JP4400199B2 - シリコーン化合物の精製方法およびシリコーン剤の製造方法 - Google Patents
シリコーン化合物の精製方法およびシリコーン剤の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4400199B2 JP4400199B2 JP2003411703A JP2003411703A JP4400199B2 JP 4400199 B2 JP4400199 B2 JP 4400199B2 JP 2003411703 A JP2003411703 A JP 2003411703A JP 2003411703 A JP2003411703 A JP 2003411703A JP 4400199 B2 JP4400199 B2 JP 4400199B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- silicone
- compound
- purifying
- silicone compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 0 *C(*)(*N)C(*)(*)OCC(*)=O Chemical compound *C(*)(*N)C(*)(*)OCC(*)=O 0.000 description 1
Description
(1)下記一般式(a)及び/または(a’)
(ここで、Aはシロキサニル基を表す。R1は重合性基を有する炭素数1〜20の置換基を表す。R2〜R4はそれぞれ独立に水素、置換されていてもよい炭素数1〜20の置換基または−X−Aを表す。Xは置換されていてもよい炭素数1〜20の2価の置換基を表す。)
(2)前記(1)項に記載されたシリコーン化合物の精製方法を含むシリコーン剤の製造方法、である。
式(b)においては、A1からA11としては例えば、それぞれが独立に水素、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基などのアルキル基、フェニル基、ナフチル基などのアリール基を挙げることができる。これらの中で最も好ましいのはメチル基である。
ガスクロマトグラフ(GC)測定は本体に島津製作所製GC−18A(FID検出器)、キャピラリーカラムにJ&W社DB−5(0.25mm×30m×1μm)を用いた。キャリアガスはヘリウム(138kPa)、注入口温度280℃、検出器温度280℃、昇温プログラムは60℃(5分)→10℃/分→325℃(19分)で測定した。サンプルは測定試料100μLをイソプロピルアルコール1mLに溶解して調製し、1μL注入した。
300mLのナスフラスコに下式(c1)
金属もしくは金属錯体の種類、添加量を表1に示すように変更した他は実施例1と同様の方法で実験を行った。GC測定を行ったところ、表1に示す結果が得られた。
メタアクリル酸量を表1に示すように変更し、テトライソプロポキシチタンを加えなかった他は実施例1と同様の方法で実験を行った。得られたシリコーン剤のGC測定を行ったところ、表1に示す結果が得られた。
Claims (2)
- 下記一般式(a)及び/または(a’)
(ここで、Aはシロキサニル基を表す。R1は重合性基を有する炭素数1〜20の置換基を表す。R2〜R4はそれぞれ独立に水素、置換されていてもよい炭素数1〜20の置換基または−X−Aを表す。Xは置換されていてもよい炭素数1〜20の2価の置換基を表す。) - 請求項1に記載されたシリコーン化合物の精製方法を含むシリコーン剤の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003411703A JP4400199B2 (ja) | 2003-12-10 | 2003-12-10 | シリコーン化合物の精製方法およびシリコーン剤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003411703A JP4400199B2 (ja) | 2003-12-10 | 2003-12-10 | シリコーン化合物の精製方法およびシリコーン剤の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005170826A JP2005170826A (ja) | 2005-06-30 |
JP4400199B2 true JP4400199B2 (ja) | 2010-01-20 |
Family
ID=34732367
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003411703A Expired - Fee Related JP4400199B2 (ja) | 2003-12-10 | 2003-12-10 | シリコーン化合物の精製方法およびシリコーン剤の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4400199B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4507580B2 (ja) * | 2003-12-10 | 2010-07-21 | 東レ株式会社 | シリコーン化合物の製造方法およびシリコーン剤 |
JP5900253B2 (ja) * | 2011-09-29 | 2016-04-06 | 信越化学工業株式会社 | (メタ)アクリル変性オルガノポリシロキサン、放射線硬化性シリコーン組成物及びシリコーン剥離紙並びにそれらの製造方法 |
CN109776595A (zh) * | 2019-01-07 | 2019-05-21 | 爱生华(苏州)光学有限公司 | 提纯(3-甲基丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)丙基双(三甲基硅氧基)甲基的工艺 |
JP2021031481A (ja) * | 2019-08-29 | 2021-03-01 | 信越化学工業株式会社 | シリコーンモノマーの製造方法 |
-
2003
- 2003-12-10 JP JP2003411703A patent/JP4400199B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005170826A (ja) | 2005-06-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1719776B1 (en) | Process for producing a silicone compound | |
JP4802569B2 (ja) | シリコーンモノマーの製造方法 | |
JP4826150B2 (ja) | シリコーンモノマーの製造方法 | |
JP4400199B2 (ja) | シリコーン化合物の精製方法およびシリコーン剤の製造方法 | |
JP4617887B2 (ja) | ビニル基含有化合物およびその製造方法 | |
JP4882241B2 (ja) | シリコーン化合物の製造方法 | |
JP4963545B2 (ja) | (メタ)アクリロイロオキシテトラヒドロフラン類およびその製造方法 | |
WO2006123473A1 (ja) | (メタ)アクリロイロオキシテトラヒドロフランおよびその製造方法 | |
JP2004182724A (ja) | シリコーンモノマーの製造方法 | |
JP7324170B2 (ja) | シリコーン化合物の製造方法 | |
JP5402934B2 (ja) | シリコーンモノマー、その製造方法および用途 | |
JPH02193944A (ja) | (メタ)アクリル酸エステルの製造方法 | |
JP4645016B2 (ja) | シリコーン化合物の製造方法 | |
JP5811133B2 (ja) | ビニル基含有化合物の製造方法 | |
JP4507580B2 (ja) | シリコーン化合物の製造方法およびシリコーン剤 | |
JP4720072B2 (ja) | シリコーン剤の精製方法およびシリコーン剤 | |
JPH09249657A (ja) | (メタ)アクリル酸グリシジルの精製方法 | |
JP2001064278A (ja) | 含硫黄(メタ)アクリレート系重合性単量体 | |
JP2003146979A (ja) | ラクトン類の製造方法 | |
JP2000072716A (ja) | (メタ)アクリル酸エステル化合物の製造方法 | |
JP2774362B2 (ja) | ジ(メタ)アクリロキシアルキル基を有するシロキサン化合物 | |
AU2016215954B2 (en) | Method for producing 2-aminoethylmethacrylate hydrochloride | |
JP2000344758A (ja) | (メタ)アクリル酸エステルの製造方法 | |
JP2006169140A (ja) | シリコーン化合物の製造方法およびシリコーン剤 | |
JP2001131126A (ja) | アダマンタン誘導体及びその製造法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061211 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090714 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090908 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20091006 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20091019 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121106 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121106 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131106 Year of fee payment: 4 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |