JP2023058871A - ポリシロキサン化合物及びその製造方法 - Google Patents
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 137
- -1 Polysiloxane Polymers 0.000 title claims abstract description 88
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 title claims abstract description 77
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims abstract description 21
- 239000012567 medical material Substances 0.000 claims abstract description 21
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 23
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 15
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 claims description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 13
- 239000000017 hydrogel Substances 0.000 claims description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 9
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 7
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 abstract description 4
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 21
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 14
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 14
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 14
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 5
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 5
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 5
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 5
- XOUQAVYLRNOXDO-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(C(C)(C)C)C(O)=C1 XOUQAVYLRNOXDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 4
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 4
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 4
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 3
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229940088644 n,n-dimethylacrylamide Drugs 0.000 description 3
- YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylprop-2-enamide Chemical compound CN(C)C(=O)C=C YLGYACDQVQQZSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- QYLOWIBDZZDMQR-UHFFFAOYSA-N (2,4-ditert-butyl-3-ethyl-6-methylphenyl)-(2,4-ditert-butyl-6-methylphenyl)-trihydroxy-lambda5-phosphane Chemical compound CCC1=C(C(C)(C)C)C=C(C)C(P(O)(O)(O)C=2C(=CC(=CC=2C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=C1C(C)(C)C QYLOWIBDZZDMQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 2
- ZRMMVODKVLXCBB-UHFFFAOYSA-N 1-n-cyclohexyl-4-n-phenylbenzene-1,4-diamine Chemical compound C1CCCCC1NC(C=C1)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 ZRMMVODKVLXCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Methylenebis(4-methyl-6-tert-butylphenol) Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O KGRVJHAUYBGFFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XQMHLQCMMWBAPP-UHFFFAOYSA-N 2,2,6,6-tetramethyl-4-[2-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)oxyethoxy]piperidine Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OCCOC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 XQMHLQCMMWBAPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRIMLDXJAPZHJE-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(O)CO QRIMLDXJAPZHJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKWGWBPECLWUKL-UHFFFAOYSA-N 2-(1,3,6,8-tetratert-butylbenzo[d][1,3,2]benzodioxaphosphepin-10-yl)oxy-N,N-bis[2-(1,3,6,8-tetratert-butylbenzo[d][1,3,2]benzodioxaphosphepin-10-yl)oxyethyl]ethanamine Chemical compound C(C)(C)(C)C1=CC(=CC2=C1OP(OC1=C2C(=CC(=C1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OCCN(CCOC1=CC2=C(OP(OC3=C2C(=CC(=C3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(=C1)C(C)(C)C)CCOC1=CC2=C(OP(OC3=C2C(=CC(=C3)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(=C1)C(C)(C)C XKWGWBPECLWUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YAGPRJYCDKGWJR-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,8,10-tetratert-butylbenzo[d][1,3,2]benzodioxaphosphepin-6-yl)oxy-n,n-bis[2-(2,4,8,10-tetratert-butylbenzo[d][1,3,2]benzodioxaphosphepin-6-yl)oxyethyl]ethanamine Chemical compound O1C2=C(C(C)(C)C)C=C(C(C)(C)C)C=C2C2=CC(C(C)(C)C)=CC(C(C)(C)C)=C2OP1OCCN(CCOP1OC2=C(C=C(C=C2C=2C=C(C=C(C=2O1)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)C(C)(C)C)CCOP(OC1=C(C=C(C=C11)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC2=C1C=C(C(C)(C)C)C=C2C(C)(C)C YAGPRJYCDKGWJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BESKSSIEODQWBP-UHFFFAOYSA-N 3-tris(trimethylsilyloxy)silylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](O[Si](C)(C)C)(O[Si](C)(C)C)O[Si](C)(C)C BESKSSIEODQWBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N Didodecyl thiobispropanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCC GHKOFFNLGXMVNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003508 Dilauryl thiodipropionate Substances 0.000 description 2
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002656 Distearyl thiodipropionate Substances 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N N,N'-diphenyl-1,4-phenylenediamine Chemical compound C=1C=C(NC=2C=CC=CC=2)C=CC=1NC1=CC=CC=C1 UTGQNNCQYDRXCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N N-Phenyl-1-naphthylamine Chemical compound C=1C=CC2=CC=CC=C2C=1NC1=CC=CC=C1 XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N Trichloro(2H)methane Chemical compound [2H]C(Cl)(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- GMHDUYXGKJNFHH-UHFFFAOYSA-N bis(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl) oxalate Chemical compound C1C(C)(C)NC(C)(C)CC1OC(=O)C(=O)OC1CC(C)(C)NC(C)(C)C1 GMHDUYXGKJNFHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 210000004087 cornea Anatomy 0.000 description 2
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 235000019304 dilauryl thiodipropionate Nutrition 0.000 description 2
- PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N distearyl thiodipropionate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)CCSCCC(=O)OCCCCCCCCCCCCCCCCCC PWWSSIYVTQUJQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019305 distearyl thiodipropionate Nutrition 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N ethylcyclohexane Chemical compound CCC1CCCCC1 IIEWJVIFRVWJOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N methyl benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1 QPJVMBTYPHYUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002530 phenolic antioxidant Substances 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 2
