二座さらに多座配位のホスフィン、ホスフィナイト、ホスホナイト、および亜燐酸塩配位子の中から選定される少なくとも一種類の他の配位子を有する触媒を使用する、請求項１〜３のいずれか１項の方法。
【請求項５】式Ｉのメタロセン−燐（ＩＩＩ）配位子として、１，１´−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセン、１，１´−ビス（ジイソプロピルホスフィノ）フェロセン、１，１´−ビス（ジシクロヘキシルホスフィノ）フェロセンのいずれかを使用する、請求項１〜４のいずれか１項の方法。
【請求項６】少なくとも１０容量％、好ましくは少なくとも２５容量％、ことに少なくとも４０容量％の１，３−ブタジエン分を含有する炭化水素混合物を使用する、請求項１〜５のいずれか１項の方法。
【請求項７】１，３−ブタジエン含有炭化水素混合物として、石油精製からもたらされるＣ₄留分を使用する、請求項１〜６のいずれか１項の方法。
【請求項８】（ａ）反応器に、上記炭化水素混合物を装填し、シアン化水素の一部および場合によりその場で形成された触媒を装填しまたは装填せず、溶媒を装填しまたは装填せず、
（ｂ）上記混合物を、加熱、加圧下に、その消費速度で給送されるシアン化水素と反応させ、かつ
（ｃ）後続反応により転化を完結させ、場合により次いで後処理する、
ことにより、ヒドロシアン化を半連続的に行なう、請求項１〜７のいずれか１項の方法。
【請求項９】請求項８の方法における工程（ａ）において、シアン化水素の全量を存在させて、ヒドロシアン化をバッチ式で行なう、請求項１から７のいずれか１項の方法。
【請求項１０】ヒドロシアン化を、０から２００℃、好ましくは５０から１５０℃、ことに７０から１２０℃の温度で行なう、請求項１〜９のいずれか１項の方法。
【請求項１１】ヒドロシアン化を、１×１０⁵から２×１０⁷パスカル（１から２００バール）、好ましくは１×１０⁵から１×１０⁷パスカル（１から１００バール）、ことに１×１０⁵から５×１０⁶パスカル（１から５０バール）、なかんずく１×１０⁵から１６×１０⁵パスカル（１から１６バール）の圧力で行なう、請求項１〜１０のいずれか１項の方法。
【請求項１２】反応におけるシアン化水素の転化率が、少なくとも９５％、好ましくは少なくとも９７％、ことに少なくとも９９％である、請求項１〜１１のいずれか１項の方法。
【請求項１３】生成混合物が、ペンテノニトリルおよびメチルブテノニトリルの異性体を含有する、請求項１〜１２のいずれか１項の方法。
【請求項１４】３−ペンテノニトリルの、２−メチル−３−ブテノニトリルに対する量割合が、少なくとも５：１、好ましくは少なくとも１０：１、ことに少なくとも２０：１である、請求項１３の方法。
【請求項１５】上記触媒が、１，３−ブタジエンのヒドロシアン化のほかに、さらにモノオレフィン性Ｃ₅モノニトリルの位置および二重結合の異性化のためにも使用される、請求項１〜１４のいずれか１項の方法。
【請求項１６】請求項１から１４の方法で製造されたＣ₅モノニトリル混合物を、場合によりさらに後処理かつ／もしくは異性化した後に、接触的にヒドロシアン化することにより、アジポニトリルを製造する方法。
【請求項１７】アジポニトリルを製造するための１，３−ブタジエンまたは１，３−ブタジエン含有炭化水素混合物のヒドロシアン化を、Ｃ₅モノニトリルを別途に後処理または異性化することなく、単一工程で行なう、請求項１６の方法。
【請求項１８】式Ｉの配位子を含有する触媒を、オレフィンをヒドロシアン化するために使用する方法。
【請求項１９】式Ｉの配位子を含有する触媒を、モノオレフィン性Ｃ₅モノニトリルのヒドロシアン化かつ／もしくは位置および二重結合の異性化のために使用する方法。