JP2004182724A - シリコーンモノマーの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(1) 下記一般式(a1)で表されるエポキシシランに、アクリル酸またはメタクリル酸を反応させて下記一般式(a)または(a’)で表されるシリコーンモノマーを合成する反応を、触媒を15時間以内にエポキシシランのガスクロマトグラフ測定(GC)による面積%が0.2%以下になる量以上加えて行うことを特徴とするシリコーンモノマー製造方法。
(2)系中に第一イオン化ポテンシャルが8.2eV以下の原子を、原料のエポキシシランに対して16mol%以上含むことを特徴とする上記(1)項記載のシリコーンモノマー製造方法。
(3)該原子がアルカリ金属またはアルカリ土類金属であることを特徴とする上記(2)項記載のシリコーンモノマー製造方法。
(4)メタクリル酸と該原子の塩をエポキシシランに対して16mol%以上用いることを特徴とする上記(1)〜(3)項記載のシリコーンモノマー製造方法。
(5)反応温度において反応系が均一になることを特徴とする上記(1)〜(4)項記載のシリコーンモノマー製造方法。
式(b)中、A1からA11はそれぞれが独立にH、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基などのアルキル基、フェニル基、ナフチル基などのアリール基を挙げることができる。これらの中で最も好ましいのはメチル基である。
GC測定は本体に島津製作所製GC−18A(FID検出器)、キャピラリーカラムにJ&W社DB−5(0.25mm×30m×1μm)を用いた。キャリアガスはヘリウム(138kPa)、注入口温度280℃、検出器温度280℃、昇温プログラムは60℃(5min)→10℃/min→325℃(19min)で測定した。サンプルは測定試料100μLをイソプロピルアルコール1mLに溶解して調製し、1μL注入した。
300mLのナスフラスコに下式(c1)
触媒およびその添加量を表1のようにかえて、上記実施例1と同様の方法で実験を行った。GC測定を行ったところ、表1のような結果が得られた。
触媒およびその添加量を表1のようにかえて、上記実施例1と同様の方法で実験を行った。GC測定を行ったところ、表1のような結果が得られた。
Claims (5)
- 系中に第一イオン化ポテンシャルが8.2eV以下の原子を、原料のエポキシシランに対して16mol%以上含むことを特徴とする請求項1記載のシリコーンモノマー製造方法。
- 該第一イオン化ポテンシャルが8.2eV以下の原子がアルカリ金属またはアルカリ土類金属であることを特徴とする請求項2記載のシリコーンモノマー製造方法。
- メタクリル酸と該原子の塩をエポキシシランに対して16mol%以上用いることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のシリコーンモノマー製造方法。
- 反応温度において反応系が均一になることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のシリコーンモノマー製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003386254A JP2004182724A (ja) | 2002-11-18 | 2003-11-17 | シリコーンモノマーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
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JP2002333692 | 2002-11-18 | ||
JP2003386254A JP2004182724A (ja) | 2002-11-18 | 2003-11-17 | シリコーンモノマーの製造方法 |
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JP2004182724A true JP2004182724A (ja) | 2004-07-02 |
JP2004182724A5 JP2004182724A5 (ja) | 2007-01-11 |
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ID=32774572
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JP2003386254A Pending JP2004182724A (ja) | 2002-11-18 | 2003-11-17 | シリコーンモノマーの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2004182724A (ja) |
Cited By (5)
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---|---|---|---|---|
JP2007001918A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Toray Ind Inc | シリコーンモノマーおよびその製造方法 |
WO2019107117A1 (ja) | 2017-11-29 | 2019-06-06 | 信越化学工業株式会社 | シロキサン化合物及びその製造方法 |
WO2020246313A1 (ja) | 2019-06-06 | 2020-12-10 | 信越化学工業株式会社 | シロキサン及びその製造方法 |
WO2022196720A1 (ja) | 2021-03-17 | 2022-09-22 | 信越化学工業株式会社 | シロキサン化合物及びその製造方法 |
WO2022196721A1 (ja) | 2021-03-17 | 2022-09-22 | 信越化学工業株式会社 | シロキサン化合物及びその製造方法 |
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2003
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JP7145122B2 (ja) | 2019-06-06 | 2022-09-30 | 信越化学工業株式会社 | シロキサン及びその製造方法 |
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