JP2004241586A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】マイクロローディング効果を用いてシリコン基板をエッチングしても、パターンの密な部分と、疎な部分とで充分なトレンチの深さの差が付かないという問題がある。
【解決手段】マイクロローディング効果によって基板をエッチングするためのハードマスクを形成し、半導体基板とエッチングの選択比が大きく取れるエッチング方法を用いて、容易に深さの異なるトレンチを形成することができる。
【選択図】図1
【解決手段】マイクロローディング効果によって基板をエッチングするためのハードマスクを形成し、半導体基板とエッチングの選択比が大きく取れるエッチング方法を用いて、容易に深さの異なるトレンチを形成することができる。
【選択図】図1
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造方法に関し、より詳しくは、シャロートレンチアイソレーションにおいて、深さの異なるトレンチを形成する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の半導体装置の製造方法においては、半導体基板を酸化雰囲気中で加熱し、熱酸化膜を形成して素子分離を行なってきた。例えば、ロコス(Local Oxidation of Silicon:LOCOS)法と呼称される素子分離方法は、長期にわたり広汎に用いられてきた。しかし、近年の素子の微細化に伴い浅い溝(以下、トレンチ)を絶縁物で埋め込むことによって形成されるシャロートレンチアイソレーション(Shallow Trench Isolation :STI)が用いられるようになってきた。シャロートレンチアイソレーションは、まず半導体基板にトレンチを形成し、次にそれを絶縁物で埋め込み平坦化することで形成される。従って、シャロートレンチアイソレーションで素子分離を行なう場合は、まず、半導体基板にトレンチを形成する必要がある。
【0003】
通常、フォトリソグラフィ法とエッチング法においては、レジストパターンを形成し、そのレジストパターンをマスクにしてエッチングを行なっている。しかしながら、基板にトレンチを形成するような厳しい条件のエッチングにおいては、レジストパターン自体が脆弱であり、単独ではマスクとして使用できない場合もある。そこで、窒化膜や酸化膜といった、所謂ハードマスクと呼称されるエッチングマスクが用いられている。
【0004】
これらのハードマスクも、従来のとおりにフォトリソグラフィ法とエッチング法によってパターニングする必要がある。そして、ハードマスクの上にレジストを残したまま、もしくは除去後に、そのハードマスクを用いて半導体基板にトレンチを形成する。そして、トレンチ形成後に、CVD法等により、絶縁物、例えば酸化シリコン膜等で、そのトレンチを埋め込み、更に化学的機械研磨法(Chemical Mechanical Polishing :CMP)で、基板表面を平坦化することでシャロートレンチアイソレーションを実現できる。
【0005】
この様にして形成されるシャロートレンチアイソレーションにおいて、同一基板上に形成するチップ内で、特定領域のみトレンチの深さを変えて、シャロートレンチアイソレーションを行ないたいという要求がある。例えば、フラッシュメモリ等では、メモリセルの密集したコア部ではトレンチを浅く、パターンの疎な周辺部では、トレンチを深くしたいという要求がある。その理由は、コア部では、それ程耐圧は高くなくてもよいが、周辺部では、より高い耐圧が要求されるからである。シャロートレンチアイソレーションでは、トレンチの深さが深いほど耐圧が高い。従って、周辺部では充分な耐圧を保つため、トレンチを深くしなければならない。
【0006】
そこで、コア部でもトレンチの深さを周辺部と同じ深さにすることが考えられる。しかし、コア部でのトレンチは開口幅が狭いため、底面に対する高さの比率であるアスペクト比が高く、後工程のCVD法で充分に絶縁物の埋め込みができず、シームやボイドといった欠陥が生じてしまう。この様な欠陥は、極端な耐圧の劣化を招くため、シャロートレンチアイソレーションにおいては致命的である。
【0007】
その様な劣化を防ぐために、コア部と周辺部とで各々2回のフォトリソグラフィ法とエッチング法を行なって、各々深さの異なるトレンチを形成することも考えられる。しかし、工程が増えてコストが高くなるという問題がある。
【0008】
そのため、コア部と周辺部でトレンチの深さを変える方法として、半導体基板をエッチングする際に、マイクロローディング効果を利用する方法があった。マイクロローディング効果とは、基板等をエッチングする際に、エッチングマスクの開口幅が広い所ではエッチングが早く進行し、逆にエッチングマスクの開口幅が狭い所ではエッチングが遅く進行する効果のことである。
【0009】
マイクロローディング効果は、開口幅が広いほどエッチング材料(エッチャント)が入りやすいため、エッチング材料が多く供給されエッチングが速く進行し、開口幅が狭いほどエッチング材料が入りにくく、エッチング材料が少ししか供給されずエッチングが遅く進行する原理に基づいている。この効果を用いれば、コア部では、トレンチ形成用のマスクの開口幅を狭くして、周辺部では逆にマスクの開口幅を広くすればよい。この様な方法によって、1回のフォトリソグラフィ法とエッチング法で浅いトレンチと深いトレンチが同時に形成できる(例えば、特許文献1参照。)。
【0010】
また、透過率分布の異なる特殊なフォトマスクを用いてフォトリソグラフィを行なって、形成したレジストパターンに厚さの差を生成し、1回のエッチングによって、レジストの薄い所には深いトレンチを形成し、厚い所には浅いトレンチを形成する方法もあった(例えば、特許文献2参照。)。
【0011】
【特許文献1】
特開平6−291178号公報(第2−9頁、第1図)
【0012】
【特許文献2】
特開平11−288924号公報(第2−4頁、第1図)
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開平6−291178号公報のようにマイクロローディング効果を用いてシリコン基板をエッチングしても、パターンの密な部分と、疎な部分とで充分なトレンチの深さの差が付かないという問題がある。フラッシュメモリ等に適用した場合、パターンの密な部分と、疎な部分でのトレンチの深さの差は僅少である。全体的にトレンチが深く形成されてしまうと、密な部分では絶縁物でトレンチを埋め込むのが難しい。また、全体的にトレンチが浅く形成されてしまうと、疎な部分では充分な耐圧が得られない。従って、トレンチの深さに差を付けるための制御が難しい。
【0014】
また、特開平11−288924号公報に記載されている、透過率分布の異なるマスクを用いる方法では、そのマスクをどの様に作成するのかについての開示がない。
【0015】
そこで、本発明の目的は、マイクロローディング効果を利用して、簡便な方法でハードマスクを作成し、そのマスクによって、パターンの密な部分と疎な部分とで、トレンチの深さの差を充分に大きくとれる半導体装置の製造方法を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の一つの側面は、半導体基板上に、第1のエッチング方法に対し基板よりもエッチング速度が遅い第1の膜を形成する第1の工程と、第1の膜上にパターン密度が密な領域と、それよりパターン密度が疎な領域とを含む所定のパターンを形成する第2の工程と、パターン密度が密な領域よりパターン密度が疎な領域でエッチング速度が早い第2のエッチング方法により、パターンをマスクに、第1の膜をエッチングして、パターン密度が密な領域に第1の膜を残し、パターン密度が疎な領域に第1の膜を、パターン密度が密な領域より薄く残すか、もしくは除去する第3の工程と、第1のエッチング方法によりパターンをマスクに、もしくはパターンを除去した後に、第1の膜及び半導体基板とをエッチングして、半導体基板にパターンに対応するトレンチを、パターン密度の密な領域よりパターン密度の疎な領域が深くなるように形成する第4の工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法にある。
【0017】
この様な、半導体装置の製造方法によれば、第1の膜をマイクロローディング効果によって加工してハードマスクを形成するようにしたので、半導体基板とエッチングの選択比が大きく取れるエッチング方法を用いて、深さの異なるトレンチを容易に形成することができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態例を説明する。しかしながら、本発明の保護範囲は、以下の実施の形態例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された発明とその均等物にまで及ぶものである。
【0019】
(第1の実施の形態)
図1は、本発明の第1の実施の形態例を説明するための工程断面図である。図1(1)において、半導体基板、例えばシリコン基板1上にシリコンとのエッチングの選択比が大きい膜、例えばシリコン窒化膜又はシリコン酸化膜、好ましくはシリコン酸化膜2を厚さD0形成し、更にその上にマスクパターン、例えばフォトリソグラフィ法によって加工されたレジストパターン3を形成した断面を示している。また、レジストパターン3は、パターン密度の密な領域Aと、パターン密度が疎な領域Bとに分かれている。レジストパターン3は幅(ライン)がL1であり、この幅は領域A、Bにおいて共通であることを前提に説明を行なう。
しかしながら領域に関わらず、レジストパターンの幅(ライン)は異なっていてもよい。各レジストパターン3の間隔(スペース)は、領域Aにおいては間隔S1とし、領域Bにおいては、間隔S2とする。間隔S1とS2との関係は、S1よりもS2の方が広いこととする。また領域A、Bの開口幅(スペース)も説明を容易にするためS1、S2に限定したが、実際にはこれらに限るものではない。
【0020】
まず、最初の工程について説明する。図1(2)は、レジストパターン3をマスクに誘導結合型エッチング装置等を使用して、シリコン酸化膜2をエッチングした後の断面を示している。具体的なエッチング条件としては、例えば圧力10mTorr、最高RFパワー900W、最低RFパワー150W、四フッ化炭素とアルゴンの流量比が40/200sccmなる条件である。ここで、上記したマイクロローディング効果によって、パターンの密な領域Aでは、シリコン酸化膜2のエッチングは遅く進行し、パターンの疎な領域Bでは、シリコン酸化膜2のエッチングは速く進行する。
図中、D1は領域Aに残存したシリコン酸化膜の膜厚を示し、D2は領域Bに残存したシリコン酸化膜の膜厚を示している。上記した、マイクロローディング効果によって、厚さD1の方が、厚さD2よりも厚く残存している。
【0021】
図1(3)に示すとおり、領域Aでは、残存するシリコン酸化膜が膜厚D1よりも薄い膜厚D3として残存し、領域Bではシリコン酸化膜が完全に、即ち当初の膜厚D0分除去されていてもよい。また、領域B内の特定領域でばらつき等により、エッチングが過剰に進行し(オーバーエッチング)、図示はしないが、基板が若干エッチングされていても問題はない。
【0022】
次の工程については、図1(2)の状態の基板をエッチングする場合と、図1(3)の状態の基板をエッチングする場合に分けて説明する。本工程においては、シリコン基板1のエッチング速度が速く進行し、シリコン酸化膜2のエッチング速度が遅いエッチング方法を用いてエッチングを行なう。この様に、エッチング速度に差を付けるためには、エッチング対象物との選択比が重要である。本実施の形態例では、基板のエッチング条件が、シリコン酸化膜に対し、少なくとも2以上の選択比を有していることが必要である。具体的なエッチング方法としては、例えば、マグネトロンエッチング装置を用いて、圧力70mTorr、RFパワー700W、臭化水素と塩素との流量比が40/10sccmなる条件でエッチングを行なう。この条件でエッチングを行なうと、シリコン基板のエッチング速度は、3500Å/minと速いのに対し、シリコン酸化膜のエッチング速度は、900Å/minと遅い。更に、エッチングの終点を時間制御できる様にマイクロローディング効果を有しない。
【0023】
まず図1(2)の状態の基板をエッチングする場合から説明する。図1(2)において、領域Aに残存していた厚さD1のシリコン酸化膜2は、完全に除去される。また、領域Bに残存していた厚さD2のシリコン酸化膜2は、完全に除去されて基板1が露出し、速い速度で基板1のエッチングが開始される。
【0024】
図1(4)は、上記した領域A、Bをエッチングした結果を表している。図1(4)に示すとおり、領域Aではシリコン酸化膜2は、厚さD0分が完全にエッチング除去され基板が露出した状態になる。また、領域Bにおいては、まず薄く残存していた厚さD2のシリコン酸化膜がエッチング除去されて、シリコン基板1のエッチングが速い速度で開始され、基板が深さD5だけエッチングされている。これは、領域A、Bに各々残存していたシリコン酸化膜2の膜厚の差と、シリコン基板のエッチングとシリコン酸化膜のエッチングの速度差によるものである。領域Bの厚さD2の薄いシリコン酸化膜2が、領域Aに残存していたシリコン酸化膜2の膜厚D1よりも薄いために、領域Bのシリコン酸化膜が先にエッチング除去される。従って、領域Aでまだシリコン酸化膜のエッチングを遅い速度で行なっている間に、領域Bではシリコン基板1のエッチングが速い速度で開始される。その結果、領域Bではシリコン基板1のエッチングが、深さD5程度まで進行する。
【0025】
次に、図1(3)の状態の基板をエッチングする場合について、領域A、Bに分けて説明する。まず、図1(3)の領域Aにおいては、薄く残存していたシリコン酸化膜D3は、完全にエッチング除去されて、図1(4)の領域Aに示すとおり、シリコン基板が露出する。また、図1(3)の領域Bにおいては、既にシリコン基板1が露出しているので、シリコン基板のエッチングが速い速度で開始される。その結果図1(4)の領域Bに示すとおり、深さD5程度まで基板がエッチングされる。
【0026】
更に、図1(4)の状態の基板を、上記したエッチング方法、即ちシリコン基板1のエッチンク速度が速く進行し、シリコン酸化膜2のエッチング速度が遅いエッチング方法を用いてエッチングを継続した結果を図1(5)に示す。この図においても、領域A、Bに分けて説明する。
【0027】
領域Aにおいては、基板が露出した時点からエッチングが継続され、深さD7のトレンチが形成される。また、領域Bにおいては領域Aよりも深い深さD8のトレンチが形成される。この結果、深さXだけ深さの異なる2種類のトレンチを同時に形成することができる。
【0028】
図2は、第1の実施の形態の変形例を説明するための図である。図1と共通の部分には、同一の符号を用いている。まず、図2(1)は、図1(2)と同一の構造を示している。即ち、シリコン基板1上に、シリコン酸化膜2が形成され、レジストパターン3をマスクにして、マイクロローディング効果を利用したエッチングが完了した状態を示している。パターンの密な領域Aには膜厚D1、パターンの疎な領域Bには膜厚D2のシリコン酸化膜が残存し、D1の方が、D2よりも厚い関係を有している。
【0029】
次に、図2(2)に示すとおり、レジストパターン3を除去する。この状態の基板を、上記したエッチング方法、即ちシリコン基板1のエッチンク速度が速く進行し、シリコン酸化膜2のエッチング速度が遅いエッチング方法を用いてエッチングを行なう。
【0030】
すると、図2(3)に示すとおり、領域Aには深さD7のトレンチが形成され、領域Bには深さD8のトレンチが形成される。当然のことながら、本来レジストパターン3が形成されていたシリコン酸化膜もエッチングされてその厚さはD10まで薄くなる。
【0031】
また同様に、図1(3)と同一な構造であっても、レジストパターン3を除去した上で、シリコン基板1のエッチンク速度が速く進行し、シリコン酸化膜2のエッチング速度が遅いエッチング方法を用いてエッチングを行なうことで深さの異なるトレンチを形成することができる。
【0032】
この様に、エッチングマスクとなるシリコン酸化膜をマイクロローディング効果によって加工し、さらにシリコン基板とシリコン酸化膜とをエッチングする際の選択比を大きく取れる条件のエッチング方法を用いてトレンチを形成するので、パターン密度の密な領域と、疎な領域とで、各々深さの異なるトレンチを形成できる。
【0033】
図3は、異なる深さのトレンチを有する基板に、シャロートレンチアイソレーションを形成する方法を示した工程断面図である。図3(1)は、深さの異なるトレンチT1とT2が形成された構造を示している。図3(2)に示すとおり、基板上にプラズマCVD法等によって、絶縁物4、例えばシリコン酸化膜を形成し、トレンチT1とT2とを埋め込む。その後、図3(3)に示すとおり、化学的機械研磨法等で平坦化する。この様にして、深さの異なるシャロートレンチアイソレーション領域T3、T4が形成される。
【0034】
(第2の実施の形態)
図4は、本発明の第2の実施の形態例を説明するための工程断面図である。第1の実施の形態例で、酸化膜単層でハードマスクを作成する例について説明した。しかしながら、図3で説明したようなシャロートレンチアイソレーションでは、化学的機械研磨法のストッパがないため、化学的機械研磨法の終点を検出することが難しかった。そこで、本実施の形態例においては、シャロートレンチアイソレーションにおいて、化学的機械研磨法での終点を、容易に検出できる半導体装置の製造方法について説明する。
【0035】
図4は本発明の第2の実施の形態例を示す工程断面図である。第1の実施の形態例と同一部分には、同一の符号を付与する。
【0036】
図4(1)は、半導体基板、例えばシリコン基板1上に、第1のエッチング方法を用いてエッチングを行なうと、基板よりもエッチング速度が遅い第1の膜、例えばシリコン酸化膜2を厚さD0形成し、更に、第2のエッチング方法でエッチングを行なうと、第1の膜よりもエッチング速度が速く且つ第1の膜もエッチング可能な、第2の膜、例えばシリコン窒化膜5を厚さE0形成した所を示すものである。更にその上には、パターン密度が密な領域とパターン密度が疎な領域とを有するマスクパターン、例えばレジストパターン3が形成されている。また、レジストパターン3の幅(ライン)や、間隔(スペース)は、第1の実施の形態例と同様である。
【0037】
図4(2)及び(3)は、第1の実施の形態例で説明した、レジストパターン3をマスクに誘導結合型エッチング装置等を使用して、シリコン窒化膜5、シリコン酸化膜2を順次エッチングした後の断面を示している。具体的なエッチング条件は、例えば圧力10mTorr、最高RFパワー900W、最低RFパワー150W、四フッ化炭素とアルゴンの流量比が40/200sccmなる条件である。この条件でエッチングすると、領域A、B共に、E0分のシリコン窒化膜5はエッチング除去される。
【0038】
次に、第1の実施の形態例と同様に、図4(2)に示すとおり領域Aでは、膜厚D1のシリコン酸化膜が残置し、領域Bでは、領域Aより薄い膜厚D2のシリコン酸化膜が残置する。これは、第1の実施の形態例で述べたとおり、マイクロローディング効果によるものである。
【0039】
また、図4(3)に示すとおり、領域Aには、膜厚D1より薄い膜厚D3のシリコン酸化膜が残置し、領域Bには、シリコン酸化膜が全て除去されるか、若干過剰にエッチングされていても良い。
【0040】
ここで、第1のエッチング方法、例えば、マグネトロンエッチング装置を用いて、圧力70mTorr、RFパワー700W、臭化水素と塩素との流量比が40/10sccmなる条件でエッチングを行なう。すると、図4(4)の様に領域Aでは、シリコン基板1が露出し、領域Bでは、シリコン基板のエッチングが開始され、深さD5程度に基板がエッチングされる。更にエッチングを継続すると図4(5)の様に領域Aでは、深さD7のトレンチが形成され、領域Bでは、深さD8のトレンチが形成される。その結果、領域Bのトレンチ深さD8の方が領域Aのトレンチ深さD7に比較して、Yだけ深さの深いトレンチが形成される。
【0041】
この様にして、シリコン酸化膜上にシリコン窒化膜を形成しても、第1の実施の形態例と同様に、深さの異なるトレンチを形成できる。
【0042】
次に、これら深さの異なるトレンチを絶縁物で埋め込んでシャロートレンチアイソレーションを形成する工程を説明する。
【0043】
図5は、シリコン窒化膜を化学的機械研磨法でのストッパとして、シャロートレンチアイソレーションを形成する方法を示した工程断面図である。まず、図5(1)に示すとおり、深さの異なるトレンチT3、T4が形成されたシリコン基板から、レジストパターン3を除去する。そして、図5(2)に示すとおり、シリコン基板上に絶縁物4、例えばシリコン酸化膜を、プラズマCVD等によって形成し、深さの異なるトレンチT3、T4を完全に埋め込む。次に、化学的機械研磨法によって、平坦化を行なうが、プラズマCVD等で形成したシリコン酸化膜と、シリコン窒化膜4とは研磨の速度が異なり、シリコン窒化膜の方がシリコン酸化膜よりも削られにくい。従って、シリコン窒化膜が露出した後は、研磨の速度が遅くなるため、何らかの方法で研磨速度をモニタすることによって、終点の検出が容易となる。よって、図5(3)に示すとおり、シリコン窒化膜5が露出した時点で、研磨を終了させることができる。この様にして、深さの異なるシャロートレンチアイソレーション領域T5、T6が形成される。
【0044】
以上、実施の形態例をまとめると以下の付記の通りである。
【0045】
(付記1)半導体装置の製造方法であって、
半導体基板上に、第1のエッチング方法に対し当該基板よりもエッチング速度が遅い第1の膜を形成する第1の工程と、
前記第1の膜上にパターン密度が密な領域と、それよりパターン密度が疎な領域とを含む所定のパターンを形成する第2の工程と、
前記パターン密度が密な領域より前記パターン密度が疎な領域でエッチング速度が早い第2のエッチング方法により、前記パターンをマスクに、前記第1の膜をエッチングして、前記パターン密度が密な領域に前記第1の膜を残し、前記パターン密度が疎な領域に前記第1の膜を、前記パターン密度が密な領域より薄く残すか、もしくは除去する第3の工程と、
前記第1のエッチング方法により前記パターンをマスクに、もしくは前記パターンを除去した後に、前記第1の膜及び前記半導体基板とをエッチングして、当該半導体基板に前記パターンに対応するトレンチを、前記パターン密度の密な領域より前記パターン密度の疎な領域が深くなるように形成する第4の工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【0046】
(付記2)付記1において、
前記半導体基板が、シリコン基板であり、前記第1の膜がシリコン酸化膜又はシリコン窒化膜であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【0047】
(付記3)付記1において、
更に、前記1の工程後に、第2のエッチング方法に対し、前記第1の膜と共にエッチング可能な、第2の膜を形成し、前記第4の工程後に、前記トレンチの形成された前記半導体基板上に、絶縁物を形成して該トレンチを埋め込む工程と、その後、前記半導体基板の表面の前記絶縁膜を、前記第2の膜を終点として該絶縁物を除去して平坦化する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【0048】
(付記4)付記3において、
前記第1の膜がシリコン酸化膜であり、前記第2の膜がシリコン窒化膜であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【0049】
(付記5)付記1において、
更に、前記トレンチの形成された前記半導体基板上に、絶縁物を形成して該トレンチを埋め込む工程と、
その後、前記半導体基板の表面の前記絶縁物を除去して平坦化する工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【0050】
(付記6)付記1において、
前記第1のエッチング方法における前記基板のエッチング条件が、前記第1の膜に対する選択比が2以上を有するプラズマ条件であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【0051】
【発明の効果】
以上、本発明によれば、マイクロローディング効果を利用して、簡便な方法でハードマスクを作成し、そのマスクによって、パターンの密な部分と疎な部分とで、トレンチの深さの差を充分に大きくとれるという顕著な効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態例を説明するための工程断面図である。
【図2】第1の実施の形態の変形例を説明するための図である。
【図3】異なる深さのトレンチを有する基板に、シャロートレンチアイソレーションを形成する方法を示した工程断面図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態例を説明するための工程断面図である。
【図5】シリコン窒化膜を化学的機械研磨法でのストッパとして、シャロートレンチアイソレーションを形成する方法を示した工程断面図である。
【符号の説明】
1 半導体基板
2 シリコン酸化膜
3 レジストパターン
4 絶縁物
5 シリコン窒化膜
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置の製造方法に関し、より詳しくは、シャロートレンチアイソレーションにおいて、深さの異なるトレンチを形成する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の半導体装置の製造方法においては、半導体基板を酸化雰囲気中で加熱し、熱酸化膜を形成して素子分離を行なってきた。例えば、ロコス(Local Oxidation of Silicon:LOCOS)法と呼称される素子分離方法は、長期にわたり広汎に用いられてきた。しかし、近年の素子の微細化に伴い浅い溝(以下、トレンチ)を絶縁物で埋め込むことによって形成されるシャロートレンチアイソレーション(Shallow Trench Isolation :STI)が用いられるようになってきた。シャロートレンチアイソレーションは、まず半導体基板にトレンチを形成し、次にそれを絶縁物で埋め込み平坦化することで形成される。従って、シャロートレンチアイソレーションで素子分離を行なう場合は、まず、半導体基板にトレンチを形成する必要がある。
【0003】
通常、フォトリソグラフィ法とエッチング法においては、レジストパターンを形成し、そのレジストパターンをマスクにしてエッチングを行なっている。しかしながら、基板にトレンチを形成するような厳しい条件のエッチングにおいては、レジストパターン自体が脆弱であり、単独ではマスクとして使用できない場合もある。そこで、窒化膜や酸化膜といった、所謂ハードマスクと呼称されるエッチングマスクが用いられている。
【0004】
これらのハードマスクも、従来のとおりにフォトリソグラフィ法とエッチング法によってパターニングする必要がある。そして、ハードマスクの上にレジストを残したまま、もしくは除去後に、そのハードマスクを用いて半導体基板にトレンチを形成する。そして、トレンチ形成後に、CVD法等により、絶縁物、例えば酸化シリコン膜等で、そのトレンチを埋め込み、更に化学的機械研磨法(Chemical Mechanical Polishing :CMP)で、基板表面を平坦化することでシャロートレンチアイソレーションを実現できる。
【0005】
この様にして形成されるシャロートレンチアイソレーションにおいて、同一基板上に形成するチップ内で、特定領域のみトレンチの深さを変えて、シャロートレンチアイソレーションを行ないたいという要求がある。例えば、フラッシュメモリ等では、メモリセルの密集したコア部ではトレンチを浅く、パターンの疎な周辺部では、トレンチを深くしたいという要求がある。その理由は、コア部では、それ程耐圧は高くなくてもよいが、周辺部では、より高い耐圧が要求されるからである。シャロートレンチアイソレーションでは、トレンチの深さが深いほど耐圧が高い。従って、周辺部では充分な耐圧を保つため、トレンチを深くしなければならない。
【0006】
そこで、コア部でもトレンチの深さを周辺部と同じ深さにすることが考えられる。しかし、コア部でのトレンチは開口幅が狭いため、底面に対する高さの比率であるアスペクト比が高く、後工程のCVD法で充分に絶縁物の埋め込みができず、シームやボイドといった欠陥が生じてしまう。この様な欠陥は、極端な耐圧の劣化を招くため、シャロートレンチアイソレーションにおいては致命的である。
【0007】
その様な劣化を防ぐために、コア部と周辺部とで各々2回のフォトリソグラフィ法とエッチング法を行なって、各々深さの異なるトレンチを形成することも考えられる。しかし、工程が増えてコストが高くなるという問題がある。
【0008】
そのため、コア部と周辺部でトレンチの深さを変える方法として、半導体基板をエッチングする際に、マイクロローディング効果を利用する方法があった。マイクロローディング効果とは、基板等をエッチングする際に、エッチングマスクの開口幅が広い所ではエッチングが早く進行し、逆にエッチングマスクの開口幅が狭い所ではエッチングが遅く進行する効果のことである。
【0009】
マイクロローディング効果は、開口幅が広いほどエッチング材料(エッチャント)が入りやすいため、エッチング材料が多く供給されエッチングが速く進行し、開口幅が狭いほどエッチング材料が入りにくく、エッチング材料が少ししか供給されずエッチングが遅く進行する原理に基づいている。この効果を用いれば、コア部では、トレンチ形成用のマスクの開口幅を狭くして、周辺部では逆にマスクの開口幅を広くすればよい。この様な方法によって、1回のフォトリソグラフィ法とエッチング法で浅いトレンチと深いトレンチが同時に形成できる(例えば、特許文献1参照。)。
【0010】
また、透過率分布の異なる特殊なフォトマスクを用いてフォトリソグラフィを行なって、形成したレジストパターンに厚さの差を生成し、1回のエッチングによって、レジストの薄い所には深いトレンチを形成し、厚い所には浅いトレンチを形成する方法もあった(例えば、特許文献2参照。)。
【0011】
【特許文献1】
特開平6−291178号公報(第2−9頁、第1図)
【0012】
【特許文献2】
特開平11−288924号公報(第2−4頁、第1図)
【0013】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、特開平6−291178号公報のようにマイクロローディング効果を用いてシリコン基板をエッチングしても、パターンの密な部分と、疎な部分とで充分なトレンチの深さの差が付かないという問題がある。フラッシュメモリ等に適用した場合、パターンの密な部分と、疎な部分でのトレンチの深さの差は僅少である。全体的にトレンチが深く形成されてしまうと、密な部分では絶縁物でトレンチを埋め込むのが難しい。また、全体的にトレンチが浅く形成されてしまうと、疎な部分では充分な耐圧が得られない。従って、トレンチの深さに差を付けるための制御が難しい。
【0014】
また、特開平11−288924号公報に記載されている、透過率分布の異なるマスクを用いる方法では、そのマスクをどの様に作成するのかについての開示がない。
【0015】
そこで、本発明の目的は、マイクロローディング効果を利用して、簡便な方法でハードマスクを作成し、そのマスクによって、パターンの密な部分と疎な部分とで、トレンチの深さの差を充分に大きくとれる半導体装置の製造方法を提供することにある。
【0016】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、本発明の一つの側面は、半導体基板上に、第1のエッチング方法に対し基板よりもエッチング速度が遅い第1の膜を形成する第1の工程と、第1の膜上にパターン密度が密な領域と、それよりパターン密度が疎な領域とを含む所定のパターンを形成する第2の工程と、パターン密度が密な領域よりパターン密度が疎な領域でエッチング速度が早い第2のエッチング方法により、パターンをマスクに、第1の膜をエッチングして、パターン密度が密な領域に第1の膜を残し、パターン密度が疎な領域に第1の膜を、パターン密度が密な領域より薄く残すか、もしくは除去する第3の工程と、第1のエッチング方法によりパターンをマスクに、もしくはパターンを除去した後に、第1の膜及び半導体基板とをエッチングして、半導体基板にパターンに対応するトレンチを、パターン密度の密な領域よりパターン密度の疎な領域が深くなるように形成する第4の工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法にある。
【0017】
この様な、半導体装置の製造方法によれば、第1の膜をマイクロローディング効果によって加工してハードマスクを形成するようにしたので、半導体基板とエッチングの選択比が大きく取れるエッチング方法を用いて、深さの異なるトレンチを容易に形成することができる。
【0018】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態例を説明する。しかしながら、本発明の保護範囲は、以下の実施の形態例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された発明とその均等物にまで及ぶものである。
【0019】
(第1の実施の形態)
図1は、本発明の第1の実施の形態例を説明するための工程断面図である。図1(1)において、半導体基板、例えばシリコン基板1上にシリコンとのエッチングの選択比が大きい膜、例えばシリコン窒化膜又はシリコン酸化膜、好ましくはシリコン酸化膜2を厚さD0形成し、更にその上にマスクパターン、例えばフォトリソグラフィ法によって加工されたレジストパターン3を形成した断面を示している。また、レジストパターン3は、パターン密度の密な領域Aと、パターン密度が疎な領域Bとに分かれている。レジストパターン3は幅(ライン)がL1であり、この幅は領域A、Bにおいて共通であることを前提に説明を行なう。
しかしながら領域に関わらず、レジストパターンの幅(ライン)は異なっていてもよい。各レジストパターン3の間隔(スペース)は、領域Aにおいては間隔S1とし、領域Bにおいては、間隔S2とする。間隔S1とS2との関係は、S1よりもS2の方が広いこととする。また領域A、Bの開口幅(スペース)も説明を容易にするためS1、S2に限定したが、実際にはこれらに限るものではない。
【0020】
まず、最初の工程について説明する。図1(2)は、レジストパターン3をマスクに誘導結合型エッチング装置等を使用して、シリコン酸化膜2をエッチングした後の断面を示している。具体的なエッチング条件としては、例えば圧力10mTorr、最高RFパワー900W、最低RFパワー150W、四フッ化炭素とアルゴンの流量比が40/200sccmなる条件である。ここで、上記したマイクロローディング効果によって、パターンの密な領域Aでは、シリコン酸化膜2のエッチングは遅く進行し、パターンの疎な領域Bでは、シリコン酸化膜2のエッチングは速く進行する。
図中、D1は領域Aに残存したシリコン酸化膜の膜厚を示し、D2は領域Bに残存したシリコン酸化膜の膜厚を示している。上記した、マイクロローディング効果によって、厚さD1の方が、厚さD2よりも厚く残存している。
【0021】
図1(3)に示すとおり、領域Aでは、残存するシリコン酸化膜が膜厚D1よりも薄い膜厚D3として残存し、領域Bではシリコン酸化膜が完全に、即ち当初の膜厚D0分除去されていてもよい。また、領域B内の特定領域でばらつき等により、エッチングが過剰に進行し(オーバーエッチング)、図示はしないが、基板が若干エッチングされていても問題はない。
【0022】
次の工程については、図1(2)の状態の基板をエッチングする場合と、図1(3)の状態の基板をエッチングする場合に分けて説明する。本工程においては、シリコン基板1のエッチング速度が速く進行し、シリコン酸化膜2のエッチング速度が遅いエッチング方法を用いてエッチングを行なう。この様に、エッチング速度に差を付けるためには、エッチング対象物との選択比が重要である。本実施の形態例では、基板のエッチング条件が、シリコン酸化膜に対し、少なくとも2以上の選択比を有していることが必要である。具体的なエッチング方法としては、例えば、マグネトロンエッチング装置を用いて、圧力70mTorr、RFパワー700W、臭化水素と塩素との流量比が40/10sccmなる条件でエッチングを行なう。この条件でエッチングを行なうと、シリコン基板のエッチング速度は、3500Å/minと速いのに対し、シリコン酸化膜のエッチング速度は、900Å/minと遅い。更に、エッチングの終点を時間制御できる様にマイクロローディング効果を有しない。
【0023】
まず図1(2)の状態の基板をエッチングする場合から説明する。図1(2)において、領域Aに残存していた厚さD1のシリコン酸化膜2は、完全に除去される。また、領域Bに残存していた厚さD2のシリコン酸化膜2は、完全に除去されて基板1が露出し、速い速度で基板1のエッチングが開始される。
【0024】
図1(4)は、上記した領域A、Bをエッチングした結果を表している。図1(4)に示すとおり、領域Aではシリコン酸化膜2は、厚さD0分が完全にエッチング除去され基板が露出した状態になる。また、領域Bにおいては、まず薄く残存していた厚さD2のシリコン酸化膜がエッチング除去されて、シリコン基板1のエッチングが速い速度で開始され、基板が深さD5だけエッチングされている。これは、領域A、Bに各々残存していたシリコン酸化膜2の膜厚の差と、シリコン基板のエッチングとシリコン酸化膜のエッチングの速度差によるものである。領域Bの厚さD2の薄いシリコン酸化膜2が、領域Aに残存していたシリコン酸化膜2の膜厚D1よりも薄いために、領域Bのシリコン酸化膜が先にエッチング除去される。従って、領域Aでまだシリコン酸化膜のエッチングを遅い速度で行なっている間に、領域Bではシリコン基板1のエッチングが速い速度で開始される。その結果、領域Bではシリコン基板1のエッチングが、深さD5程度まで進行する。
【0025】
次に、図1(3)の状態の基板をエッチングする場合について、領域A、Bに分けて説明する。まず、図1(3)の領域Aにおいては、薄く残存していたシリコン酸化膜D3は、完全にエッチング除去されて、図1(4)の領域Aに示すとおり、シリコン基板が露出する。また、図1(3)の領域Bにおいては、既にシリコン基板1が露出しているので、シリコン基板のエッチングが速い速度で開始される。その結果図1(4)の領域Bに示すとおり、深さD5程度まで基板がエッチングされる。
【0026】
更に、図1(4)の状態の基板を、上記したエッチング方法、即ちシリコン基板1のエッチンク速度が速く進行し、シリコン酸化膜2のエッチング速度が遅いエッチング方法を用いてエッチングを継続した結果を図1(5)に示す。この図においても、領域A、Bに分けて説明する。
【0027】
領域Aにおいては、基板が露出した時点からエッチングが継続され、深さD7のトレンチが形成される。また、領域Bにおいては領域Aよりも深い深さD8のトレンチが形成される。この結果、深さXだけ深さの異なる2種類のトレンチを同時に形成することができる。
【0028】
図2は、第1の実施の形態の変形例を説明するための図である。図1と共通の部分には、同一の符号を用いている。まず、図2(1)は、図1(2)と同一の構造を示している。即ち、シリコン基板1上に、シリコン酸化膜2が形成され、レジストパターン3をマスクにして、マイクロローディング効果を利用したエッチングが完了した状態を示している。パターンの密な領域Aには膜厚D1、パターンの疎な領域Bには膜厚D2のシリコン酸化膜が残存し、D1の方が、D2よりも厚い関係を有している。
【0029】
次に、図2(2)に示すとおり、レジストパターン3を除去する。この状態の基板を、上記したエッチング方法、即ちシリコン基板1のエッチンク速度が速く進行し、シリコン酸化膜2のエッチング速度が遅いエッチング方法を用いてエッチングを行なう。
【0030】
すると、図2(3)に示すとおり、領域Aには深さD7のトレンチが形成され、領域Bには深さD8のトレンチが形成される。当然のことながら、本来レジストパターン3が形成されていたシリコン酸化膜もエッチングされてその厚さはD10まで薄くなる。
【0031】
また同様に、図1(3)と同一な構造であっても、レジストパターン3を除去した上で、シリコン基板1のエッチンク速度が速く進行し、シリコン酸化膜2のエッチング速度が遅いエッチング方法を用いてエッチングを行なうことで深さの異なるトレンチを形成することができる。
【0032】
この様に、エッチングマスクとなるシリコン酸化膜をマイクロローディング効果によって加工し、さらにシリコン基板とシリコン酸化膜とをエッチングする際の選択比を大きく取れる条件のエッチング方法を用いてトレンチを形成するので、パターン密度の密な領域と、疎な領域とで、各々深さの異なるトレンチを形成できる。
【0033】
図3は、異なる深さのトレンチを有する基板に、シャロートレンチアイソレーションを形成する方法を示した工程断面図である。図3(1)は、深さの異なるトレンチT1とT2が形成された構造を示している。図3(2)に示すとおり、基板上にプラズマCVD法等によって、絶縁物4、例えばシリコン酸化膜を形成し、トレンチT1とT2とを埋め込む。その後、図3(3)に示すとおり、化学的機械研磨法等で平坦化する。この様にして、深さの異なるシャロートレンチアイソレーション領域T3、T4が形成される。
【0034】
(第2の実施の形態)
図4は、本発明の第2の実施の形態例を説明するための工程断面図である。第1の実施の形態例で、酸化膜単層でハードマスクを作成する例について説明した。しかしながら、図3で説明したようなシャロートレンチアイソレーションでは、化学的機械研磨法のストッパがないため、化学的機械研磨法の終点を検出することが難しかった。そこで、本実施の形態例においては、シャロートレンチアイソレーションにおいて、化学的機械研磨法での終点を、容易に検出できる半導体装置の製造方法について説明する。
【0035】
図4は本発明の第2の実施の形態例を示す工程断面図である。第1の実施の形態例と同一部分には、同一の符号を付与する。
【0036】
図4(1)は、半導体基板、例えばシリコン基板1上に、第1のエッチング方法を用いてエッチングを行なうと、基板よりもエッチング速度が遅い第1の膜、例えばシリコン酸化膜2を厚さD0形成し、更に、第2のエッチング方法でエッチングを行なうと、第1の膜よりもエッチング速度が速く且つ第1の膜もエッチング可能な、第2の膜、例えばシリコン窒化膜5を厚さE0形成した所を示すものである。更にその上には、パターン密度が密な領域とパターン密度が疎な領域とを有するマスクパターン、例えばレジストパターン3が形成されている。また、レジストパターン3の幅(ライン)や、間隔(スペース)は、第1の実施の形態例と同様である。
【0037】
図4(2)及び(3)は、第1の実施の形態例で説明した、レジストパターン3をマスクに誘導結合型エッチング装置等を使用して、シリコン窒化膜5、シリコン酸化膜2を順次エッチングした後の断面を示している。具体的なエッチング条件は、例えば圧力10mTorr、最高RFパワー900W、最低RFパワー150W、四フッ化炭素とアルゴンの流量比が40/200sccmなる条件である。この条件でエッチングすると、領域A、B共に、E0分のシリコン窒化膜5はエッチング除去される。
【0038】
次に、第1の実施の形態例と同様に、図4(2)に示すとおり領域Aでは、膜厚D1のシリコン酸化膜が残置し、領域Bでは、領域Aより薄い膜厚D2のシリコン酸化膜が残置する。これは、第1の実施の形態例で述べたとおり、マイクロローディング効果によるものである。
【0039】
また、図4(3)に示すとおり、領域Aには、膜厚D1より薄い膜厚D3のシリコン酸化膜が残置し、領域Bには、シリコン酸化膜が全て除去されるか、若干過剰にエッチングされていても良い。
【0040】
ここで、第1のエッチング方法、例えば、マグネトロンエッチング装置を用いて、圧力70mTorr、RFパワー700W、臭化水素と塩素との流量比が40/10sccmなる条件でエッチングを行なう。すると、図4(4)の様に領域Aでは、シリコン基板1が露出し、領域Bでは、シリコン基板のエッチングが開始され、深さD5程度に基板がエッチングされる。更にエッチングを継続すると図4(5)の様に領域Aでは、深さD7のトレンチが形成され、領域Bでは、深さD8のトレンチが形成される。その結果、領域Bのトレンチ深さD8の方が領域Aのトレンチ深さD7に比較して、Yだけ深さの深いトレンチが形成される。
【0041】
この様にして、シリコン酸化膜上にシリコン窒化膜を形成しても、第1の実施の形態例と同様に、深さの異なるトレンチを形成できる。
【0042】
次に、これら深さの異なるトレンチを絶縁物で埋め込んでシャロートレンチアイソレーションを形成する工程を説明する。
【0043】
図5は、シリコン窒化膜を化学的機械研磨法でのストッパとして、シャロートレンチアイソレーションを形成する方法を示した工程断面図である。まず、図5(1)に示すとおり、深さの異なるトレンチT3、T4が形成されたシリコン基板から、レジストパターン3を除去する。そして、図5(2)に示すとおり、シリコン基板上に絶縁物4、例えばシリコン酸化膜を、プラズマCVD等によって形成し、深さの異なるトレンチT3、T4を完全に埋め込む。次に、化学的機械研磨法によって、平坦化を行なうが、プラズマCVD等で形成したシリコン酸化膜と、シリコン窒化膜4とは研磨の速度が異なり、シリコン窒化膜の方がシリコン酸化膜よりも削られにくい。従って、シリコン窒化膜が露出した後は、研磨の速度が遅くなるため、何らかの方法で研磨速度をモニタすることによって、終点の検出が容易となる。よって、図5(3)に示すとおり、シリコン窒化膜5が露出した時点で、研磨を終了させることができる。この様にして、深さの異なるシャロートレンチアイソレーション領域T5、T6が形成される。
【0044】
以上、実施の形態例をまとめると以下の付記の通りである。
【0045】
(付記1)半導体装置の製造方法であって、
半導体基板上に、第1のエッチング方法に対し当該基板よりもエッチング速度が遅い第1の膜を形成する第1の工程と、
前記第1の膜上にパターン密度が密な領域と、それよりパターン密度が疎な領域とを含む所定のパターンを形成する第2の工程と、
前記パターン密度が密な領域より前記パターン密度が疎な領域でエッチング速度が早い第2のエッチング方法により、前記パターンをマスクに、前記第1の膜をエッチングして、前記パターン密度が密な領域に前記第1の膜を残し、前記パターン密度が疎な領域に前記第1の膜を、前記パターン密度が密な領域より薄く残すか、もしくは除去する第3の工程と、
前記第1のエッチング方法により前記パターンをマスクに、もしくは前記パターンを除去した後に、前記第1の膜及び前記半導体基板とをエッチングして、当該半導体基板に前記パターンに対応するトレンチを、前記パターン密度の密な領域より前記パターン密度の疎な領域が深くなるように形成する第4の工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【0046】
(付記2)付記1において、
前記半導体基板が、シリコン基板であり、前記第1の膜がシリコン酸化膜又はシリコン窒化膜であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【0047】
(付記3)付記1において、
更に、前記1の工程後に、第2のエッチング方法に対し、前記第1の膜と共にエッチング可能な、第2の膜を形成し、前記第4の工程後に、前記トレンチの形成された前記半導体基板上に、絶縁物を形成して該トレンチを埋め込む工程と、その後、前記半導体基板の表面の前記絶縁膜を、前記第2の膜を終点として該絶縁物を除去して平坦化する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【0048】
(付記4)付記3において、
前記第1の膜がシリコン酸化膜であり、前記第2の膜がシリコン窒化膜であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【0049】
(付記5)付記1において、
更に、前記トレンチの形成された前記半導体基板上に、絶縁物を形成して該トレンチを埋め込む工程と、
その後、前記半導体基板の表面の前記絶縁物を除去して平坦化する工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
【0050】
(付記6)付記1において、
前記第1のエッチング方法における前記基板のエッチング条件が、前記第1の膜に対する選択比が2以上を有するプラズマ条件であることを特徴とする半導体装置の製造方法。
【0051】
【発明の効果】
以上、本発明によれば、マイクロローディング効果を利用して、簡便な方法でハードマスクを作成し、そのマスクによって、パターンの密な部分と疎な部分とで、トレンチの深さの差を充分に大きくとれるという顕著な効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態例を説明するための工程断面図である。
【図2】第1の実施の形態の変形例を説明するための図である。
【図3】異なる深さのトレンチを有する基板に、シャロートレンチアイソレーションを形成する方法を示した工程断面図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態例を説明するための工程断面図である。
【図5】シリコン窒化膜を化学的機械研磨法でのストッパとして、シャロートレンチアイソレーションを形成する方法を示した工程断面図である。
【符号の説明】
1 半導体基板
2 シリコン酸化膜
3 レジストパターン
4 絶縁物
5 シリコン窒化膜
Claims (5)
- 半導体基板上に、第1のエッチング方法に対し当該基板よりもエッチング速度が遅い第1の膜を形成する第1の工程と、
前記第1の膜上にパターン密度が密な領域と、それよりパターン密度が疎な領域とを含む所定のパターンを形成する第2の工程と、
前記パターン密度が密な領域より前記パターン密度が疎な領域でエッチング速度が早い第2のエッチング方法により、前記パターンをマスクに、前記第1の膜をエッチングして、前記パターン密度が密な領域に前記第1の膜を残し、前記パターン密度が疎な領域に前記第1の膜を、前記パターン密度が密な領域より薄く残すか、もしくは除去する第3の工程と、
前記第1のエッチング方法により前記パターンをマスクに、もしくは前記パターンを除去した後に、前記第1の膜及び前記半導体基板とをエッチングして、当該半導体基板に前記パターンに対応するトレンチを、前記パターン密度の密な領域より前記パターン密度の疎な領域が深くなるように形成する第4の工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1において、
前記半導体基板が、シリコン基板であり、前記第1の膜がシリコン酸化膜又はシリコン窒化膜であることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1において、
更に、前記1の工程後に、第2のエッチング方法に対し、前記第1の膜と共にエッチング可能な、第2の膜を形成し、前記第4の工程後に、前記トレンチの形成された前記半導体基板上に、絶縁物を形成して該トレンチを埋め込む工程と、その後、前記半導体基板の表面の前記絶縁膜を、前記第2の膜を終点として該絶縁物を除去して平坦化する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項3において、
前記第1の膜がシリコン酸化膜であり、前記第2の膜がシリコン窒化膜であることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 請求項1において、
更に、前記トレンチの形成された前記半導体基板上に、絶縁物を形成して該トレンチを埋め込む工程と、
その後、前記半導体基板の表面の前記絶縁物を除去して平坦化する工程と、を有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
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