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- MJYFYGVCLHNRKB-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trifluoroethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(F)(F)CF MJYFYGVCLHNRKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 1-morpholin-4-ylprop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CCOCC1 XLPJNCYCZORXHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C=C XUDBVJCTLZTSDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-yloxyethanol Chemical compound CC(C)OCCO HCGFUIQPSOCUHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000002597 Solanum melongena Nutrition 0.000 description 1
- LXEKPEMOWBOYRF-UHFFFAOYSA-N [2-[(1-azaniumyl-1-imino-2-methylpropan-2-yl)diazenyl]-2-methylpropanimidoyl]azanium;dichloride Chemical compound Cl.Cl.NC(=N)C(C)(C)N=NC(C)(C)C(N)=N LXEKPEMOWBOYRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001346 alkyl aryl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N anhydrous amyl acetate Natural products CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 230000005587 bubbling Effects 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 210000003128 head Anatomy 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N hydroxyl Chemical compound [OH] TUJKJAMUKRIRHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 229940035429 isobutyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N methanol;hydrate Chemical compound O.OC GBMDVOWEEQVZKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- OVHHHVAVHBHXAK-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylprop-2-enamide Chemical compound CCN(CC)C(=O)C=C OVHHHVAVHBHXAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N triglyme Chemical compound COCCOCCOCCOC YFNKIDBQEZZDLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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- C08F30/08—Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and containing phosphorus, selenium, tellurium or a metal containing a metal containing silicon
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- G02C—SPECTACLES; SUNGLASSES OR GOGGLES INSOFAR AS THEY HAVE THE SAME FEATURES AS SPECTACLES; CONTACT LENSES
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Abstract
【課題】医療用材料に好適なポリシロキサン化合物及びその製造方法を提供する。【解決手段】１分子中に１個の炭素数８～２０の環状脂肪族炭化水素基を含むポリシロキサン化合物であって、前記環状脂肪族炭化水素基の脂肪族環上に（メタ）アクリロキシ基及び第３級水酸基を有するものであることを特徴とするポリシロキサン化合物。【選択図】なし
Description
本発明は、ポリシロキサン化合物及びその製造方法に関する。
従来、眼科用デバイスをはじめとした医療用材料に用いられる化合物として、シロキサンを有するモノマーが知られている。例えば、３－［トリス（トリメチルシロキシ）シリル］プロピルメタクリレート（ＴＲＩＳ）は、眼科用デバイス用モノマーとして広く用いられている。このＴＲＩＳと親水性モノマーであるＮ，Ｎ－ジメチルアクリルアミドやＮ－ビニル－２－ピロリドンを共重合して得られるポリマーは高酸素透過性であるという有益な特長を有する。しかし、疎水性の高いシロキサンモノマーはこれらの親水性モノマーとの相溶性が高いとは言えず、医療用材料となるハイドロゲルを作製した際に相分離が起こり、白濁してしまうという問題がある。
特許文献１には、下記式（ａ）、（ａ’）で示されるグリセロールメタクリレートを有するシロキサンが記載されている。
また、特許文献２には、下記式（ｂ）、（ｂ’）で示されるグリセロールメタクリレートを有するシロキサンが記載されている。
また、特許文献３には、下記式（ｃ）で示される脂環式メタクリレートを有するシロキサンが記載されている。
これらの化合物は、分子内に水酸基を有するため良好な親水性を発現する。それゆえに、親水性モノマーとの相溶性に優れるという利点を有している。
しかし、上述のような（ポリ）シロキサンと重合性基との連結基に第一級水酸基または第二級水酸基を有する化合物でハイドロゲルを作製する場合、これらの反応性の高い水酸基が望ましくない結果をもたらす場合がある。例えば、上記水酸基にラジカルが付加し、ヒドロキシラジカルによる架橋構造が形成される恐れがある。それにより、予期せぬ硬度の増加や柔軟性の低下が引き起こされる。そのため、従来のシロキサン化合物では、有益な親水性や十分な強度を有する医療用材料を提供することができない。そこで、これらの欠点を克服する化合物及び組成物に対する需要が依然として存在する。
本発明は医療用材料に好適なポリシロキサン化合物及びその製造方法を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明では、１分子中に１個の炭素数８～２０の環状脂肪族炭化水素基を含むポリシロキサン化合物であって、前記環状脂肪族炭化水素基の脂肪族環上に（メタ）アクリロキシ基及び第３級水酸基を有するものであるポリシロキサン化合物を提供する。
このようなポリシロキサン化合物であれば、医療用材料に好適に用いることができる。
また、本発明では、前記ポリシロキサン化合物が、下記式（１）で表される化合物であることが好ましい。
（式（１）中、Ｒ１はメチル基または水素原子であり、Ａは下記式（２）または（３）で表される基である。）
（前記式（２）において、Ｒは互いに独立に炭素数１～６の１価炭化水素基であり、ｎは１～２００の整数である。破線は結合手を表す。前記式（３）において、Ｒは前記の通りであり、ａは０～１０の整数であり、ｂは０～１０の整数であり、ｃは０～１０の整数であり、ただしａ＋ｂ＋ｃは２以上である。破線は結合手を表す。）
