JP7433237B2 - 水素化触媒組成物及びニトリルゴムの水素化のためのその使用 - Google Patents

Description

本発明は、金属ベースの錯体水素化触媒を特定の助触媒と反応させることから得ることができる新規な水素化触媒組成物と、そのような新規な水素化触媒組成物の存在下でニトリルゴムを選択的に水素化するための方法とに関する。

「アクリロニトリル－ブタジエンゴム」又は「ニトリルゴム」（略して「ＮＢＲ」とも呼ばれる）という用語は、広く解釈されるべきであり、少なくとも１つのα，β－不飽和ニトリル、少なくとも１つの共役ジエン及び必要に応じて１つ又は複数のさらなる共重合性モノマーのコポリマー又はターポリマーであるゴムを指す。

水素化ＮＢＲ（略して「ＨＮＢＲ」とも呼ばれる）は、ＮＢＲを水素化することによって商業的に製造される。したがって、ジエンベースのポリマー中の炭素－炭素二重結合の選択的水素化は、そのポリマー鎖中のニトリル基及び他の官能基（例えば、そのポリマー鎖中に他の共重合性モノマーが導入された場合のカルボキシル基）に悪影響が出ないように実施されなければならない。

ＨＮＢＲは、特殊ゴムであり、極めて良好な耐熱性、優れた耐オゾン性及び耐薬品性、さらに優れた耐油性を有する。上述のＨＮＢＲの物理的及び化学的性質は、極めて良好な機械的性質、特に高い耐摩耗性と組み合わされている。この理由から、ＨＮＢＲは、各種の用途において幅広く使用されてきた。ＨＮＢＲは、例えば、自動車分野におけるシーリング材、ホース、ベルト及び緩衝要素、さらに原油探索分野におけるステーター、油井シール材及びバルブシール材並びに飛行機産業、電子産業、機械工学及び造船における多くの部品に使用されている。水素化の転化率が９５％を超える、すなわち残存二重結合（ＲＤＢ）含量が５％未満であり、水素化反応中に架橋することなく、且つ得られるＨＮＢＲ中のゲルレベルが約２．５％未満であることは、これらの領域においてＨＮＢＲが高性能な応用を確保し、最終製品の優れた加工性を保証するための限界値である。

ＨＮＢＲ中の共重合されたジエン単位の水素化度は、５０～１００％の範囲で変化させることができるが、しかし、望まれる水素化度は、約８０～約１００％、好ましくは約９０～約９９．９％である。ＨＮＢＲの市販グレードは、典型的には、１８％未満の不飽和度が残り、アクリロニトリルの含量がおよそ約５０％までである。

均一系又は不均一系いずれかの水素化触媒を使用して、ＮＢＲの水素化を実施することができる。使用される触媒は、通常、ロジウム、ルテニウム又はパラジウムをベースとするものであるが、白金、イリジウム、レニウム、オスミウム、コバルト若しくは銅を金属として又は好ましくは金属化合物の形態として使用することも可能である（例えば、（特許文献１）を参照されたい）。均一相における水素化のために好適な触媒及び溶媒も公知である。

また、商業的な目的では、ＮＢＲの水素化によるＨＮＢＲの製造は、多くの場合、ロジウム又はパラジウムをベースとする不均一系又は均一系のいずれかの遷移金属触媒を使用することにより、有機溶媒中で実施される。そのようなプロセスでは、例えば、触媒金属が高価であり、且つ触媒金属の除去／リサイクルに含まれるコストがかかるといった欠点がある。この理由から、より安価な貴金属、例えばオスミウム及びルテニウムをベースとする代替触媒の研究開発が行われてきた。

Ｒｕベースの錯体は、ポリマー溶液水素化のための良好な触媒でもあり、且つＲｕ金属の価格は、さらにより安価である。Ｒｕ－ＰＰｈ_３錯体及びＲｕＨＣｌ（ＣＯ）Ｌ_２（Ｌは、嵩高いホスフィンである）触媒系は、（非特許文献１）に開示されているようにＮＢＲの定量的な水素化をもたらす。そのような水素化の間、触媒活性を維持するために遊離ホスフィン配位子を添加することは、必要ではない。しかしながら、それらは、ゲル形成の傾向があり、水素化の間にある程度の架橋を引き起こし得る。

しかしながら、これらの上述のＲｕ又はＯｓ触媒は、水素化のみに対して活性な触媒であり、メタセシス反応に対して活性でない。そのため、これらのタイプのＲｕ又はＯｓ触媒は、低下した分子量のＮＢＲを製造するためのＮＢＲメタセシス／分解のために使用することができない。

ＨＮＢＲ製造の別の問題は、市販されているＮＢＲの直接水素化によって低いムーニー粘度のＨＮＢＲを製造するのが困難であることである。比較的高いムーニー粘度は、ＨＮＢＲの加工性に制限を加える。多くの用途は、理想的には、より低い分子量及びより低いムーニー粘度のＨＮＢＲ銘柄を使用するであろう。これは、加工性の決定的な改善を与えるであろう。

長い間、確立された直接ＮＢＲ水素化プロセスにより、５５未満の範囲のムーニー粘度（ＭＬ１＋４＠１００℃）に対応する低いモル質量を有するか、又は約２００，０００ｇ／ｍｏｌ未満の重量平均分子量ＭｗのＨＮＢＲを大規模に製造することは、主として２つの理由で可能でなかった：まず、実質的に増加したムーニー粘度のＨＮＢＲポリマーが得られることを意味するムーニー粘度の激増がＮＢＲの水素化中に起こる。ムーニー増加率（ＭＩＲ）は、一般に、ＮＢＲ銘柄、水素化レベル及びＮＢＲ供給原料の性質に依存して約２であるか又はさらにそれを超える。このように、市販のＨＮＢＲのムーニー粘度範囲は、ＮＢＲ出発原料のムーニー粘度の下限によって制限される。第二に、ゴムが余りにも粘着性になるため、利用可能なＮＢＲ工業プラントでの他のワークアップがもはや可能ではないことから、水素化のために使用されるＮＢＲ供給原料のモル質量は、意図的に低下させることができない。確立された工業プラントで困難なくワークアップすることができるＮＢＲ供給原料の最低のムーニー粘度は、約３０ムーニー単位（ＭＬ１＋４＠１００℃）の範囲である。そのようなＮＢＲ供給原料を使用して得られる水素化ニトリルゴムのムーニー粘度は、５５ムーニー粘度（ＭＬ１＋４＠１００℃）ほどである。ムーニー粘度は、ＡＳＴＭ標準Ｄ １６４６に従って測定される。

より最近の先行技術において、この問題は、３０ムーニー単位未満のムーニー粘度（ＭＬ１＋４＠１００℃）又は２００，０００ｇ／ｍｏｌ未満の重量平均分子量Ｍｗまで分解によって水素化前のニトリルゴムの分子量を低下させることによって解決されている。この分子量の低下は、メタセシス触媒の存在下でのＮＢＲのメタセシスによって達成される。例えば、（特許文献２）及び（特許文献３）は、オレフィンメタセシスによるニトリルゴム出発ポリマーの分解及びその後の水素化を含むプロセスを記載している。ニトリルゴムは、コオレフィン及びオスミウム、ルテニウム、モリブデン又はタングステン錯体をベースとする特定の触媒の存在下で、第１の工程において反応され、第２の工程において水素化される。得られた水素化ニトリルゴムは、３０，０００～２５０，０００ｇ／ｍｏｌの範囲の重量平均分子量（Ｍｗ）、３～５０ＭＵの範囲のムーニー粘度（ＭＬ１＋４＠１００℃）及び２．５未満の多分散指数ＰＤＩを有し得る。このメタセシス反応は、有利には、分解反応が完了した後、分解されたニトリルゴムが溶媒から必ずしも単離される必要がないように、その後の水素化と同じ溶媒中で実施される。例えば、Ｇｒｕｂｂｓ Ｉ（ベンジリデンビス（トリシクロヘキシルホスフィン）ジクロロルテニウム）、Ｇｒｕｂｂｓ ＩＩ（ベンジリデン［１，３－ビス（２，４，６－トリメチルフェニル）－２－イミダゾリジニリデン］トリシクロヘキシルホスフィンジクロロルテニウム）、Ｇｒｕｂｂｓ ＩＩＩ（ベンジリデン［１，３－ビス（２，４，６－トリメチルフェニル）－２－イミダゾリジニリデン］ジクロロ－ビス（３－ブロモピリジン）ルテニウム）、Ｈｏｖｅｙｄａ－Ｇｒｕｂｂｓ ＩＩ（［１，３－ビス（２，４，６－トリメチルフェニル）－２－イミダゾリジニリデン］ジクロロ（ｏ－イソプロポキシフェニルメチレン）ルテニウム）などの多数のＲｕベースのメタセシス触媒（例えば、（特許文献４）を参照されたい）及び多数のフルオレニリデンベースの錯体触媒（例えば、（特許文献５）を参照されたい）がニトリルゴムのメタセシスに関して周知である。

さらなる参考文献には、ビニル化合物を用いるメタセシス反応のクエンチングが記載されている：多数の特許出願、例えば（特許文献６）及び（特許文献７）は、メタセシス反応によるニトリルゴムの分子量低下について言及しており、メタセシス触媒を破壊するためにメタセシス反応後にエチルビニルエーテルで反応混合物が処理される実験を含んでいる。エチルビニルエーテル対使用されたメタセシス触媒のモル比は、触媒の失活によってメタセシス反応を効率的に停止させるために非常に高い。前述の出願において、そのようなモル比は、５６７：１～１７，０００超：１の範囲である。それらの特許出願のいずれも、失活試薬対メタセシス触媒のより低い比を選択することにより、選択的水素化、すなわちメタセシス分解を触媒し続けることがない選択的水素化に非常に適した触媒組成物が得られるといういかなる開示も示唆も提供していない。

（非特許文献２）には、オレフィンメタセシスに関するルテニウムベースの触媒の機構が開示されている。さらに、ルテニウムカルベンとエチルビニルエーテルとの反応が開環メタセシス重合をクエンチするための方法として利用できることが記載されている。以下のスキームに示されるように、いわゆるフィッシャー－カルベン錯体が構築されると報告されている。

こうして、触媒の触媒活性は、エチルビニルエーテルで停止される。錯体触媒対助触媒のモル比は、１：（１５～６０）であった。

いくつかのルテニウムベースのメタセシス触媒は、不飽和基質の水素化のためにも使用できることが知られている（非特許文献３）。しかしながら、ＮＢＲがこれらのタイプの触媒を使用して水素化される場合、最終ＨＮＢＲの分子量は、ポリブタジエン単位の極端な鎖分解のために劇的に低下する。したがって、このプロセス後、低い分子量のＨＮＢＲのみを得ることができる。一方、このプロセスでは水素化速度が遅い。

ルテニウムベースのメタセシス触媒がＮＢＲ水素化のために直接使用される場合、通常、触媒のメタセシス活性のために低い分子量のＨＮＢＲのみを得ることができる。高い分子量のＨＮＢＲを得るために、触媒のメタセシス活性を抑えるか又は停止させ、且つそれらの水素化活性を高めるための方法を探索することが望ましい。エチルビニルエーテル（ＥＶＥ）は、周知のメタセシス停止剤である。メタセシス停止工程後の水素化は、追加の水素化触媒（Ｐｄ、Ｒｈ又はＲｕベース、例えば（特許文献８））の添加によって実現されていた。

（特許文献９）は、オレフィンメタセシス反応における触媒成分として有用である金属錯体を開示している。しかしながら、水素化のための錯体触媒の使用又はメタセシス反応の抑制のための助触媒の使用は、開示されていない。

（特許文献１０）及び（特許文献１１）は、Ｇｒｕｂｂｓ Ｉ、Ｇｒｕｂｂｓ ＩＩ、Ｇｒｕｂｂｓ ＩＩＩ、Ｈｏｖｅｙｄａ－Ｇｒｕｂｂｓ又はＺｈａｎ－ＩＢなどのルテニウム又はオスミウムベースの錯体触媒と、エチルビニルエーテルなどの特定の助触媒とをベースとする触媒組成物及びそのような触媒組成物の存在下でニトリルゴムを選択的に水素化するための方法を開示している。実施例は、メタセシス触媒を特定の助触媒と接触させることによって得られる触媒組成物であって、助触媒との触媒のそのような接触又は前処理が、水素の添加前の反応混合物において、メタセシス反応から切り離して又はメタセシス反応後にその場でのいずれかで行われる触媒組成物の存在下でのＮＢＲの水素化によって、ＨＮＢＲが調製できることを示している。触媒のメタセシス活性は、触媒を助触媒と接触させ、それにより、その発明による触媒組成物を調製することによって制御される。こうして、その発明による触媒組成物を使用する水素化によって得られるＨＮＢＲの分子量は、元のＮＢＲ供給原料に匹敵する。

しかしながら、このコンセプトが、異なる配位子構造を有する他の錯体触媒に当てはまるかどうかは、未知である。

典型的な商業生産プロセスでは、別個の水素化触媒がＮＢＲメタセシス工程後のＮＢＲ水素化のための反応系に添加される。このようにして、制御された分子量のＨＮＢＲを製造することができるが、２つの触媒（メタセシスのための１つ及び水素化のための１つ）が高い反応効率を達成するために必要とされる。

米国特許出願公開第Ａ－３，７００，６３７号明細書 国際公開第Ａ－０２／１００９０５号パンフレット 国際公開第Ａ－０２／１００９４１号パンフレット 米国特許出願公開第Ａ－２００８／００６４８８２号明細書 米国特許出願公開第Ａ－２００９／００７６２２６号明細書 欧州特許第２６７０７８２号明細書 欧州特許第２６０３５３３号明細書 米国特許第７，４７０，７５０号明細書 国際公開第Ａ－０３／０６２２５３号パンフレット 国際公開第Ａ－１３０５７２８９号パンフレット 国際公開第Ａ－１３０５７２９５号パンフレット

Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ Ａ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ，１９９７，１２６（２－３），１１５－１３１ Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００１，１２３，６５４３－５４ Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃ，２００１，２０（２６），５４９５－５４９７

したがって、低い触媒濃度及び短い水素化時間でニトリルゴムの選択的な水素化を可能にする改良された水素化触媒組成物を提供することが本発明の目的であった。

本発明は、錯体水素化触媒を少なくとも１つの助触媒と１：（２０～５５０）の範囲の錯体水素化触媒対助触媒のモル比で接触させることによって得ることができる新規な水素化触媒組成物に関する。

本発明は、さらにまた、ニトリルゴムを水素化する方法であって、
ａ）本発明による水素化触媒組成物を、錯体水素化触媒を少なくとも１つの助触媒と１：（２０～５５０）の範囲の錯体水素化触媒対助触媒のモル比で接触させることによって調製する工程と、その後、
ｂ）新規な前記水素化触媒組成物の存在下において水素でニトリルゴムを水素化する工程と
を含む方法に関する。

本発明の特定の実施形態は、最初に、コオレフィンの不在又は存在下でニトリルゴムを錯体水素化触媒と接触させることによるメタセシス反応における分子量低下に、ニトリルゴムをかける工程と、その後、
ａ）本発明による水素化触媒組成物を、メタセシス反応後の反応混合物中に存在する錯体水素化触媒を少なくとも１つの助触媒と１：（２０～５５０）の範囲の錯体水素化触媒対助触媒のモル比で接触させることによって形成する工程と、その後、
ｂ）新規な前記水素化触媒組成物の存在下において水素でニトリルゴムを水素化する工程と
を含む代替的な方法に関する。

本方法は、有利には、最初に、メタセシス錯体水素化触媒を助触媒で処理することによって得られた水素化触媒組成物が使用される場合、ニトリルゴムの同時メタセシス分解なしにニトリルゴムの水素化を行うことが可能になる。そのため、本方法により、制御された方法、すなわち商業的に魅力的な方法で注文通りの分子量の水素化ニトリルゴムの形成下でのニトリルゴムの水素化が可能になる。水素化中にニトリルゴムの分子量を一定に保つことが可能である。代替的に、新規な水素化触媒組成物を調製するときに、メタセシス活性錯体水素化触媒と助触媒との間のモル比を制御及び選択することによって、所望の方法でニトリルゴムの分子量を調節及び調整することも可能である。特に、本方法は、特定の実施形態では、第１の工程においてメタセシス反応のために１つの及び同じ触媒を使用し、次いでこのメタセシス反応の反応混合物に助触媒を添加し、それによって新規な水素化触媒組成物を調製し、その後、第２の工程においてメタセシス化ニトリルゴムを水素化することが利用可能になる。助触媒は、メタセシス錯体水素化触媒を含有する反応混合物にメタセシスの任意の程度で添加することができ、そのため、商業的に魅力的な方法で注文通りの水素化ニトリルゴムを調製することが可能になる。さらに、本発明の水素化プロセスにより、非常に低い濃度で錯体水素化触媒を使用することが可能になり、その結果、遷移金属ベースの触媒を水素化後に除去又はリサイクルする必要がない。

本発明に従って調製及び使用される水素化触媒組成物は、その高い水素化活性で特徴付けられる。高い水素化度を短い反応時間で達成することができる。特に、本水素化触媒組成物の水素化活性は、ＮＢＲ水素化のためにそれ自体使用されるにすぎない対応する錯体水素化触媒の水素化活性よりも高い。

本発明の上記及び他の態様、特徴及び利点は、以下を示す添付の図面と併せて以下の詳細な説明から明らかになるであろう。

実施例１、２及び５における水素化プロセス中の（Ｈ）ＮＢＲサンプルの水素化度である。

本特許出願の目的で使用される「置換される」という用語は、指示された基又は原子の上の水素原子が、それぞれの場合において指示された基の１つによって置き換えられていることを意味するが、ただし、指示された原子の原子価が高すぎることがなく、その置換で安定な化合物が生じる必要がある。

本特許出願及び本発明の目的のために、上記及び下記において、一般的な項目又は好ましい範囲として与えられた残基、パラメーター又は説明は、いかなる方法でも、すなわちそれぞれの範囲と好ましい範囲との組合せを含めて相互に組み合わされ得る。

錯体水素化触媒
錯体組成物及び水素化プロセスにおいて使用される錯体水素化触媒は、一般式（ＩＡ）及び（ＩＢ）

（式中、
Ｍは、周期表の４、５、６、７、８、９、１０、１１及び１２族からなる群から選択される金属、好ましくはルテニウム、オスミウム、鉄、モリブデン、タングステン、チタン、レニウム、銅、クロム、マンガン、ロジウム、バナジウム、亜鉛、金、銀、ニッケル及びコバルトから選択される金属であり；
ｚは、酸素、硫黄、セレン、ＮＲ’’’’、ＰＲ’’’’、ＡｓＲ’’’’及びＳｂＲ’’’’からなる群から選択され；Ｒ’’、Ｒ’’’及びＲ’’’’は、それぞれ水素、Ｃ_１～６アルキル、Ｃ_３～８シクロアルキル、Ｃ_１～６アルキル－Ｃ_１～６アルコキシシリル、Ｃ_１～６アルキル－アリールオキシシリル、Ｃ_１～６アルキル－Ｃ_３～１０シクロアルコキシシリル、アリール及びヘテロアリールからなる群から独立して選択される基であるか、又はＲ’’及びＲ’’’は、一緒になってアリール若しくはヘテロアリール基を形成し、それぞれの前記基は、（水素と異なる場合）、ハロゲン原子、Ｃ_１～６アルキル、Ｃ_１～６アルコキシ、アリール、アルキルスルホネート、アリールスルホネート、アルキルホスホネート、アリールホスホネート、Ｃ_１～６アルキル－Ｃ_１～６アルコキシシリル、Ｃ_１～６アルキル－アリールオキシシリル、Ｃ_１～６アルキル－Ｃ_３～１０シクロアルコキシシリル、アルキルアンモニウム及びアリールアンモニウムからなる群からそれぞれ独立して選択される１つ以上、好ましくは１～３つの置換基Ｒ^５で任意選択的に置換されており；
Ｒ’は、一般式（ＩＡ）を有する化合物に含まれる場合、Ｒ’’、Ｒ’’’及びＲ’’’’について定義された通りであるか、又は一般式（ＩＢ）を有する化合物に含まれる場合、Ｃ_１～６アルキレン及びＣ_３～８シクロアルキレンからなる群から選択されるかのいずれかであり、前記アルキレン又はシクロアルキレン基は、１つ以上の置換基Ｒ^５で任意選択的に置換されており；
Ｒ^１は、Ｒ^２と結合されて環状構造を形成することができるか又は結合されることができない電子供与性の錯体配位子であり；
Ｒ^２は、アニオン性配位子であり；
Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ水素又はＣ_１～２０アルキル、Ｃ_２～２０アルケニル、Ｃ_２～２０アルキニル、Ｃ_１～２０カルボキシレ－ト、Ｃ_１～２０アルコキシ、Ｃ_２～２０アルケニルオキシ、Ｃ_２～２０アルキニルオキシ、アリール、アリールオキシ、Ｃ_１～２０アルコキシカルボニル、Ｃ_１～８アルキルチオ、Ｃ_１～２０アルキルスルホニル、Ｃ_１～２０アルキルスルフィニル、Ｃ_１～２０アルキルスルホネート、アリールスルホネート、Ｃ_１～２０アルキルホスホネート、アリールホスホネート、Ｃ_１～２０アルキルアンモニウム及びアリールアンモニウムからなる群から選択される基であり；
Ｒ’と、Ｒ^３及びＲ^４の１つとは、互いに結合されて二座配位子を形成し得；
Ｒ’’’及びＲ’’’’は、互いに結合されて、窒素、リン、ヒ素及びアンチモンからなる群から選択されるヘテロ原子を含む脂肪族環系を形成し得；
Ｒ^３及びＲ^４は、一緒になって縮合芳香族環系を形成し得；及び
ｙは、Ｍと、Ｒ^３及びＲ^４を有する炭素原子との間のｓｐ^２炭素原子の数を表し、且つ両端値を含めて０～３の整数である）
の錯体水素化触媒、それらの塩、溶媒和物及びエナンチオマーに関する。

一般式（ＩＡ）及び（ＩＢ）の触媒は、原則として公知である。このクラスの化合物の代表は、例えば、国際公開第０３／０６２２５３号パンフレットに記載されている触媒である。これらの触媒は、市販されているか、又は引用される参考文献に記載されているように調製することができるかのいずれかである。

Ｒ^１の定義：
一般式（ＩＡ）及び（ＩＢ）において、Ｒ^１は、Ｒ^２と結合されて環状構造を形成することができるか又は結合されることができない電子供与性の錯体配位子である。一般式（ＩＡ）及び（ＩＢ）の触媒の１つの実施形態では、Ｒ^１は、ホスフィン、スルホン化ホスフィン、ホスフェート、ホスフィナイト、ホスホナイト、アルシン、スチビン、エーテル、アミン、アミド、スルホネート、スルホキシド、カルボキシル、ニトロシル、ピリジン、チオエーテル、イミダゾリン又はイミダゾリジン配位子（後者の２つは、合わせて「Ｉｍ」配位子とも言われる）である。

「ホスフィナイト」という用語には、例えば、フェニルジフェニルホスフィナイト、シクロヘキシルジシクロヘキシルホスフィナイト、イソプロピルジイソプロピルホスフィナイト及びメチルジフェニルホスフィナイトが含まれる。

「ホスファイト」という用語には、例えば、トリフェニルホスファイト、トリシクロヘキシルホスファイト、トリ－ｔｅｒｔ－ブチルホスファイト、トリイソプロピルホスファイト及びメチルジフェニルホスファイトが含まれる。

「スチビン」という用語には、例えば、トリフェニルスチビン、トリシクロヘキシルスチビン及びトリメチルスチビンが含まれる。

「スルホネート」という用語には、例えば、トリフルオロメタンスルホネート、トシレート及びメシレートが含まれる。

「スルホキシド」という用語には、例えば、（ＣＨ_３）_２Ｓ（＝Ｏ）及び（Ｃ_６Ｈ_５）_２Ｓ＝Ｏが含まれる。

「チオエーテル」という用語には、例えば、ＣＨ_３ＳＣＨ_３、Ｃ_６Ｈ_５ＳＣＨ_３、ＣＨ_３ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＳＣＨ_３及びテトラヒドロチオフェンが含まれる。

本出願の目的のために、「ピリジン」という用語は、例えば、国際公開第Ａ－０３／０１１４５５号パンフレットにおいてＧｒｕｂｂｓによって述べられているようなすべての窒素含有配位子のための集合名として使用される。例は、ピリジン、ピコリン類（α－、β－及びγ－ピコリンなど）、ルチジン類（２，３－、２，４－、２，５－、２，６－、３，４－及び３，５－ルチジンなど）、コリジン（２，４，６－トリメチルピリジン）、トリフルオロメチルピリジン、フェニルピリジン、４－（ジメチルアミノ）ピリジン、クロロピリジン、ブロモピリジン、ニトロピリジン、キノリン、ピリミジン、ピロール、イミダゾール並びにフェニルイミダゾールである。

Ｒ^１がイミダゾリン又はイミダゾリジン配位子（特に明記しない限り、本出願では合わせて「Ｉｍ」とも言われる）である場合、これは、通常、一般式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）

（式中、
Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１は、同一であるか又は異なり、且つ水素、直鎖状又は分岐状のＣ_１～Ｃ_３０－アルキル、Ｃ_３～Ｃ_２０－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール、Ｃ_７～Ｃ_２５－アルカリール、Ｃ_２～Ｃ_２０ヘテロアリール、Ｃ_２～Ｃ_２０ヘテロシクリル、Ｃ_１～Ｃ_２０－アルコキシ、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルケニルオキシ、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルキニルオキシ、Ｃ_６～Ｃ_２０－アリールオキシ、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルコキシカルボニル、Ｃ_１～Ｃ_２０－アルキルチオ、Ｃ_６～Ｃ_２０－アリールチオ、－Ｓｉ（Ｒ）_３、－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ）_３、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ）_２、－ＮＲ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ）_２、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ）_２、－Ｓ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｓ（＝Ｏ）_２Ｒ、－Ｏ－Ｓ（＝Ｏ）_２Ｒ、ハロゲン、ニトロ又はシアノを表し；ここで、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１の意味に関連するすべての上記の場合において、基Ｒは、同一であるか又は異なり、且つ水素、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又はヘテロアリールを表す）
に対応する構造を有する。

適切な場合、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１の１つ又は複数は、互いに独立して、１つ又は複数の置換基、好ましくは直鎖状又は分岐状のＣ_１～Ｃ_１０－アルキル、Ｃ_３～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_１～Ｃ_１０－アルコキシ又はＣ_６～Ｃ_２４－アリール、Ｃ_２～Ｃ_２０ヘテロアリール、Ｃ_２～Ｃ_２０ヘテロシクリック並びにヒドロキシ、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート及びハロゲンからなる群から選択される官能基によって置換され得、ここで、これらの上述の置換基は、化学的に可能である限り、好ましくはハロゲン、特に塩素又は臭素、Ｃ_１～Ｃ_５－アルキル、Ｃ_１～Ｃ_５－アルコキシ及びフェニルからなる群から選択される１つ又は複数の置換基によってさらに置換され得る。

単に明瞭にするためにのみ付け加えれば、本特許出願における一般式（ＩＩａ）及び（ＩＩｂ）で示されるイミダゾリン及びイミダゾリジン配位子の構造は、それぞれこのミダゾリン及びイミダゾリジン配位子について文献においても多くの場合に見いだされる構造（ＩＩａ’）及び（ＩＩｂ’）と均等であり、ミダゾリン及びイミダゾリジンのカルベン的特性を強調している。これは、以下に示される関連する好ましい構造（ＩＩＩａ）～（ＩＩＩｕ）

にも同様に当てはまる。

Ｒ^１が一般式（ＩＡ）又は（ＩＢ）の触媒におけるイミダゾリン又はイミダゾリジン配位子である場合、Ｒ^８及びＲ^９は、同一であるか又は異なり、且つ好ましくは水素、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール、直鎖状若しくは分岐状のＣ_１～Ｃ_１０－アルキルを表すか、又はそれらが結合されている炭素原子と一緒になってシクロアルキル若しくはアリール構造を形成する。

より好ましくは、Ｒ^８及びＲ^９は、同一であり、且つ水素、メチル、プロピル、ブチル及びフェニルからなる群から選択される。

Ｒ^８及びＲ^９の好ましい意味及びより好ましい意味は、直鎖状又は分岐状のＣ_１～Ｃ_１０－アルキル又はＣ_１～Ｃ_１０－アルコキシ、Ｃ_３～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリールからなる群から選択される１つ又は複数のさらなる置換基並びにヒドロキシ、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート及びハロゲンからなる群から選択される官能基によって置換され得、ここで、それらの置換基のすべては、好ましくは、ハロゲン、特に塩素又は臭素、Ｃ_１～Ｃ_５－アルキル、Ｃ_１～Ｃ_５－アルコキシ及びフェニルからなる群から選択される１つ又は複数の置換基によってさらに置換され得る。

Ｒ^１が一般式（ＩＡ）又は（ＩＢ）の触媒におけるイミダゾリン又はイミダゾリジン配位子である場合、Ｒ^１０及びＲ^１１は、同一であるか又は異なり、且つ好ましくは直鎖状又は分岐状のＣ_１～Ｃ_１０－アルキル、Ｃ_３～Ｃ_１０－シクロアルキル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール、特に好ましくはフェニル、Ｃ_１～Ｃ_１０－アルキルスルホネート、Ｃ_６～Ｃ_１０－アリールスルホネートを表す。

より好ましくは、Ｒ^１０及びＲ^１１は、同一であり、且つｉ－プロピル、ネオペンチル、アダマンチル、フェニル、２，６－ジイソプロピルフェニル、２，６－ジメチルフェニル又は２，４，６－トリメチルフェニルからなる群から選択される。

Ｒ^１０及びＲ^１１のこれらの好ましい意義は、直鎖状又は分岐状のＣ_１～Ｃ_１０－アルキル又はＣ_１～Ｃ_１０－アルコキシ、Ｃ_３～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリールからなる群から選択される１つ又は複数のさらなる置換基並びにヒドロキシ、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート及びハロゲンからなる群から選択される官能基によって置換され得、ここで、それらの置換基のすべては、好ましくは、ハロゲン、特に塩素又は臭素、Ｃ_１～Ｃ_５－アルキル、Ｃ_１～Ｃ_５－アルコキシ及びフェニルからなる群から選択される１つ又は複数の置換基によってさらに置換され得る。

特に好ましいイミダゾリン及びイミダゾリジン配位子は、以下の構造（ＩＩＩａ）～（ＩＩＩｕ）

を有し、ここで、「Ｐｈ」は、それぞれの場合においてフェニルを意味し、「Ｂｕ」はｃブチルを意味し、「Ｍｅｓ」は、それぞれの場合において２，４，６－トリメチルフェニルを意味し、「Ｄｉｐｐ」は、すべての場合において２，６－ジイソプロピルフェニルを意味し、「Ｄｉｍｐ」は、２，６－ジメチルフェニルを意味する。

さらに好ましい実施形態では、Ｒ^１は、一般式（ＩＩｃ）及び（ＩＩｄ）

（式中、
Ｒ^８、Ｒ^９及びＲ^１０は、一般式（ＩＩａ）及び（ＩＩｂ）に関して上記で定義されたようなすべての一般的な、好ましい、より好ましい及び最も好ましい意味を有することができ、
Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４は、同一であるか又は異なり、且つアルキル、シクロアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ又はヘテロシクリック基を表すことができる）
を有するができる。

一般式（ＩＩｃ）及び（ＩＩｄ）において、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４は、直鎖状又は分岐状のＣ_１～Ｃ_５－アルキル、特にメチル、Ｃ_１～Ｃ_５－アルコキシ、アリール並びにヒドロキシ、チオール、チオエーテル、ケトン、アルデヒド、エステル、エーテル、アミン、イミン、アミド、ニトロ、カルボン酸、ジスルフィド、カーボネート、イソシアネート、カルボジイミド、カルボアルコキシ、カルバメート及びハロゲンからなる群から選択される官能基からなる群から選択される１つ以上のさらなる置換基でも置換され得る。

より好ましい実施形態では、配位子Ｒ^１は、一般式（ＩＩｄ）（式中、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４は、同一であるか又は異なり、さらにより好ましくは同一であり、且つＣ_１～Ｃ_２０アルキル、Ｃ_３～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_１～Ｃ_２０アルコキシ、Ｃ_６～Ｃ_２０アリール、Ｃ_６～Ｃ_２０アリールオキシ、Ｃ_２～Ｃ_２０ヘテロアリール又はＣ_２～Ｃ_２０ヘテロシクリック基を表すことができる）を有する。

さらにより好ましい実施形態では、配位子Ｒ^１は、一般式（ＩＩｄ）（式中、Ｒ^１２、Ｒ^１３及びＲ^１４は、同一であり、且つそれぞれメチル、エチル、ｎ－プロピル、イソプロピル、ｎ－ブチル、ｓｅｃ－ブチル、ｔｅｒｔ－ブチル、ｎ－ペンチル、１－メチルブチル、２－メチルブチル、３－メチルブチル、ネオペンチル、１－エチルプロピル、ｎ－ヘキシル、ネオフェニル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、フェニル、ビフェニル、ナフチル、フェナントレニル、アントラセニル、トリル、２，６－ジメチルフェニル及びトリフルオロメチルからなる群から選択される）を有する。

配位子Ｒ^１が一般式（ＩＩｄ）を有する場合、それは、最も好ましくは、ＰＰｈ_３、Ｐ（ｐ－Ｔｏｌ）_３、Ｐ（ｏ－Ｔｏｌ）_３、ＰＰｈ（ＣＨ_３）_２、Ｐ（ＣＦ_３）_３、Ｐ（ｐ－ＦＣ_６Ｈ_４）_３、Ｐ（ｐ－ＣＦ_３Ｃ_６Ｈ_４）_３、Ｐ（Ｃ_６Ｈ_４－ＳＯ_３Ｎａ）_３、Ｐ（ＣＨ_２Ｃ_６Ｈ_４－ＳＯ_３Ｎａ）_３、Ｐ（イソプロピル）_３、Ｐ（ＣＨＣＨ_３（ＣＨ_２ＣＨ_３））_３、Ｐ（シクロペンチル）_３、Ｐ（シクロヘキシル）_３、Ｐ（ネオペンチル）_３又はＰ（ネオフェニル）_３を表す。

Ｒ^２の定義
一般式（ＩＡ）又は（ＩＢ）の触媒において、Ｒ^２は、アニオン性配位子である。配位子Ｒ^２についてのアニオン性配位子という用語の意味は、当技術分野で慣習的であり、好ましくは米国特許第５，９７７，３９３号明細書に与えられている定義と一致する。

一般式（ＩＡ）又は（ＩＢ）の触媒の１つの実施形態では、Ｒ^２は、水素、ハロゲン、プソイドハロゲン、直鎖状又は分岐状のＣ_１～Ｃ_３０－アルキル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール、Ｃ_１～Ｃ_２０－アルコキシ、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリールオキシ、Ｃ_３～Ｃ_２０－アルキルジケトネート、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリールジケトネート、Ｃ_１～Ｃ_２０－カルボキシレート、Ｃ_１～Ｃ_２０－アルキルスルホネート、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリールスルホネート、Ｃ_１～Ｃ_２０－アルキルチオール、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリールチオール、Ｃ_１～Ｃ_２０－アルキルスルホニル又はＣ_１～Ｃ_２０－アルキルスルフィニルを表す。

Ｒ^２を意味するとして上で列挙した残基は、１つ又は複数のさらなる置換基、例えばハロゲン、好ましくはフッ素、Ｃ_１～Ｃ_１０－アルキル、Ｃ_１～Ｃ_１０－アルコキシ又はＣ_６～Ｃ_２４－アリールによって置換され得、それらの基は、ハロゲン、好ましくはフッ素、Ｃ_１～Ｃ_５－アルキル、Ｃ_１～Ｃ_５－アルコキシ及びフェニルからなる群から選択される１つ又は複数の置換基によってさらに置換され得る。

好ましい実施形態では、Ｒ^２は、ハロゲン、特にフッ素、塩素、臭素若しくはヨウ素、ベンゾエート、Ｃ_１～Ｃ_５－カルボキシレート、Ｃ_１～Ｃ_５－アルキル、フェノキシ、Ｃ_１～Ｃ_５－アルコキシ、Ｃ_１～Ｃ_５－アルキルチオール、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリールチオール、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール又はＣ_１～Ｃ_５－アルキルスルホネートである。

特に好ましい実施形態では、Ｒ^２は、ハロゲン、特に塩素、ＣＦ_３ＣＯＯ、ＣＨ_３ＣＯＯ、ＣＦＨ_２ＣＯＯ、（ＣＨ_３）_３ＣＯ、（ＣＦ_３）_２（ＣＨ_３）ＣＯ、（ＣＦ_３）（ＣＨ_３）_２ＣＯ、ＰｈＯ（フェノキシ）、ＭｅＯ（メトキシ）、ＥｔＯ（エトキシ）、トシレート（ｐ－ＣＨ_３－Ｃ_６Ｈ_４－ＳＯ_３）、メシレート（ＣＨ_３ＳＯ_３）又はトリフルオロメタンスルホネート（ＣＦ_３ＳＯ_３）を表す。

代替的な実施形態は、フェニル基であるＲ^３及びＲ^４のそれぞれからなる。

代替的な実施形態では、Ｒ^３及びＲ^４は、一緒になって、式（ＶＩ）

を有する縮合芳香族環系を形成する。

好ましくは、錯体組成物及び水素化プロセスにおいて使用される錯体水素化触媒は、一般式（ＩＡ）又は（ＩＢ）

（式中、
Ｍは、ルテニウム又はオスミウム、最も好ましくはルテニウムであり；
ｚは、酸素、硫黄、セレン、ＮＲ’’’’、ＰＲ’’’’、ＡｓＲ’’’’及びＳｂＲ’’’’からなる群から選択され；Ｒ’’、Ｒ’’’及びＲ’’’’は、それぞれ水素、Ｃ_１～６アルキル、Ｃ_３～８シクロアルキル、Ｃ_１～６アルキル－Ｃ_１～６アルコキシシリル、Ｃ_１～６アルキル－アリールオキシシリル、Ｃ_１～６アルキル－Ｃ_３～１０シクロアルコキシシリル、アリール及びヘテロアリールからなる群から独立して選択される基であるか、又はＲ’’及びＲ’’’は、一緒になってアリール若しくはヘテロアリール基を形成し、それぞれの前記基は、（水素と異なる場合）、ハロゲン原子、Ｃ_１～６アルキル、Ｃ_１～６アルコキシ、アリール、アルキルスルホネート、アリールスルホネート、アルキルホスホネート、アリールホスホネート、Ｃ_１～６アルキル－Ｃ_１～６アルコキシシリル、Ｃ_１～６アルキル－アリールオキシシリル、Ｃ_１～６アルキル－Ｃ_３～１０シクロアルコキシシリル、アルキルアンモニウム及びアリールアンモニウムからなる群からそれぞれ独立して選択される１つ以上、好ましくは１～３つの置換基Ｒ^５で任意選択的に置換されており；
Ｒ’は、一般式（ＩＡ）を有する化合物に含まれる場合、メチル、フェニル若しくは置換フェニル（例えば、ジメチルブロモフェニル若しくはジイソプロピルフェニル）であるか、又は一般式（ＩＢ）を有する化合物に含まれる場合、メチレン若しくはベンジリエンであるかのいずれかであり；
Ｒ^１は、Ｒ^２と結合されて環状構造を形成することができるか又は結合されることができない電子供与性の錯体配位子であり；
Ｒ^２は、アニオン性配位子であり；
Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ水素又はＣ_１～２０アルキル、Ｃ_２～２０アルケニル、Ｃ_２～２０アルキニル、Ｃ_１～２０カルボキシレ－ト、Ｃ_１～２０アルコキシ、Ｃ_２～２０アルケニルオキシ、Ｃ_２～２０アルキニルオキシ、アリール、アリールオキシ、Ｃ_１～２０アルコキシカルボニル、Ｃ_１～８アルキルチオ、Ｃ_１～２０アルキルスルホニル、Ｃ_１～２０アルキルスルフィニル、Ｃ_１～２０アルキルスルホネート、アリールスルホネート、Ｃ_１～２０アルキルホスホネート、アリールホスホネート、Ｃ_１～２０アルキルアンモニウム及びアリールアンモニウムからなる群から選択される基であり；
Ｒ’と、Ｒ^３及びＲ^４の１つとは、互いに結合されて二座配位子を形成し得；
Ｒ’’’及びＲ’’’’は、互いに結合されて、窒素、リン、ヒ素及びアンチモンからなる群から選択されるヘテロ原子を含む脂肪族環系を形成し得；
Ｒ^３及びＲ^４は、一緒になって式（ＶＩ）

を有するものを形成し得、及び
ｙは、Ｍと、Ｒ^３及びＲ^４を有する炭素原子との間のｓｐ^２炭素原子の数を表し、且つ０又は１である）
の錯体水素化触媒に関連する。

最も好ましくは、水素化触媒組成物の錯体水素化触媒は、
ｉ）［１，３－ビス（２，４，６－トリメチルフェニル）－２－イミダゾリジニリデン］－［２－［［（４－メチルフェニル）イミノ］メチル］－４－ニトロ－フェノールイル］クロロ－［３－フェニル－インデニリデン］ルテニウム（ＩＩ）、又は
ｉｉ）［１，３－ビス（２，４，６－トリメチルフェニル）－２－イミダゾリジニリデン］－［２－［［（２－メチルフェニル）イミノ］メチル］－フェノールイル］－［３－フェニル－１Ｈ－インデン－１－イリデン］（クロロ）ルテニウム（ＩＩ）
である。

錯体水素化触媒ｉ）及びｉｉ）は、Ｕｍｉｃｏｒｅにおいて市販されている。

助触媒：
好ましい実施形態では、助触媒は、一般式（１）
ＣＨ_２＝ＣＲＲ’ （１）
［式中、Ｒ及びＲ’は、同一であるか又は異なり、且つ
水素、
ＯＲ^１
〔式中、Ｒ^１は、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール若しくはヘテロアリール、Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ^２）、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^２）_２、－［（ＣＨ_２）_ｎ－Ｘ］_ｍＲ^２、－［（ＣＨ_２）_ｎ－Ｘ］_ｍ－ＣＨ＝ＣＨ_２又は－（ＣＨ_２）_ｐ－Ｃ（Ｒ^３）_２Ｒ^４
（式中、
Ｘは、同一であるか又は異なり、且つ酸素（Ｏ）又はＮＲ^２を意味し、
Ｒ^２は、同一であるか又は異なり、且つＨ、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又はヘテロアリールを表し、
Ｒ^３は、同一であるか又は異なり、且つＣ_１～Ｃ_８アルキル又は－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２を表し、
Ｒ^４は、（ＣＨ_２）_ｐ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２を表し、
ｎは、１～５の範囲であり、
ｍは、１～１０の範囲であり、
ｐは、０～５の範囲である）
を意味するか、又は
代替的に、Ｒ及びＲ’が両方とも基ＯＲ^１を表す場合、両方のＲ^１は、互いに結合され、一緒になって、二価基－（Ｃ（Ｒ^２）_２）_ｑ－（式中、ｑは、２、３又は４であり、Ｒ^２は、同一であるか又は異なり、且つ上記で定義された意味を有する）を表すことができる〕、
ＳＲ^５、ＳＯＲ^５、ＳＯ_２Ｒ^５
（式中、Ｒ^５は、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又はヘテロアリールを表す）、
Ｎ（Ｒ^６Ｒ^７）、Ｐ（Ｒ^６Ｒ^７）
〔式中、
Ｒ^６及びＲ^７は、同一であるか又は異なり、且つアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリール、－Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ^２）を意味するか、又は
代替的に、Ｒ^６及びＲ^７は、それらが両方とも同時に結合されているＮ又はＰ原子と一緒になって、環状構造中に４～７つの炭素原子を有する飽和、不飽和又は芳香族の環状構造を形成し得、ここで、前記炭素原子の１、２又は３つは、酸素、硫黄、窒素、Ｎ－Ｒ^８又はＰ－Ｒ^８（式中、Ｒ^８は、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又はヘテロアリールを意味するものとする）から選択される部分で置き換えられ得る〕、又は
Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ^９）_２
（式中、Ｒ^９は、同一であるか又は異なり、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、ヘテロアリールを意味するものとする）
を意味し、
但し、Ｒ及びＲ’は、両方とも同時に水素を表してはならないことを条件とする］
を有する。

一般式（１）に従う助触媒において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８又はＲ^９におけるすべてのアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又はヘテロアリール部分は、１つ以上のアルキル、ハロゲン、アルコキシ、アルケニルオキシ、アリール又はヘテロアリール置換基で任意選択的にさらに置換され得る。すべての前述の部分、特にアルキル、アルケニル及び／又はアルキニル部分は、化学的に可能な程度まで直鎖状又は分岐状のいずれかであり得る。当然のことながら、指示された原子の原子価が超過されず、置換が安定した化合物をもたらすという上記の条件が満たされているものとする。

Ｒ及びＲ’がＯＲ^１を表す場合、両方のそのようなＲ^１は、互いに結合され得、且つ一緒になって、二価基－Ｃ（Ｒ^２）_２）_ｑ－（式中、ｑは、２、３、４又は５であり、及びＲ^２は、同一であるか又は異なり、且つ上記の式（１）に関して定義された意味を有する）を表す。そのような場合、環状構造は、二価基が結合されている２つの酸素原子及び隣接するビニル炭素原子と一緒に二価基によって形成される。

本発明の別の実施形態では、水素化触媒組成物は、一般式（１）
ＣＨ_２＝ＣＲＲ’ （１）
［式中、Ｒは、水素であり、及びＲ’は、
ＯＲ^１
〔式中、Ｒ^１は、Ｃ_１～Ｃ_１６－アルキル、Ｃ_３～Ｃ_１０－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１６－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール、Ｃ_６～Ｃ_２４－ヘテロアリール、－Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ^２）、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^２）_２、－［（ＣＨ_２）_ｎＸ］_ｍＲ^２、－［（ＣＨ_２）_ｎＸ］_ｍ－ＣＨ＝ＣＨ_２又は－（ＣＨ_２）_ｐ－Ｃ（Ｒ^３）_２Ｒ^４
〔式中、
Ｘは、同一であるか又は異なり、且つ酸素（Ｏ）又はＮＲ^２であり、
Ｒ^２は、同一であるか又は異なり、且つＨ、Ｃ_１～Ｃ_１６－アルキル、Ｃ_３～Ｃ_１０－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１６－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール又はＣ_３～Ｃ_２０－ヘテロアリールを表し、
Ｒ^３は、同一であるか又は異なり、且つＣ_１～Ｃ_４アルキル又は－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２を表し、
Ｒ^４は、（ＣＨ_２）_ｐ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２を表し、
ｎは、１～４の範囲であり、
ｍは、１～５の範囲であり、
ｐは、０～５の範囲である〕
を意味する）、
ＳＲ^５、ＳＯＲ^５、ＳＯ_２Ｒ^５
（式中、Ｒ^５は、Ｃ_１～Ｃ_１６－アルキル、Ｃ_３～Ｃ_１０－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１６－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール又はＣ_６～Ｃ_２４－ヘテロアリールを表す）、
Ｎ（Ｒ^６Ｒ^７）、Ｐ（Ｒ^６Ｒ^７）
〔式中、
Ｒ^６及びＲ^７は、同一であるか又は異なり、且つＣ_１～Ｃ_１６－アルキル、Ｃ_３～Ｃ_１０－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１６－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール又はＣ_６～Ｃ_２４－ヘテロアリール、－Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ^２）を意味するものとするか、又は
代替的に、Ｒ^６及びＲ^７は、それらが両方とも同時に結合されているそのようなＮ又はＰ原子と一緒になって、環状構造中に４～７つの炭素原子を有する飽和、不飽和又は芳香族の環状構造を形成し得、ここで、前記炭素原子の１、２又は３つは、酸素、硫黄、窒素、Ｎ－Ｒ^８又はＰ－Ｒ^８（式中、Ｒ^８は、Ｃ_１～Ｃ_１６－アルキル、Ｃ_３～Ｃ_１０－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１６－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール又はＣ_６～Ｃ_２４－ヘテロアリールを意味するものとする）から選択される部分で置き換えられ得る〕、又は
Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ^９）_２
（式中、Ｒ^９は、同一であるか又は異なり、且つＣ_１～Ｃ_１６－アルキル、Ｃ_３～Ｃ_１０－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１６－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール又はＣ_６～Ｃ_２４－ヘテロアリールを意味するものとする）
を意味する］
を有する少なくとも１つ、好ましくは１つの助触媒を使用して得られる。

本発明の別の実施形態では、水素化触媒組成物は、一般式（１）
ＣＨ_２＝ＣＲＲ’ （１）
［式中、Ｒ及びＲ’は、同一であるか又は異なり、且つ
ＯＲ^１
〔式中、Ｒ^１は、Ｃ_１～Ｃ_１６－アルキル、Ｃ_３～Ｃ_１０－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１６－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール、Ｃ_６～Ｃ_２４－ヘテロアリール、－Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ^２）、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^２）_２、－［（ＣＨ_２）_ｎＸ］_ｍＲ^２、－［（ＣＨ_２）_ｎＸ］_ｍ－ＣＨ＝ＣＨ_２又は－（ＣＨ_２）_ｐ－Ｃ（Ｒ^３）_２Ｒ^４
（式中、
Ｘは、同一であるか又は異なり、且つ酸素（Ｏ）又はＮＲ^２であり、
Ｒ^２は、同一であるか又は異なり、且つＨ、Ｃ_１～Ｃ_１６－アルキル、Ｃ_３～Ｃ_１０－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１６－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール又はＣ_３～Ｃ_２０－ヘテロアリールを表し、
Ｒ^３は、同一であるか又は異なり、且つＣ_１～Ｃ_４アルキル又は－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２を表し、
Ｒ^４は、（ＣＨ_２）_ｐ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２を表し、
ｎは、１～４の範囲であり、
ｍは、１～５の範囲であり、
ｐは、０～５の範囲である）
を意味するか、又は
代替的に、Ｒ及びＲ’が両方とも基ＯＲ^１を表す場合、両方のＲ^１は、互いに結合され、且つ一緒になって、二価基－（Ｃ（Ｒ^２）_２）_ｑ－
（式中、ｑは、２、３又は４であり、及びＲ^２は、同一であるか又は異なり、且つ上記で定義された意味を有する）を表すことができる）、
ＳＲ^５、ＳＯＲ^５、ＳＯ_２Ｒ^５
（式中、Ｒ^５は、Ｃ_１～Ｃ_１６－アルキル、Ｃ_３～Ｃ_１０－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１６－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール又はＣ_６～Ｃ_２４－ヘテロアリールを表す）、
Ｎ（Ｒ^６Ｒ^７）、Ｐ（Ｒ^６Ｒ^７）
（式中、
Ｒ^６及びＲ^７は、同一であるか又は異なり、且つＣ_１～Ｃ_１６－アルキル、Ｃ_３～Ｃ_１０－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１６－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール又はＣ_６～Ｃ_２４－ヘテロアリール、－Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ^２）を意味するものとするか、又は
代替的に、Ｒ^６及びＲ^７は、それらが両方とも同時に結合されているそのようなＮ又はＰ原子と一緒になって、環状構造中に４～７つの炭素原子を有する飽和、不飽和又は芳香族の環状構造を形成し得、ここで、前記炭素原子の１、２又は３つは、酸素、硫黄、窒素、Ｎ－Ｒ^８又はＰ－Ｒ^８（式中、Ｒ^８は、Ｃ_１～Ｃ_１６－アルキル、Ｃ_３～Ｃ_１０－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１６－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール又はＣ_６～Ｃ_２４－ヘテロアリールを意味するものとする）から選択される部分で置き換えられ得る）、又は
Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ^９）_２
（式中、Ｒ^９は、同一であるか又は異なり、且つＣ_１～Ｃ_１６－アルキル、Ｃ_３～Ｃ_１０－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１６－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール又はＣ_６～Ｃ_２４－ヘテロアリールを意味するものとする〕
を意味するものとする］
を有する少なくとも１つ、好ましくは１つの助触媒を使用して得られる。

