JP4507580B2 - シリコーン化合物の製造方法およびシリコーン剤 - Google Patents
シリコーン化合物の製造方法およびシリコーン剤 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4507580B2 JP4507580B2 JP2003411704A JP2003411704A JP4507580B2 JP 4507580 B2 JP4507580 B2 JP 4507580B2 JP 2003411704 A JP2003411704 A JP 2003411704A JP 2003411704 A JP2003411704 A JP 2003411704A JP 4507580 B2 JP4507580 B2 JP 4507580B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- general formula
- silicone
- compound
- less
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Materials For Medical Uses (AREA)
- Prostheses (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Description
(1) 下記一般式(a1)
(ここで、Aはシロキサニル基を表す。R1は水素またはメチル基を表す。)
(2) 水分率が1重量%以下のアクリル酸もしくはメタクリル酸の金属塩を用いることを特徴とする上記(1)記載のシリコーン化合物の製造方法。
(3) 下記一般式(a)及び/または(a’)で示される化合物及び一般式(z)で示される化合物を含み、
(ここで、Aはシロキサニル基を表す。R1は水素またはメチル基を表す。)
(4) シロキサニル基Aが下記式(b)
(5) シロキサニル基Aがトリス(トリメチルシロキシ)シリル基、ビス(トリメチルシロキシ)メチルシリル基、トリメチルシロキシジメチルシリル基からなる群から選ばれた置換基である上記(3)記載のシリコーン剤。
例えば、式(b)のA1からA11としては、それぞれが独立に水素、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、2−エチルヘキシル基、オクチル基などのアルキル基、フェニル基、ナフチル基などのアリール基を挙げることができる。これらの中で最も好ましいのはメチル基である。
測定方法
(1)ガスクロマトグラフ(GC)測定
GC測定は本体に島津製作所製GC−18A(FID検出器)、キャピラリーカラムにJ&W社DB−5(0.25mm×30m×1μm)を用いた。キャリアガスはヘリウム(138kPa)、注入口温度280℃、検出器温度280℃、昇温プログラムは60℃(5分)→10℃/分→325℃(19分)で測定した。サンプルは測定試料100μLをイソプロピルアルコール1mLに溶解して調製し、1μL注入した。
(2)反応液および各原料の水分率測定
水分率測定は三菱化成工業製微量水分測定装置CA−05型を用いて、カールフィッシャー法により行った。
(3)(メタ)アクリル酸アルカリ金属塩の水分率測定
真空乾燥機で40℃、16時間乾燥させ、下記式より水分率を計算した。
実施例1
300mLのナスフラスコに下式(c1)
エポキシシランを下式(d1)
エポキシシラン、メタクリル酸量を表1に示す内容に変更した以外は実施例1と同様の方法で実験を行った。GC測定を行ったところ、表1のような結果が得られた。
エポキシシラン、アクリル酸量を表1に示す内容に変更した以外は実施例1と同様の方法で実験を行った。GC測定を行ったところ、表1のような結果が得られた。
メタクリル酸量を表1に示す内容に変更した以外は実施例1と同様の方法で実験を行った。GC測定を行ったところ、表1のような結果が得られた。
Claims (5)
- 水分率が1重量%以下のアクリル酸もしくはメタクリル酸の金属塩を用いることを特徴とする請求項1記載のシリコーン化合物の製造方法。
- シロキサニル基Aがトリス(トリメチルシロキシ)シリル基、ビス(トリメチルシロキシ)メチルシリル基、トリメチルシロキシジメチルシリル基からなる群から選ばれた置換基である請求項3記載のシリコーン剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003411704A JP4507580B2 (ja) | 2003-12-10 | 2003-12-10 | シリコーン化合物の製造方法およびシリコーン剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003411704A JP4507580B2 (ja) | 2003-12-10 | 2003-12-10 | シリコーン化合物の製造方法およびシリコーン剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005170827A JP2005170827A (ja) | 2005-06-30 |
JP4507580B2 true JP4507580B2 (ja) | 2010-07-21 |
Family
ID=34732368
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003411704A Expired - Fee Related JP4507580B2 (ja) | 2003-12-10 | 2003-12-10 | シリコーン化合物の製造方法およびシリコーン剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4507580B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4882241B2 (ja) * | 2004-02-27 | 2012-02-22 | 東レ株式会社 | シリコーン化合物の製造方法 |
JP2023058871A (ja) | 2021-10-14 | 2023-04-26 | 信越化学工業株式会社 | ポリシロキサン化合物及びその製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5622325A (en) * | 1979-07-31 | 1981-03-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Production of polymerizable organopolysiloxane |
JP2002234861A (ja) * | 2001-02-09 | 2002-08-23 | Nippon Shokubai Co Ltd | ヒドロキシアルキルエステルの製造方法 |
JP2005170826A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-06-30 | Toray Ind Inc | シリコーン化合物の精製方法およびそれから得られるシリコーン剤 |
-
2003
- 2003-12-10 JP JP2003411704A patent/JP4507580B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5622325A (en) * | 1979-07-31 | 1981-03-02 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Production of polymerizable organopolysiloxane |
JP2002234861A (ja) * | 2001-02-09 | 2002-08-23 | Nippon Shokubai Co Ltd | ヒドロキシアルキルエステルの製造方法 |
JP2005170826A (ja) * | 2003-12-10 | 2005-06-30 | Toray Ind Inc | シリコーン化合物の精製方法およびそれから得られるシリコーン剤 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2005170827A (ja) | 2005-06-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5225964B2 (ja) | 有機リン酸化合物の製造方法 | |
JP5699931B2 (ja) | シリコーンモノマー | |
JP2011201880A (ja) | シリコーンモノマーおよび眼用レンズ用原料 | |
JP4802569B2 (ja) | シリコーンモノマーの製造方法 | |
JP4507580B2 (ja) | シリコーン化合物の製造方法およびシリコーン剤 | |
JP2006036757A (ja) | シリコーンモノマーの製造方法 | |
JP4882241B2 (ja) | シリコーン化合物の製造方法 | |
CN105524102A (zh) | 含自由基聚合性基团的硅氧烷化合物及其制造方法 | |
JP4273885B2 (ja) | シリコーンモノマー組成物の製造方法 | |
JP4617887B2 (ja) | ビニル基含有化合物およびその製造方法 | |
JP4400199B2 (ja) | シリコーン化合物の精製方法およびシリコーン剤の製造方法 | |
JP2008143874A (ja) | ホスホリルコリン基含有シラン化合物の製造方法 | |
JP2004182724A (ja) | シリコーンモノマーの製造方法 | |
JP4720072B2 (ja) | シリコーン剤の精製方法およびシリコーン剤 | |
JP5402934B2 (ja) | シリコーンモノマー、その製造方法および用途 | |
JP4645016B2 (ja) | シリコーン化合物の製造方法 | |
JP6168214B2 (ja) | 水除去方法 | |
JP2007023246A (ja) | 新規シリコン含有化合物およびその製造方法 | |
JP5111837B2 (ja) | シリコーンモノマーの製造方法及びその中間体の製造方法及びその成形体 | |
JPH09249657A (ja) | (メタ)アクリル酸グリシジルの精製方法 | |
JP7324170B2 (ja) | シリコーン化合物の製造方法 | |
JPS6168454A (ja) | N−2−ヒドロキシエチルアクリルアミドもしくはn−2−ヒドロキシエチルメタクリルアミドの製造方法 | |
JP2668495B2 (ja) | ケイ素系粉末物質の製造方法 | |
JP2004168677A (ja) | シリコーンモノマーの精製方法 | |
JP2020066578A (ja) | リン酸化合物を含有する組成物及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061211 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090714 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090908 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091006 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100112 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100312 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100413 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100426 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4507580 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |