JP2004200701A - リソグラフィ投影マスク、リソグラフィ投影マスクによるデバイス製造方法、およびこの方法により製造したデバイス - Google Patents
リソグラフィ投影マスク、リソグラフィ投影マスクによるデバイス製造方法、およびこの方法により製造したデバイス Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】デバイス・パターン上に重畳している基準マークを使用して、基板上にステップ・モードにより現像したパターンの相対的位置を測定するための方法。本明細書には、また、この方法で使用するための基準マークを含むリソグラフィ投影装置のマークも開示されている。
【選択図】図2
Description
− マスク。マスクの概念は、リソグラフィにおいて周知のものであり、バイナリ・マスク・タイプ、レベンソン・マスク・タイプ、減衰位相シフト・マスク・タイプおよび種々のハイブリッド・マスク・タイプ等がある。放射線ビーム内にこのようなマスクを置くと、マスク上のパターンにより、マスク上に入射する放射線が選択的に透過(透過性マスクの場合)または選択的に反射(反射性マスクの場合)される。あるマスクの場合には、支持構造は、一般的に、確実にマスクを入射放射線ビーム内の所望する位置に保持することができ、そうしたい場合には、ビームに対してマスクが移動することができるようなマスク・テーブルである。
− プログラマブル・ミラー・アレイ。このようなデバイスの一例としては、粘弾性制御層および反射面を有するマトリックス・アドレス可能面がある。このような装置の基本的原理は、(例えば)反射面のアドレスされた領域が入射光を回折光として反射し、アドレスされていない領域は入射光を非回折光として反射するという原理である。適当なフィルタを使用することにより、反射ビームから上記の非回折光をろ過して回折光だけを後に残すことができる。このようにして、ビームは、マトリックス・アドレス可能面のアドレス・パターンに従ってパターン形成される。プログラマブル・ミラー・アレイの他の実施形態は、それぞれが、適当な集中した電界を加えることにより、または圧電作動手段を使用することにより、軸を中心にして個々に傾斜することができる小さなミラーのマトリックス配置を使用する。ここでもまた、アドレスされるミラーが、アドレスされないミラーへの方向と異なる方向に入力放射線ビームを反射するように、ミラーは、マトリックス・アドレス指定することができる。このようにして、反射したビームは、マトリックス・アドレス指定することができるミラーのアドレス・パターンに従ってパターン形成される。必要なマトリックス・アドレス指定は、適当な電子手段により行うことができる。上記両方の状況において、パターニング手段は、1つまたはそれ以上のプログラマブル・ミラー・アレイを備えることができる。本明細書に記載したミラー・アレイのより詳細な情報については、例えば、米国特許第5,296,891号、および米国特許第5,523,193号およびPCT特許出願第WO98/38597号およびWO98/33096号を参照されたい。プログラマブル・ミラー・アレイの場合には、上記支持構造を、例えば、必要に応じて固定式にも移動式にもすることができるフレームまたはテーブルの形で実施することができる。
− プログラマブルLCDアレイ。このような構造の一例は、米国特許第5,229,872号に記載されている。すでに説明したように、この場合の支持構造は、例えば、必要に応じて固定式にも移動式にもすることができるフレームまたはテーブルの形で実施することができる。
図1は、本発明の特定の実施形態によるリソグラフィ投影装置の略図である。この装置は、
この特定の実施形態の場合には、放射線源LAも含む放射線(例えば、UV、DUVまたはEUV放射線)の投影ビームPBを供給するための放射線システムEx、ILと、
マスクMA(例えば、レチクル)を保持するためのマスク・ホルダーを備え、品目PLに対してマスクを正確に位置決めするための第1の位置決め手段に接続している第1の対象物テーブル(マスク・テーブル)MTと、
基板W(例えば、レジストでコーティングされたシリコン・ウェハ)を保持するための基板ホルダーを備え、品目PLに対して基板を正確に位置決めするための第2の位置決め手段に接続している第2の対象物テーブル(基板テーブル)WTと、
基板Wの目標部分C(例えば、1つまたはそれ以上のダイを備える)上にマスクMAの照射デパイス・パターンDPを画像形成するための投影システム(「レンズ」)PL(例えば、屈折タイプ)を備える。
1.ステップ・モードの場合には、マスク・テーブルMTは、本質的に固定状態に維持され、全マスク画像は、1回で(すなわち、1回の「照射」で)目標部分C上に投影される。次に、異なる目標部分CをビームPBで照射することができるように、基板テーブルWTがxおよび/またはy方向にシフトされる。
2.走査モードの場合には、所与の目標部分Cが1回の「照射」で露光されない点を除けば、本質的には同じシナリオが適用される。代わりに、マスク・テーブルMTを、速度vで所与の方向(例えば、y方向のような、いわゆる「走査方向」)に移動することができ、その結果、投影ビームPBはマスク画像上を走査する。同時に、基板テーブルWTは、速度V=Mvで同じ方向または反対方向に同時に移動する。ここで、Mは、レンズPLの倍率(通常、M=1/4または1/5)である。このようにして、解像度を犠牲にしないで比較的広い目標部分Cを露光することができる。
PB 投影ビーム
MT マスク・テーブル
WT 基板テーブル
DP デバイス・パターン
5,51,52 基準マーク
10,20,30,40,50 パターン
80,85 軸
Claims (8)
- デバイス製造方法であって、
放射線感光材料の層により少なくとも一部がカバーされている基板を供給するステップと、
放射線システムにより放射線の投影ビームを供給するステップと、
デバイス・パターンを含む少なくとも1つのパターニング手段を供給するステップと、
投影ビームを前記デバイス・パターンの形にするために、前記少なくとも1つのパターニング手段を使用するステップと、
放射線感光材料の層の複数の目標部分上に、放射線の前記のパターン化されたビームを投影するステップとを含み、
前記デバイス・パターンがその内部に少なくとも1つの基準マークを有することと、2つの目標部分の前記少なくとも1つの基準マークの整合を測定することにより、前記複数の目標部分の中の2つの相対的配置を決定するステップとを特徴とするデバイス製造方法。 - 前記複数の目標部分が界面において相互に隣接または重なっていて、前記目標部分上に投影された前記デバイス・パターンが、各界面に関連する前記少なくとも1つの基準マークの中の少なくとも1つを有する、請求項1に記載の方法。
- 前記基準マークが、前記パターンが前記基準マークに対して少なくとも2本の対称軸を有するように前記パターン内に位置している、請求項2に記載の方法。
- さらに、前記基板上に複数の現像したパターンを形成するために、前記放射線感光材料を現像するステップを含む、前記請求項の何れか1項に記載の方法。
- 前記決定ステップで整合のずれが検出された場合に、放射線感光材料の前記露光された層が除去され、前記方法が再度実行される、前記請求項の何れか1項に記載の方法。
- さらに、前記決定ステップに基づいて以降の投影ステップを最適化するステップを含む、前記請求項の何れか1項に記載の方法。
- 前記請求項の何れか1項により製造したデバイス。
- 放射線ビームをデバイス・パターンの形にするためのリソグラフィ投影マスクであって、前記マスクがデバイス・パターンを備え、前記デバイス・パターンがその内部に少なくとも1つの基準マークを有することを特徴とするリソグラフィ投影マスク。
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