本発明の別の好ましい実施形態では、水素化触媒組成物は、上で示された一般式（１）
ＣＨ_２＝ＣＲＲ’ （１）
［式中、Ｒは、水素であり、及びＲ’は、
ＯＲ^１
〔式中、Ｒ^１は、Ｃ_１～Ｃ_１２－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_１４－アリール、Ｃ_６～Ｃ_１４－ヘテロアリール、－Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ^２）、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^２）_２、－［（ＣＨ_２）_ｎＸ］_ｍＲ^２、－［（ＣＨ_２）_ｎＸ］_ｍ－ＣＨ＝ＣＨ_２又は－（ＣＨ_２）_ｐ－Ｃ（Ｒ^３）_２Ｒ^４
（式中、
Ｘは、同一であるか又は異なり、且つ酸素（Ｏ）又はＮＲ^２であり、
Ｒ^２は、同一であるか又は異なり、且つＨ、Ｃ_１～Ｃ_１２－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_１４－アリール又はＣ_３～Ｃ_１４－ヘテロアリールを表し、
Ｒ^３は、同一であるか又は異なり、且つメチル、エチル又は－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２を表し、
Ｒ^４は、（ＣＨ_２）_ｐ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２を表し、
ｎは、１、２又は３であり、
ｍは、１、２、３又は４であり、
ｐは、０、１、２、３又は４である）
を意味する）、
ＳＲ^５、ＳＯＲ^５、ＳＯ_２Ｒ^５
（式中、Ｒ^５は、Ｃ_１～Ｃ_１２－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_１４－アリール又はＣ_３～Ｃ_１４－ヘテロアリールを表す）、
Ｎ（Ｒ^６Ｒ^７）、Ｐ（Ｒ^６Ｒ^７）
〔式中、
Ｒ^６及びＲ^７は、同一であるか又は異なり、且つＣ_１～Ｃ_１２－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_１４－アリール又はＣ_６～Ｃ_１４－ヘテロアリール、－Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ^２）を意味するものとするか、又は
代替的に、Ｒ^６及びＲ^７は、それらが両方とも同時に結合されているそのようなＮ又はＰ原子と一緒になって、環状構造中に４～５つの炭素原子を有する飽和、不飽和又は芳香族の環状構造を形成し得、ここで、前記炭素原子の１又は２つは、酸素、硫黄、窒素、Ｎ－Ｒ^８又はＰ－Ｒ^８（式中、Ｒ^８は、Ｃ_１～Ｃ_１２－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_１４－アリール又はＣ_３～Ｃ_１４－ヘテロアリールを意味するものとする）から選択される部分で置き換えられ得る〕、
Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ^９）_２
（式中、Ｒ^９は、同一であるか又は異なり、且つＣ_１～Ｃ_１２－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_１４－アリール又はＣ_６～Ｃ_１４－ヘテロアリールを意味するものとする）
を意味するものとする］
を有する少なくとも１つ、好ましくは１つの助触媒を使用して得られる。

本発明の別の好ましい実施形態では、水素化触媒組成物は、上で示された一般式（１）
ＣＨ_２＝ＣＲＲ’ （１）
［式中、Ｒ及びＲ’は、同一であるか又は異なり、
ＯＲ^１
〔式中、Ｒ^１は、Ｃ_１～Ｃ_１２－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_１４－アリール、Ｃ_６～Ｃ_１４－ヘテロアリール、－Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ^２）、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^２）_２、－［（ＣＨ_２）_ｎＸ］_ｍＲ^２、－［（ＣＨ_２）_ｎＸ］_ｍ－ＣＨ＝ＣＨ_２又は－（ＣＨ_２）_ｐ－Ｃ（Ｒ^３）_２Ｒ^４
（式中、
Ｘは、同一であるか又は異なり、且つ酸素（Ｏ）又はＮＲ^２であり、
Ｒ^２は、同一であるか又は異なり、且つＨ、Ｃ_１～Ｃ_１２－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_１４－アリール又はＣ_３～Ｃ_１４－ヘテロアリールを表し、
Ｒ^３は、同一であるか又は異なり、且つメチル、エチル又は－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２を表し、
Ｒ^４は、（ＣＨ_２）_ｐ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２を表し、
ｎは、１、２又は３であり、
ｍは、１、２、３又は４であり、
ｐは、０、１、２、３又は４である）
を意味するか、又は
代替において、Ｒ及びＲ’が両方とも基ＯＲ^１を表す場合、両方のＲ^１は、互いに結合され、且つ一緒になって、二価基－（Ｃ（Ｒ^２）_２）_ｑ－
（式中、ｑは、２又は３であり、及びＲ^２は、同一であるか又は異なり、且つ水素又はＣ_１～Ｃ_４アルキルを表す）を表すことができる）、
ＳＲ^５、ＳＯＲ^５、ＳＯ_２Ｒ^５
（式中、Ｒ^５は、Ｃ_１～Ｃ_１２－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_１４－アリール又はＣ_３～Ｃ_１４－ヘテロアリールを表す）、
Ｎ（Ｒ^６Ｒ^７）、Ｐ（Ｒ^６Ｒ^７）
〔式中、
Ｒ^６及びＲ^７は、同一であるか又は異なり、且つＣ_１～Ｃ_１２－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_１４－アリール又はＣ_６～Ｃ_１４－ヘテロアリール、－Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ^２）を意味するものとするか、又は
代替的に、Ｒ^６及びＲ^７は、それらが両方とも同時に結合されているそのようなＮ又はＰ原子と一緒になって、環状構造中に４～５つの炭素原子を有する飽和、不飽和又は芳香族の環状構造を形成し得、ここで、前記炭素原子の１又は２つは、酸素、硫黄、窒素、Ｎ－Ｒ^８又はＰ－Ｒ^８（式中、Ｒ^８は、Ｃ_１～Ｃ_１２－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_１４－アリール又はＣ_３～Ｃ_１４－ヘテロアリールを意味するものとする）から選択される部分で置き換えられ得る〕、
Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ^９）_２
（式中、Ｒ^９は、同一であるか又は異なり、且つＣ_１～Ｃ_１２－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_１２－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_１４－アリール又はＣ_６～Ｃ_１４－ヘテロアリールを意味するものとする）
を意味するものとする］
を有する少なくとも１つ、好ましくは１つの助触媒を使用して得られる。

本発明の別のより好ましい実施形態では、水素化触媒組成物は、上で示された一般式（１）
ＣＨ_２＝ＣＲＲ’ （１）
［式中、Ｒは、水素であり、及びＲ’は、
ＯＲ^１
〔式中、Ｒ^１は、Ｃ_１～Ｃ_６－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_６－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_６－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_６－アルキニル、フェニル、イミダゾリル、トリアゾリル若しくはピリジニル、－Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ^２）、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^２）_２、－［（ＣＨ_２）_ｎＯ］_ｍＲ^２、－［（ＣＨ_２）_ｎＯ］_ｍ－ＣＨ＝ＣＨ_２又は－（ＣＨ_２）_ｐ－Ｃ（Ｒ^３）_２Ｒ^４
（式中、
Ｒ^２は、同一であるか又は異なり、且つＨ、Ｃ_１～Ｃ_６－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_８－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_８－アルキニル、フェニル、イミダゾリル、トリアゾリル又はピリジニルを表し、
Ｒ^３は、同一であるか又は異なり、且つメチル、エチル又は－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２を表し、
Ｒ^４は、（ＣＨ_２）_ｐ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２を表し、
ｎは、１又は２であり，
ｍは、１、２又は３であり、
ｐは、０、１又は３である）
を意味する〕
を表す］
を有する１つの助触媒を使用して得られる。

一般式（１）に従う助触媒の上述の好ましい、より好ましい及び最も好ましい実施形態のすべてにおいて、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８又はＲ^９におけるアルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又はヘテロアリール部分は、１つ以上のＣ_１～Ｃ_６－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_６－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_６－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_６－アルキニル、フェニル、イミダゾリル、トリアゾリル又はピリジニル部分で任意選択的にさらに置換され得る。すべての前述の置換基、特にアルキル、アルケニル及び／又はアルキニル部分は、化学的に可能な程度まで直鎖状又は分岐状のいずれかであり得る。

本発明のさらにより好ましい実施形態では、以下の式：

を有する１つ以上の助触媒が新規な水素化触媒の調製のために使用される。

本発明の別の同様に好ましい実施形態において、Ｒ及びＲ’が両方ともＯＲ^１（ここで、そのようなＲ^１は、一緒になって、上記で定義されたような二価基を形成する）を表す助触媒が新規な水素化触媒組成物の調製のために使用され、ここで、そのような特定の助触媒は、Ｒ^６が、一般式（１）について概要を示されたのと同じ意味を有する以下の式

を有する。

代替的な例において、水素化触媒組成物は、１：（２０～５５０）の範囲で錯体水素化触媒及び助触媒を水素と接触させることによって得られる。

ニトリルゴムを水素化するための方法
本発明による方法の工程ａ）：
本方法の工程ａ）における新規な水素化触媒組成物の調製は、適切な温度で行われる。温度の選択は、助触媒の性質及びその沸点によって影響を受ける。典型的には、この調製工程ａ）は、－２０℃～１６０℃の範囲、好ましくは１０℃～８０℃の範囲の温度で行われる。ビニル含有物質を使用する触媒前処理のための好適な時間は、約１分～４８時間の範囲である。

錯体水素化触媒対助触媒の比は、１：（２０～５５０）、好ましくは１：（２０～５００）、より好ましくは１：（２５～４７５）、さらにより好ましくは１：（２５～４５０）、最も好ましくは１：（３０～４５０）である。

水素化触媒組成物の調製は、使用される触媒を失活させず、且つまた決して水素化に悪影響を及ぼさない好適な溶媒の存在又は不在下で実施することができる。好ましくは、有機溶媒は、錯体水素化触媒を溶解させるために使用される。より好ましい溶媒には、ジクロロメタン、ベンゼン、トルエン、メチルエチルケトン、アセトン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン、シクロヘキサン及びクロロベンゼンが含まれるが、それらに限定されない。特に好ましい溶媒は、クロロベンゼン及びメチルエチルケトンである。典型的には、ビニル化合物は、錯体水素化触媒の溶液に添加される。

新規な水素化触媒組成物の形成は、水素を反応系に持ち込む前に行われる。

本発明による方法の工程ｂ）：
その後、ニトリルゴムの水素化は、ニトリルゴムを、水素及び本方法の工程ａ）において形成された水素化触媒組成物と接触させることによって実施される。

水素化は、６０℃～２００℃、好ましくは８０℃～１８０℃、最も好ましくは１００℃～１６０℃の範囲の温度及び０．５ＭＰａ～３５ＭＰａ、より好ましくは３．０ＭＰａ～１０ＭＰａの範囲の水素圧力で実施することが好ましい。

好ましくは、ニトリルゴムの水素化時間は、１０分間～２４時間、好ましくは１５分間～２０時間、より好ましくは３０分間～１２時間、さらにより好ましくは１時間～８時間、最も好ましくは１時間～４時間である。

ニトリルゴムを基準とした、水素化工程ｂ）において存在する水素化触媒組成物の量は、幅広い範囲、好ましくは使用されるニトリルゴムを基準として１～１，０００ｐｐｍ、好ましくは２～５００ｐｐｍ、特に５～２５０ｐｐｍのルテニウム又はオスミウムが存在するように選択することができる。

本方法の代替的な実施形態では、新規な水素化触媒組成物の調製及びその後の水素化前にメタセシス反応を行うことが可能である。そのような代替的な方法（本明細書では、以下で「タンデム方法」とも言う）は、上に記載された工程ａ）及びｂ）前にメタセシス工程を行うことを含む。

これは、そのような代替的な方法が、まず、中心金属としてのルテニウム又はオスミウムをベースとし、且つカルベン様にルテニウム又はオスミウム中心金属に結合されている少なくとも１つの配位子を有する錯体水素化触媒と、ニトリルゴムとをコオレフィンの不在又は存在下で接触させることを含む、メタセシス反応における分子量低下に、ニトリルゴムをかける工程と、その後、
ａ）メタセシス反応後に得られた反応混合物中に存在する錯体水素化触媒を、少なくとも１つのビニル基を有する少なくとも１つの助触媒と、１：（２０～５５０）の範囲の錯体水素化触媒対助触媒のモル比で接触させて、水素化触媒組成物を形成する工程と、その後、
ｂ）水素化触媒組成物の存在下、水素で前記ニトリルゴムを水素化する工程と
を含むことを意味する。

タンデム方法のメタセシス工程：
タンデム方法の第１の工程としてのＮＢＲメタセシスは、コオレフィンの不在又は存在下で実施することができる。

このコオレフィンは、好ましくは、直鎖状又は分岐状のＣ_２～Ｃ_１６－オレフィンである。好適なコオレフィンは、例えば、エチレン、プロピレン、イソブテン、スチレン、１－ヘキセン及び１－オクテンである。１－ヘキセン又は１－オクテンを使用することが特に好ましい。

代替において、以下の官能化コオレフィン：

を使用することができる。

コオレフィンが液体である場合、コオレフィンの量は、好ましくは、使用されるニトリルゴムを基準として０．２～２０重量％の範囲である。例えば、エチレンの場合のように、コオレフィンがガスである場合、コオレフィンの量は、１×１０^５Ｐａ～１×１０^７Ｐａの範囲の圧力、好ましくは５．２×１０^５Ｐａ～４×１０^６Ｐａの範囲の圧力が室温で反応容器において確立されるように選択される。

メタセシス反応は、使用される触媒を失活させず、且つまた決して反応に悪影響を及ぼさない好適な溶媒中で実施することができる。好ましい溶媒には、ジクロロメタン、ベンゼン、トルエン、メチルエチルケトン、アセトン、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサン、シクロヘキサン及びクロロベンゼンが含まれるが、それらに限定されない。特に好ましい溶媒は、クロロベンゼンである。コオレフィン自体が溶媒として機能することができるいくつかの場合、例えば１－ヘキセンの場合、さらなる追加の溶媒の添加は、なしですますことができる。

本発明によるタンデム方法のメタセシス工程において使用されるニトリルゴムを基準とする触媒の量は、具体的な錯体水素化触媒の性質及び触媒活性に依存する。使用される触媒の量は、通常、使用されるニトリルゴムを基準として１～１，０００ｐｐｍ、好ましくは２～５００ｐｐｍ、特に５～２５０ｐｐｍの貴金属である。

材料の反応混合物で使用されるニトリルゴムの濃度は、厳密なものではないが、当然のことながら、その反応に、反応混合物の粘度が過度に高く、それに伴って混合の問題が起きることによって悪影響を与えないようにするべきである。反応混合物中のＮＢＲの濃度は、全反応混合物を基準にして好ましくは１～２５重量％の範囲、特に好ましくは５～２０重量％の範囲である。

メタセシス分解は、通常、１０℃～１５０℃の範囲の温度、好ましくは２０℃～８０℃の範囲の温度で実施される。

メタセシス反応時間は、多数の因子、例えば使用されるＮＢＲのタイプ、触媒のタイプ、触媒濃度及びコオレフィン濃度並びに反応温度に依存する。クロスメタセシスの進行は、標準的な分析方法により、例えばＧＰＣ測定又は粘度の測定によりモニターすることができる。反応は、典型的には、標準条件下で約１５分～６時間行われることを許容される。触媒の失活によって反応が止まるまでメタセシス反応を行うことも可能である。

そのようなメタセシス工程後、メタセシス触媒を含有する反応混合物が取り出され、一般式（１）又は（２）を有する助触媒と接触される。典型的には、助触媒は、好ましくは、メタセシスが行われた同じ溶媒中で反応混合物に単に添加される。

タンデム方法におけるメタセシス後の新規な水素化触媒組成物の調製のための適切な温度は、－２０℃～１６０℃の範囲、好ましくは１０℃～８０℃の範囲でも選択することができる。ビニル基含有助触媒を使用するそのようなタンデム反応におけるその後の水素化反応のための水素化触媒組成物の調製のための好適な時間は、約５分～４８時間の範囲である。好ましい時間は、１０分～１２時間の範囲である。

ニトリルゴムのその後の水素化は、水素化反応について上に記載されたものと同じ方法で実施することができる。

本発明の１つの大きい利点は、使用する水素化触媒組成物が極めて高活性であることであり、そのため、最終的なＨＮＢＲ製品中に残存する触媒が十分に低く、触媒金属を除去又はリサイクルする工程を軽減するか又はさらに必要としないようにすることができる。しかしながら、所望の程度により、本発明の方法において使用した触媒を除去し得る。そのような除去は、例えば、欧州特許出願公開第Ａ－２ ０７２ ５３２Ａ１号明細書及び欧州特許出願公開第Ａ－２ ０７２ ５３３Ａ１号明細書に記載されているように、イオン交換樹脂を使用することによって実施することができる。水素化反応の完了後に得られた反応混合物を取り出し、窒素下で４８時間、例えば１００℃においてイオン交換樹脂で処理し、次いで冷メタノール中で沈殿させることができる。

ニトリルゴム：
本発明の方法において使用されるニトリルゴムは、少なくとも１つのα，β－不飽和ニトリル、少なくとも１つの共役ジエン及び必要に応じて１つ又は複数のさらなる共重合性モノマーのコポリマー又はターポリマーである。

共役ジエンは、いかなる性質のものでもあり得る。（Ｃ_４～Ｃ_６）共役ジエンを使用することが好ましい。１，３－ブタジエン、イソプレン、２，３－ジメチルブタジエン、ピペリレン又はそれらの混合物が特に好ましい。１，３－ブタジエン及びイソプレン又はそれらの混合物が非常に特に好ましい。１，３－ブタジエンがとりわけ好ましい。

α，β－不飽和ニトリルとしては、公知のα，β－不飽和ニトリル、好ましくは（Ｃ_３～Ｃ_５）α，β－不飽和ニトリル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、エタクリロニトリル又はそれらの混合物などを使用することができる。特に好ましいのは、アクリロニトリルである。

したがって、本発明の方法において使用される特に好ましいニトリルゴムは、アクリロニトリル及び１，３－ブタジエンから誘導される繰り返し単位を有するコポリマーである。

共役ジエン及びα，β－不飽和ニトリルとは別に、水素化ニトリルゴムは、当技術分野で公知の１つ又は複数のさらなる共重合性モノマーの繰り返し単位を含み得、そのようなものとしては、例えば、α，β－不飽和（好ましくはモノ不飽和）モノカルボン酸、それらのエステル及びアミド、α，β－不飽和（好ましくはモノ不飽和）ジカルボン酸、それらのモノエステル又はジエステル、さらに前記α，β－不飽和ジカルボン酸に対応する無水物又はアミドなどが挙げられる。

α，β－不飽和モノカルボン酸としては、アクリル酸及びメタクリル酸を使用することが好ましい。

α，β－不飽和モノカルボン酸のエステル、特にアルキルエステル、アルコキシアルキルエステル、アリールエステル、シクロアルキルエステル、シアノアルキルエステル、ヒドロキシアルキルエステル及びフルオロアルキルエステルを使用することもできる。

アルキルエステルとしては、好ましくはα，β－不飽和モノカルボン酸のＣ_１～Ｃ_１８アルキルエステル、より好ましくはアクリル酸又はメタクリル酸のＣ_１～Ｃ_１８アルキルエステル、例えばメチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレート、ｎ－ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ．－ブチルアクリレート、２－エチル－ヘキシルアクリレート、ｎ－ドデシルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレート、ｎ－ブチルメタクリレート、ｔｅｒｔ．－ブチルメタクリレート及び２－エチルヘキシル－メタクリレートが使用される。

アルコキシアルキルエステルとしては、好ましくはα，β－不飽和モノカルボン酸のＣ_２～Ｃ_１８アルコキシアルキルエステル、より好ましくはアクリル酸又はメタクリル酸のアルコキシアルキルエステル、例えばメトキシメチル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート及びメトキシエチル（メタ）アクリレートが使用される。

アリールエステル、好ましくはＣ_６～Ｃ_１４－アリールエステル、より好ましくはＣ_６～Ｃ_１０－アリールエステル、最も好ましくは上述のアクリレート及びメタクリレートのアリールエステルを使用することも可能である。

また別の実施形態では、シクロアルキルエステル、好ましくはＣ_５～Ｃ_１２－、より好ましくはＣ_６～Ｃ_１２－シクロアルキル、最も好ましくは上述のシクロアルキルアクリレート及びメタクリレートが使用される。

シアノアルキルエステル、シアノアルキル基中に２～１２のＣ原子を有する特にアクリル酸シアノアルキル又はメタクリル酸シアノアルキル、好ましくはアクリル酸α－シアノエチル、アクリル酸β－シアノエチル又はメタクリル酸シアノブチルを使用することも可能である。

別の実施形態では、ヒドロキシアルキルエステル、特にヒドロキシルアルキル基中に１～１２のＣ原子を有するアクリル酸ヒドロキシアルキル及びメタクリル酸ヒドロキシアルキル、好ましくはアクリル酸２－ヒドロキシエチル、メタクリル酸２－ヒドロキシエチル又はアクリル酸３－ヒドロキシプロピルも使用される。

フルオロベンジルエステル、特にアクリル酸フルオロベンジル又はメタクリル酸フルオロベンジル、好ましくはアクリル酸トリフルオロエチル及びメタクリル酸テトラフルオロプロピルを使用することも可能である。例えば、アクリル酸ジメチルアミノメチル及びアクリル酸ジエチルアミノエチルのような、置換されたアミノ基を含むアクリレート及びメタクリレートを使用し得る。

α，β－不飽和カルボン酸の他の各種のエステルを使用することもでき、そのようなものとしては、例えば、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、Ｎ－（２－ヒドロキシエチル）アクリルアミド、Ｎ－（２－ヒドロキシメチル）アクリルアミド又はウレタン（メタ）アクリレートが挙げられる。

上述のα，β－不飽和カルボン酸のエステルのすべての混合物も使用することができる。

さらに、α，β－不飽和ジカルボン酸、好ましくはマレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸及びメサコン酸を使用し得る。

また別の実施形態では、α，β－不飽和ジカルボン酸の無水物、好ましくは無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸及び無水メサコン酸が使用される。

さらなる実施形態では、α，β－不飽和ジカルボン酸のモノエステル又はジエステルを使用することもできる。好適なアルキルエステルは、例えば、Ｃ_１～Ｃ_１０－アルキル、好ましくはエチル－、ｎ－プロピル－、ｉｓｏ－プロピル、ｎ－ブチル－、ｔｅｒｔ．－ブチル、ｎ－ペンチル－又はｎ－ヘキシルのモノエステル又はジエステルである。好適なアルコキシアルキルエステルは、例えば、Ｃ_２～Ｃ_１２アルコキシアルキル、好ましくはＣ_３～Ｃ_８－アルコキシアルキルのモノエステル又はジエステルである。好適なヒドロキシアルキルエステルは、例えば、Ｃ_１～Ｃ_１２ヒドロキシアルキル、好ましくはＣ_２～Ｃ_８－ヒドロキシアルキルのモノエステル又はジエステルである。好適なシクロアルキルエステルは、例えば、Ｃ_５～Ｃ_１２－シクロアルキル、好ましくはＣ_６～Ｃ_１２－シクロアルキルのモノエステル又はジエステルである。好適なアルキルシクロアルキルエステルは、例えば、Ｃ_６～Ｃ_１２－アルキルシクロアルキル、好ましくはＣ_７～Ｃ_１０－アルキルシクロアルキルのモノエステル又はジエステルである。好適なアリールエステルは、例えば、Ｃ_６～Ｃ_１４－アリール、好ましくはＣ_６～Ｃ_１０－アリールのモノエステル又はジエステルである。

α，β－エチレン性不飽和ジカルボン酸モノエステルモノマーの明白な例としては、以下のものが挙げられる：
・マレイン酸モノアルキルエステル、好ましくはマレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノプロピル及びマレイン酸モノ－ｎ－ブチル；
・マレイン酸モノシクロアルキルエステル、好ましくはマレイン酸モノシクロペンチル、マレイン酸モノシクロヘキシル及びマレイン酸モノシクロヘプチル；
・マレイン酸モノアルキルシクロアルキルエステル、好ましくはマレイン酸モノメチルシクロペンチル及びマレイン酸モノエチルシクロヘキシル；
・マレイン酸モノアリールエステル、好ましくはマレイン酸モノフェニル；
・マレイン酸モノベンジルエステル、好ましくはマレイン酸モノベンジル；
・フマル酸モノアルキルエステル、好ましくはフマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル酸モノプロピル及びフマル酸モノ－ｎ－ブチル；
・フマル酸モノシクロアルキルエステル、好ましくはフマル酸モノシクロペンチル、フマル酸モノシクロヘキシル及びフマル酸モノシクロヘプチル；
・フマル酸モノアルキルシクロアルキルエステル、好ましくはフマル酸モノメチルシクロペンチル及びフマル酸モノエチルシクロヘキシル；
・フマル酸モノアリールエステル、好ましくはフマル酸モノフェニル；
・フマル酸モノベンジルエステル、好ましくはフマル酸モノベンジル；
・シトラコン酸モノアルキルエステル、好ましくはシトラコン酸モノメチル、シトラコン酸モノエチル、シトラコン酸モノプロピル及びシトラコン酸モノ－ｎ－ブチル；
・シトラコン酸モノシクロアルキルエステル、好ましくはシトラコン酸モノシクロペンチル、シトラコン酸モノシクロヘキシル及びシトラコン酸モノシクロヘプチル；
・シトラコン酸モノアルキルシクロアルキルエステル、好ましくはシトラコン酸モノメチルシクロペンチル及びシトラコン酸モノエチルシクロヘキシル；
・シトラコン酸モノアリールエステル、好ましくはシトラコン酸モノフェニル；
・シトラコン酸モノベンジルエステル、好ましくはシトラコン酸モノベンジル；
・イタコン酸モノアルキルエステル、好ましくはイタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコン酸モノプロピル及びイタコン酸モノ－ｎ－ブチル；
・イタコン酸モノシクロアルキルエステル、好ましくはイタコン酸モノシクロペンチル、イタコン酸モノシクロヘキシル及びイタコン酸モノシクロヘプチル；
・イタコン酸モノアルキルシクロアルキルエステル、好ましくはイタコン酸モノメチルシクロペンチル及びイタコン酸モノエチルシクロヘキシル；
・イタコン酸モノアリールエステル、好ましくはイタコン酸モノフェニル；
・イタコン酸モノベンジルエステル、好ましくはイタコン酸モノベンジル。

α，β－エチレン性不飽和ジカルボン酸ジエステルモノマーとしては、上に明記したモノエステルモノマーをベースとした類似のジエステルを使用し得るが、しかしながら、酸素原子を介してＣ＝Ｏ基に結合される２つの有機基は、同一であるか又は異なり得る。

さらなるターモノマーとしては、ビニル芳香族モノマー、例えばスチロール、α－メチルスチロール及びビニルピリジン、さらに非共役ジエン、例えば４－シアノシクロヘキセン及び４－ビニルシクロヘキセン、さらにアルキン、例えば１－若しくは２－ブチンを使用し得る。

さらなるターモノマーとして、一般式（Ｉ）

（式中、Ｒは、水素又は分岐若しくは非分岐のＣ_１～Ｃ_２０－アルキル、好ましくはメチル、エチル、ブチル又はエチルヘキシルであり、ｎは、１～８、好ましくは２～８、より好ましくは２～５、最も好ましくは３であり、Ｒ^１は、水素又はＣＨ_３－である）
のＰＥＧアクリレートに由来するＰＥＧアクリレートモノマーを使用することができる。

本発明に関連して、「（メタ）アクリレート」という用語は、「アクリレート」及び「メタクリレート」を表す。一般式（Ｉ）中のＲ^１基がＣＨ_３－である場合、この分子は、メタクリレートである。「ポリエチレングリコール」という用語又は「ＰＥＧ」という略語は、１つの繰り返しエチレングリコール単位を有するモノエチレングリコールセクション（ＰＥＧ－１；ｎ＝１）及び２～８つの繰り返しエチレングリコール単位を有するポリエチレングリコールセクション（ＰＥＧ－２～ＰＥＧ－８；ｎ＝２～８）の両方を表す。「ＰＥＧアクリレート」という用語は、ＰＥＧ－Ｘ－（Ｍ）Ａ（ここで、「Ｘ」は、繰り返しエチレングリコール単位の数を表し、「ＭＡ」は、メタクリレートを表し、「Ａ」は、アクリレートを表す）とも略記される。一般式（Ｉ）のＰＥＧアクリレートに由来するアクリレートモノマーは、「ＰＥＧアクリレートモノマー」と言われる。

好ましいＰＥＧアクリレートモノマーは、以下の式番号１～番号１０（ここで、ｎは、１、２、３、４、５、６、７又は８、好ましくは２、３、４、５、６、７又は８、より好ましくは３、４、５、６、７又は８、最も好ましくは３である）から選択される。

メトキシポリエチレングリコールアクリレート（式番号３）についての他の一般に使用される名前は、例えば、ポリ（エチレングリコール）メチルエーテルアクリレート、アクリロイル－ＰＥＧ、メトキシ－ＰＥＧアクリレート、メトキシポリ（エチレングリコール）モノアクリレート、ポリ（エチレングリコール）モノメチルエーテルモノアクリレート又はｍＰＥＧアクリレートである。

特に好ましいのは、以下に示す式：

（式中、
Ｒ^１は、水素又はメチル基であり、及び
Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５は、同一であるか又は異なり、且つＨ、Ｃ_１～Ｃ_１２アルキル、アルコキシアルキル、ヒドロキシアルキル、エポキシアルキル、アリール、ヘテロアリールを表し得る）
から選択されるターモノマーである。

使用されるＮＢＲポリマー中での共役ジエンとα，β－不飽和ニトリルとの比率は、広い範囲で変化させることができる。単一の共役ジエン又は共役ジエンを合計したものの比率は、全ポリマーを基準にして、通常、４０～９０重量％の範囲、好ましくは６０～８５重量％の範囲である。単一のα，β－不飽和ニトリル又はα，β－不飽和ニトリルを合計したものの比率は、全ポリマーを基準にして、通常、１０～６０重量％、好ましくは１５～４０重量％である。いずれの場合にも、モノマーの比率を合計したものが１００重量％となる。追加のモノマーは、全ポリマーを基準にして０～４０重量％、好ましくは０．１～４０重量％、特に好ましくは１～３０重量％の量で存在し得る。この場合、単一若しくは複数の共役ジエン及び／又は単一若しくは複数のα，β－不飽和ニトリルの相当する比率を追加のモノマーの比率で置き換え、それぞれの場合において全部のモノマーの比率を合計して１００重量％とする。

上述のモノマーの重合によるニトリルゴムの調製は、当業者に十分に公知であり、文献に包括的に記載されている。本発明の目的のために使用することができるニトリルゴムは、例えば、ＡＲＬＡＮＸＥＯ Ｄｅｕｔｓｃｈｌａｎｄ ＧｍｂＨのＰｅｒｂｕｎａｎ（登録商標）及びＫｒｙｎａｃ（登録商標）銘柄の製品範囲からの製品としても市販されている。

水素化されるニトリルゴムは、１～７５、好ましくは５～５０の範囲の、ＡＳＴＭ標準Ｄ １６４６に従って測定されるムーニー粘度（ＭＬ１＋４＠１００℃）を有する。重量平均分子量Ｍｗは、範囲２，０００～５００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは範囲２０，０００～４００，０００ｇ／ｍｏｌである。ニトリルゴムは、範囲１～５の多分散性ＰＤＩ＝Ｍｗ／Ｍｎ（ここで、Ｍｗは、重量平均分子量であり、Ｍｎは、数平均分子量である）を有する。

本発明による水素化触媒組成物を調製するために使用されるルテニウム又はオスミウムベースの触媒のメタセシス活性は、本発明の水素化触媒組成物に存在しないため、水素化後に得られた水素化ニトリルゴムの分子量は、元のＮＢＲ供給原料に匹敵し、水素化中にさらに低下しない。

そのため、範囲２，０００～５００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは範囲２０，０００～４００，０００ｇ／ｍｏｌの重量平均分子量の水素化ニトリルゴムが得られる。水素化ニトリルゴムの、ＡＳＴＭ標準Ｄ １６４６に従って測定されるムーニー粘度（ＭＬ１＋４＠１００℃）は、１～１５０、好ましくは１０～１００の範囲である。多分散性ＰＤＩ＝Ｍｗ／Ｍｎ（ここで、Ｍｗは、重量平均分子量であり、Ｍｎは、数平均分子量である）は、範囲１～５、好ましくは範囲１．５～４である。

本発明の目的のために、水素化は、少なくとも５０％、好ましくは７０～１００％、より好ましくは８０～１００％；さらにより好ましくは９０～１００％の程度までの、出発ニトリルゴム中に存在する二重結合の反応である。

タンデム方法において、ニトリルゴムは、まず、コオレフィンの不在下又は存在下で少なくとも１つのルテニウム又はオスミウムベースの触媒を使用して分解される。一般式（１）のビニル化合物は、メタセシス反応が止まったか若しくは完了したときに添加されるか、又はある一定の程度でメタセシスを停止させるために以前に添加されるかのいずれかである。その後、水素ガスを導入することによって水素化を実施して水素化ニトリルゴムを得ることができる。一連のメタセシス、水素化触媒組成物形成及び水素化において、メタセシス度は、完全に制御することができ、最終水素化ニトリルゴムの分子量は、必要に応じて調節できる。タンデム方法においてメタセシスにかけられるニトリルゴムは、典型的には、３０～７５、好ましくは３０～５０の範囲の、ＡＳＴＭ標準Ｄ １６４６に従って測定されるムーニー粘度（ＭＬ１＋４＠１００℃）を有することができる。重量平均分子量は、範囲１５０，０００～５００，０００ｇ／ｍｏｌ、好ましくは範囲１８０，０００～４００，０００ｇ／ｍｏｌである。これらのニトリルゴムは、範囲２～６の多分散性ＰＤＩ＝Ｍｗ／Ｍｎ（ここで、Ｍｗは、重量平均分子量であり、Ｍｎは、数平均分子量である）を有する。

以下の実施例により、本発明をさらに説明するが、本発明は、それらによって限定されることを意図されておらず、実施例におけるすべての部及びパーセントは、特に断らない限り、重量基準である。

実施例において使用される触媒：
触媒（１）～（３）は、Ｕｍｉｃｏｒｅ ＡＧ＆Ｃｏ．ＫＧから購入した。

触媒（１）「Ｍ４１」：［１，３－ビス（２，４，６－トリメチルフェニル）－２－イミダゾリジニリデン］－［２－［［（４－メチルフェニル）イミノ］メチル］－４－ニトロ－フェノールイル］クロロ－［３－フェニル－インデニリデン］ルテニウム（ＩＩ）；分子量：８８８．４６ｇ／ｍｏｌ

触媒（２）「Ｍ４２」：［１，３－ビス（２，４，６－トリメチルフェニル）－２－イミダゾリジニリデン］－［２－［［（２－メチルフェニル）イミノ］メチル］フェノールイル］－［３－フェニル－１Ｈ－インデン－１－イリデン］（クロロ）ルテニウム（ＩＩ）；分子量：８４３．４７ｇ／ｍｏｌ

触媒（３）：「ウィルキンソン（Ｗｉｌｋｉｎｓｏｎ）触媒」：ロジウム（Ｉ）トリス（トリフェニルホスフィン）クロリド；分子量：９２５．２２ｇ／ｍｏｌ

実施例において使用されるニトリルブタジエンゴム：
実施例において使用されるニトリルブタジエンゴムは、表１に概要を示される特性を有する。

エチルビニルエーテル（ＥＶＥ）は、Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈから購入した。

分析試験：
ＧＰＣ試験：見かけの分子量Ｍ_ｎ及びＭ_ｗは、Ｗａｔｅｒｓ １５１５高性能液体クロマトグラフィーポンプ、Ｗａｔｅｒｓ ７１７ｐｌｕｓ オートサンプラー、ＰＬゲル１０μｍ混合Ｂカラム及びＷａｔｅｒｓ ２４１４ＲＩ検出器を備えたＷａｔｅｒｓ ＧＰＣシステムによって求めた。ＧＰＣ試験は、４０℃において、溶出液として流速１ｍＬ／分のＴＨＦを用いて実施し、ＧＰＣカラムは、狭い分子量分布の標準ＰＳを用いて較正した。

ＦＴ－ＩＲ試験：水素化反応前、その間及びその後のニトリルゴムのスペクトルをＰｅｒｋｉｎ Ｅｌｍｅｒ ｓｐｅｃｔｒｕｍ １００ ＦＴ－ＩＲ分光計に記録した。ニトリルブタジエンゴムのＭＣＢ中溶液をＫＢｒディスクの上にキャストして、乾燥させ、試験のための膜を形成させた。水素化変換は、ＡＳＴＭ Ｄ５６７０－９５法に従ってＦＴ－ＩＲ分析により求めた。

略語：
ｐｈｒ：１００ゴム当たり（重量）
ｒｐｍ：１分当たりの回転
Ｍｎ：数平均分子量
Ｍｗ：重量平均分子量
ＰＤＩ：Ｍｗ／Ｍｎと定義される多分散指数
ＰＰｈ_３：トリフェニルホスフィン
ＭＣＢ：モノクロロベンゼン
ＥＶＥ：エチルビニルエーテル
ＲＴ：室温（２２±２℃）

実施例１^＊：（ＥＶＥ前処理なしの触媒（１）を使用する比較例）
触媒（１）（１０．８ｍｇ）をフラスコ中で１５ｍＬの脱ガスＭＣＢに溶解させた。２４７．５ｇのＭＣＢ中の３６ｇのＰｅｒｂｕｎａｎ（登録商標）３４３１ Ｆの溶液（１５重量％のＰｅｒｂｕｎａｎ（登録商標）３４３１ Ｆ濃度）に３０分間６００ｍＬのＰａｒｒオートクレーブ中で窒素をバブリングさせ、次いで１３８℃に加熱した。フラスコ中の触媒溶液を注射器によって反応器中に移した。水素化を８．２７ＭＰａの水素圧力及び８００ｒｐｍの撹拌速度下で行った。サンプルを、ＦＴ－ＩＲ分析のために間隔を置いて反応器から採取して水素化度を測定した。５時間の水素化後、水素化度は、８５．０％に達した。最終分子量及びＰＤＩは、Ｍｎ＝５９，４７１ｇ／ｍｏｌ、Ｍｗ＝１７８，５５２ｇ／ｍｏｌ、ＰＤＩ＝３であった。

実施例２：（発明実施例；助触媒としてのＥＶＥと共に触媒（１）を使用する）
触媒（１）（１０．８ｍｇ）をフラスコ中で１５ｇの脱ガスＭＣＢに溶解させた。エチルビニルエーテル（０．３７５ｍＬ）をフラスコ中に注入し、溶液を２０℃で１２時間撹拌した。２４７．５ｇのＭＣＢ中の３６ｇのＰｅｒｂｕｎａｎ（登録商標）３４３１ Ｆの溶液（１５重量％のＰｅｒｂｕｎａｎ（登録商標）３４３１ Ｆ濃度）に３０分間６００ｍＬのＰａｒｒオートクレーブ中で窒素をバブリングさせ、次いで１３８℃に加熱した。フラスコ中の触媒溶液を注射器によって反応器中に移した。水素化を８．２７ＭＰａの水素圧力及び８００ｒｐｍの撹拌速度下で行った。サンプルを、ＦＴ－ＩＲ分析のために間隔を置いて反応器から採取して水素化度を測定した。５時間の水素化後、水素化度は、９８．１％に達した。最終分子量及びＰＤＩは、Ｍｎ＝６４，２８３ｇ／ｍｏｌ、Ｍｗ＝１８６，３８１ｇ／ｍｏｌ、ＰＤＩ＝２．９であった。

実施例３：（発明実施例；助触媒としてのＥＶＥと共に触媒（２）を使用する）
触媒（２）（１０．８ｍｇ）をフラスコ中で１５ｇの脱ガスＭＣＢに溶解させた。エチルビニルエーテル（０．３７５ｍＬ）をフラスコ中に注入し、溶液を１２時間撹拌した。２４７．５ｇのＭＣＢ中の３６ｇのＰｅｒｂｕｎａｎ（登録商標）３４３１ Ｆの溶液（１５重量％のＰｅｒｂｕｎａｎ（登録商標）３４３１ Ｆ濃度）に３０分間６００ｍＬのＰａｒｒオートクレーブ中で窒素をバブリングさせ、次いで１３８℃に加熱した。フラスコ中の触媒溶液を注射器によって反応器中に移した。水素化を８．２７ＭＰａの水素圧力及び８００ｒｐｍの撹拌速度下で行った。サンプルを、ＦＴ－ＩＲ分析のために間隔を置いて反応器から採取して水素化度を測定した。３時間の水素化後、水素化度は、９８．９％に達した。最終分子量及びＰＤＩは、Ｍｎ＝５７，５５６ｇ／ｍｏｌ、Ｍｗ＝１７０，４１３ｇ／ｍｏｌ、ＰＤＩ＝２．９５であった。

実施例４：（本発明；メタセシス後、水素化反応前に助触媒としてのＥＶＥを添加された触媒（１）を使用する）
触媒（１）（１０．８ｍｇ）をフラスコ中で１５ｍＬの脱ガスＭＣＢに溶解させた。２４７．５ｇのＭＣＢ中の３６ｇのＰｅｒｂｕｎａｎ（登録商標）３４３１ Ｆの溶液（１５重量％のＰｅｒｂｕｎａｎ（登録商標）３４３１ Ｆ濃度）に３０分間６００ｍＬのＰａｒｒオートクレーブ中で窒素をバブリングさせ、フラスコ中の触媒溶液を注射器によって反応器中に移した。３０分後、ＥＶＥ（０．３７５ｍＬ）を注入し、溶液を０．５時間撹拌した。その後、反応器を１３８℃に加熱した。水素化を８．２７ＭＰａの水素圧力及び８００ｒｐｍの撹拌速度下で行った。サンプルを、ＦＴ－ＩＲ分析のために間隔を置いて反応器から採取して水素化度を測定した。５時間の水素化後、水素化度は、９６．６％に達した。最終分子量及びＰＤＩは、Ｍｎ＝６３，０９５ｇ／ｍｏｌ、Ｍｗ＝１６１，１４１ｇ／ｍｏｌ、ＰＤＩ＝２．７６であった。

実施例５^＊：（比較例；触媒（３）を使用する）
２４７．５ｇのＭＣＢ中の３６ｇのＰｅｒｂｕｎａｎ（登録商標）３４３１ Ｆの溶液（１５重量％のＰｅｒｂｕｎａｎ（登録商標）３４３１ Ｆ濃度）に３０分間６００ｍＬのＰａｒｒオートクレーブ中で窒素をバブリングさせ、次いで１３８℃に加熱した。ウィルキンソン触媒（２１．６ｍｇ）及びＰＰｈ_３（０．３６ｇ）を別の１５ｇの脱ガスＭＣＢに溶解させ、次いで反応器中に添加した。水素化を８．２７ＭＰａの水素圧力及び８００ｒｐｍの撹拌速度下で行った。サンプルを、ＦＴ－ＩＲ分析のために間隔を置いて反応器から採取して水素化度を測定した。５時間の水素化後、水素化度は９６．６％に達し、反応器を室温に冷却し、圧力を解いた。

発明実施例２及び３は、助触媒ＥＶＥでの前処理後の水素化度が、助触媒ＥＶＥでの前処理なしの比較例１と比べてより高いことを示す。ＨＮＢＲの分子量及びＰＤＩは、匹敵する範囲内にある。

発明実施例４は、まず、低下した分子量及び低下したＰＤＩをもたらす、前処理なしの触媒（１）で処理した。反応をＥＶＥの添加によって停止させ、次いでＮＢＲを比較例１よりも高い程度で水素化した。

比較例５は、比較のためのメタセシス活性なしの周知の水素化触媒を使用する水素化を示す。本発明実施例２、３及び４は、すべてこの標準ウィルキンソン水素化触媒よりも５時間後に高い水素化度を示す。

Claims (8)

1. ニトリルゴムを水素化するための方法であって、
   ａ）一般式（ＩＡ）又は（ＩＢ）
   〔式中、
   Ｍは、ルテニウムであり；
   ｚは、酸素であり；
   Ｒ ^ＩＩ 及びＲ ^ＩＩＩ は、一緒になってアリール若しくはヘテロアリール基を形成し、前記Ｒ ^ＩＩ 及びＲ ^ＩＩＩ はそれぞれ、（水素と異なる場合には）、ハロゲン原子、Ｃ_１～６アルキル、Ｃ_１～６アルコキシ、アリール、アルキルスルホネート、アリールスルホネート、アルキルホスホネート、アリールホスホネート、Ｃ_１～６アルキル－Ｃ_１～６アルコキシシリル、Ｃ_１～６アルキル－アリールオキシシリル、Ｃ_１～６アルキル－Ｃ_３～１０シクロアルコキシシリル、アルキルアンモニウム及びアリールアンモニウムからなる群からそれぞれ独立して選択される１つ以上の置換基Ｒ^５で任意選択的に置換されていてよく；
   Ｒ ^Ｉ は、前記一般式（ＩＡ）を有する化合物に含まれる場合、メチル、フェニル若しくは置換フェニル（例えば、ジメチルブロモフェニル若しくはジイソプロピルフェニル）であるか、又は前記一般式（ＩＢ）を有する化合物に含まれる場合、メチレン若しくはベンジリデンであるかのいずれかであり；
   Ｒ^１は、一般式（ＩＩａ）又は（ＩＩｂ）
   （式中、
   Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１は、同一であるか又は異なり、且つ水素、直鎖状又は分岐状のＣ_１～Ｃ_３０－アルキル、Ｃ_３～Ｃ_２０－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルキニル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール、Ｃ_７～Ｃ_２５－アルカリール、Ｃ_２～Ｃ_２０ヘテロアリール、Ｃ_２～Ｃ_２０ヘテロシクリル、Ｃ_１～Ｃ_２０－アルコキシ、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルケニルオキシ、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルキニルオキシ、Ｃ_６～Ｃ_２０－アリールオキシ、Ｃ_２～Ｃ_２０－アルコキシカルボニル、Ｃ_１～Ｃ_２０－アルキルチオ、Ｃ_６～Ｃ_２０－アリールチオ、－Ｓｉ（Ｒ）_３、－Ｏ－Ｓｉ（Ｒ）_３、－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、Ｃ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ）_２、－ＮＲ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｎ（Ｒ）_２、－ＳＯ_２Ｎ（Ｒ）_２、－Ｓ（＝Ｏ）Ｒ、－Ｓ（＝Ｏ）_２Ｒ、－Ｏ－Ｓ（＝Ｏ）_２Ｒ、ハロゲン、ニトロ又はシアノを表し；ここで、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１の意義に関連する前記場合の全てにおいて、基Ｒは、同一であるか又は異なり、且つ水素、アルキル、シクロアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又はヘテロアリールを表す）
   に相当する構造を有する、電子供与性の錯体配位子であり；
   Ｒ^２は、水素、ハロゲン、擬ハロゲン、直鎖状又は分岐状のＣ_１～Ｃ_３０－アルキル、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリール、Ｃ_１～Ｃ_２０－アルコキシ、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリールオキシ、Ｃ_３～Ｃ_２０－アルキルジケトネート、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリールジケトネート、Ｃ_１～Ｃ_２０－カルボキシレ－ト、Ｃ_１～Ｃ_２０－アルキルスルホネート、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリールスルホネート、Ｃ_１～Ｃ_２０－アルキルチオール、Ｃ_６～Ｃ_２４－アリールチオール、Ｃ_１～Ｃ_２０－アルキルスルホニル又はＣ_１～Ｃ_２０－アルキルスルフィニルからなる群から選択される、アニオン性配位子であり；
   Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ、水素、又はＣ_１～２０アルキル、Ｃ_２～２０アルケニル、Ｃ_２～２０アルキニル、Ｃ_１～２０カルボキシレ－ト、Ｃ_１～２０アルコキシ、Ｃ_２～２０アルケニルオキシ、Ｃ_２～２０アルキニルオキシ、アリール、アリールオキシ、Ｃ_１～２０アルコキシカルボニル、Ｃ_１～８アルキルチオ、Ｃ_１～２０アルキルスルホニル、Ｃ_１～２０アルキルスルフィニル、Ｃ_１～２０アルキルスルホネート、アリールスルホネート、Ｃ_１～２０アルキルホスホネート、アリールホスホネート、Ｃ_１～２０アルキルアンモニウム及びアリールアンモニウムからなる群から選択される基であるか；又は
   Ｒ^３及びＲ^４は、一緒になって、式（ＶＩ）
   を有する縮合芳香族環系を形成し；及び
   ｙは、０である〕
   の錯体水素化触媒を、一般式（１）
   ＣＨ_２＝ＣＲＲ’ （１）
   ［式中、Ｒは、水素であり、Ｒ’は、ＯＲ^１
   〔式中、
   Ｒ^１は、Ｃ_１～Ｃ_６－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_６－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_６－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_６－アルキニル、フェニル、イミダゾリル、トリアゾリル若しくはピリジニル、－Ｃ（＝Ｏ）（Ｒ^２）、－Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ^２）_２、－［（ＣＨ_２）_ｎＯ］_ｍＲ^２、－［（ＣＨ_２）_ｎＯ］_ｍ－ＣＨ＝ＣＨ_２又は－（ＣＨ_２）_ｐ－Ｃ（Ｒ^３）_２Ｒ^４
   （式中
   Ｒ^２は、同一であるか又は異なり、且つＨ、Ｃ_１～Ｃ_６－アルキル、Ｃ_５～Ｃ_８－シクロアルキル、Ｃ_２～Ｃ_８－アルケニル、Ｃ_２～Ｃ_８－アルキニル、フェニル、イミダゾリル、トリアゾリル又はピリジニルを表し、
   Ｒ^３は、同一であるか又は異なり、且つメチル、エチル又は－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２を表し、
   Ｒ^４は、－（ＣＨ_２）_ｐ－Ｏ－ＣＨ＝ＣＨ_２を表し、
   ｎは、１又は２であり、
   ｍは、１、２又は３であり、及び
   ｐは、０、１又は３である）
   を意味する〕
   を表す］
   の少なくとも１つの助触媒と、１：（２０～５５０）の範囲の前記錯体水素化触媒対前記助触媒のモル比で接触させることによって、水素化触媒組成物を調製する工程と、その後、
   ｂ）工程ａ）において形成された前記水素化触媒組成物の存在下で、水素で前記ニトリルゴムを水素化する工程と
   を含む方法。
2. 前記助触媒が、式（助触媒－１）～（助触媒－７）及び（助触媒－１０）～（助触媒－１２）
   からなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
3. Ｒ^３及びＲ^４は、一緒になって、式（ＶＩ）
   を有する縮合芳香族環系を形成する、請求項１又は２のいずれか一項に記載の方法。
4. 工程ａ）において、
   （ｉ）［１，３－ビス（２，４，６－トリメチルフェニル）－２－イミダゾリジニリデン］－［２－［［（４－メチルフェニル）イミノ］メチル］－４－ニトロ－フェノールイル］クロロ－［３－フェニル－インデニリデン］ルテニウム（ＩＩ）、又は
   （ｉｉ）［１，３－ビス（２，４，６－トリメチルフェニル）－２－イミダゾリジニリデン］－［２－［［（２－メチルフェニル）イミノ］メチル］－フェノールイル］－［３－フェニル－１Ｈ－インデン－１－イリデン］（クロロ）ルテニウム（ＩＩ）
   が、錯体水素化触媒として使用される、請求項１～３のいずれか一項に記載の方法。
5. 工程ａ）が、－２０℃～１６０℃の範囲の温度で行われる、請求項１～４のいずれか一項に記載のニトリルゴムを水素化するための方法。
6. 工程ａ）における錯体水素化触媒対助触媒の前記モル比が、１：（２０～５００）である、請求項１～５のいずれか一項に記載のニトリルゴムを水素化するための方法。
7. 工程ｂ）における前記水素化が、６０℃～２００℃の範囲の温度、及び０．５ＭＰａ～３５ＭＰａの範囲の水素圧力で実施される、請求項１～６のいずれか一項に記載のニトリルゴムを水素化するための方法。
8. 前記ニトリルゴムが、まず、前記ニトリルゴムをコオレフィンの不在又は存在下で前記一般式（ＩＡ）又は（ＩＢ）の錯体水素化触媒と接触させることを含む、メタセシス反応における分子量低下にかけられ、次いで、
   ａ）前記メタセシス反応後に得られた反応混合物中に存在する前記錯体水素化触媒を、前記一般式（１）の少なくとも１つの助触媒と、１：（２０～５５０）の範囲の前記錯体水素化触媒対前記助触媒のモル比で接触させて、水素化触媒組成物を形成する工程と、その後、
   ｂ）工程ａ）で形成された前記水素化触媒組成物の存在下において水素で前記ニトリルゴムを水素化する工程と
   にかけられる、請求項１～７のいずれか一項に記載のニトリルゴムを水素化するための方法。

Images