このようなポリシロキサン化合物であれば、医療用材料に好適に用いることができる。
また、本発明では、前記式（１）において、Ａが前記式（２）で表され、ｎが４～１００の整数であることが好ましい。
このようなポリシロキサン化合物であれば、医療用材料により好適に用いることができる。
また、本発明では、前記式（１）において、Ａが前記式（３）で表され、ａが１であり、ｂが１であり、ｃが０であることも好ましい。
このようなポリシロキサン化合物であれば、医療用材料にさらに好適に用いることができる。
また、本発明では、前記式（１）において、Ｒ１がメチル基であることが好ましい。
本発明のポリシロキサン化合物は、このようなものが好ましい。
また、本発明では、前記式（２）または（３）において、Ｒが互いに独立に、メチル基またはブチル基であることが好ましい。
本発明のポリシロキサン化合物は、このようなものがより好ましい。
また、本発明では、上記に記載のポリシロキサン化合物の（メタ）アクリロキシ基の重合から導かれる繰り返し単位を含むものであるポリマーを提供する。
このようなポリマーであれば、（メタ）アクリロキシ基などの重合性基を有するほかの化合物との相溶性が良好である。
このとき、前記繰り返し単位の質量割合がポリマーの全質量に対し１０質量％以上であることが好ましい。
このようなポリマーであれば、ポリシロキサン化合物の特性が表れやすい。
また、本発明では、上記に記載のポリマーを含むものであるハイドロゲル、又は医療用材料を提供する。
本発明のポリマーは、このような用途に好適に用いることができる。
また、本発明では、下記式（１）で表されるポリシロキサン化合物の製造方法であって、
（式（１）中、Ｒ１はメチル基または水素原子であり、Ａは下記式（２）または（３）で表される基である。）
（前記式（２）において、Ｒは互いに独立に炭素数１～６の１価炭化水素基であり、ｎは１～２００の整数である。破線は結合手を表す。前記式（３）において、Ｒは前記の通りであり、ａは０～１０の整数であり、ｂは０～１０の整数であり、ｃは０～１０の整数であり、ただしａ＋ｂ＋ｃは２以上である。破線は結合手を表す。）
下記式（４）で表される、末端に不飽和基を含有する化合物と、
（Ｒ１は前記の通りである。）
下記式（５）または（６）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物、
（Ｒ、ｎ、ａ、ｂ、ｃは前記の通りである。）
とをヒドロシリル化反応させて、前記式（１）で表されるポリシロキサン化合物を得る工程を含むポリシロキサン化合物の製造方法を提供する。
下記式（４）で表される、末端に不飽和基を含有する化合物と、
下記式（５）または（６）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物、
とをヒドロシリル化反応させて、前記式（１）で表されるポリシロキサン化合物を得る工程を含むポリシロキサン化合物の製造方法を提供する。
このようなポリシロキサン化合物の製造方法であれば、ポリシロキサン化合物を高純度で得ることができる。
本発明のポリシロキサン化合物は、第三級水酸基で置換された環状脂肪族炭化水素基を有することにより、親水性モノマーとの相溶性に優れるとともに、医療用材料としたときに予期せぬ硬度の増加や柔軟性の低下が生じない。さらに、本発明のポリシロキサン化合物の（メタ）アクリロキシ基の重合から導かれる繰返し単位を含む（共）重合体は、好ましい強度を有する。本発明のポリシロキサン化合物は、医療用材料用モノマーとして有用である。
上述のように、医療用材料に好適なポリシロキサン化合物及びその製造方法の開発が求められていた。
本発明者らは上記課題を解決するために鋭意検討し、第三級水酸基で置換された環状脂肪族炭化水素基を有するポリシロキサン化合物が、他の親水性モノマーとの相溶性に優れていることを見出した。また、該（ポリ）シロキサン化合物と親水性モノマーの（共）重合体が柔軟性に優れていることをも見出した。
即ち、本発明は、１分子中に１個の炭素数８～２０の環状脂肪族炭化水素基を含むポリシロキサン化合物であって、前記環状脂肪族炭化水素基の脂肪族環上に（メタ）アクリロキシ基及び第３級水酸基を有するものであるポリシロキサン化合物に関するものであり、特には、下記式（１）で表されるポリシロキサン化合物に関するものである。
（式（１）中、Ｒ１はメチル基または水素原子であり、Ａは下記式（２）または（３）で表される基である。）
（前記式（２）において、Ｒは互いに独立に炭素数１～６の１価炭化水素基であり、ｎは１～２００の整数である。破線は結合手を表す。前記式（３）において、Ｒは前記の通りであり、ａは０～１０の整数であり、ｂは０～１０の整数であり、ｃは０～１０の整数であり、ただしａ＋ｂ＋ｃは２以上である。破線は結合手を表す。）
さらに本発明は、該ポリシロキサン化合物の製造方法、該化合物から導かれる繰り返し単位を含むポリマー、及び該ポリマーを含む医療用材料、特には眼科用デバイスを提供する。
さらに本発明は、該ポリシロキサン化合物の製造方法、該化合物から導かれる繰り返し単位を含むポリマー、及び該ポリマーを含む医療用材料、特には眼科用デバイスを提供する。
以下、本発明について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
［ポリシロキサン化合物］
本発明は、１分子中に１個の炭素数８～２０の環状脂肪族炭化水素基を含むポリシロキサン化合物であって、前記環状脂肪族炭化水素基の脂肪族環上に（メタ）アクリロキシ基及び第３級水酸基を有するものであるポリシロキサン化合物に関するものである。
本発明は、１分子中に１個の炭素数８～２０の環状脂肪族炭化水素基を含むポリシロキサン化合物であって、前記環状脂肪族炭化水素基の脂肪族環上に（メタ）アクリロキシ基及び第３級水酸基を有するものであるポリシロキサン化合物に関するものである。
環状脂肪族炭化水素基の脂肪族環上に（メタ）アクリロキシ基及び第３級水酸基を有する基としては、炭素数８～２０であれば特に限定されないが、例えば下記式に示すような環状脂肪族炭化水素基が好ましい。
（前記式中、＊はポリシロキサンのケイ素原子と結合する遊離基を示す）
特には前記ポリシロキサン化合物が、下記式（１）で表されるポリシロキサン化合物であることが好ましい。
（式（１）中、Ｒ１はメチル基または水素原子であり、Ａは下記式（２）または（３）で表される基である。）
（前記式（２）において、Ｒは互いに独立に炭素数１～６の１価炭化水素基であり、ｎは１～２００の整数である。破線は結合手を表す。前記式（３）において、Ｒは前記の通りであり、ａは０～１０の整数であり、ｂは０～１０の整数であり、ｃは０～１０の整数であり、ただしａ＋ｂ＋ｃは２以上である。破線は結合手を表す。）
該化合物はポリシロキサン構造を有し、かつポリシロキサンと重合性基である（メタ）アクリロキシ基との連結基が第三級水酸基で置換された環状脂肪族炭化水素基を含有することを特徴とする。本発明のポリシロキサン化合物において、この第三級水酸基が親水基となり、それには立体的な制限が存在する。これにより反応時の副反応を抑制し、また、本発明のポリシロキサン化合物の（メタ）アクリロキシ基の重合から導かれる繰返し単位を含むポリマー（（共）重合体）において水素結合の方向性に由来する強固な水素結合性が生まれ、高い強度が得られると推測される。すなわち、本発明のポリシロキサン化合物は、親水性モノマーとの高い相溶性を有し、導かれる（共）重合体において好ましい強度を提供でき、さらに予期せぬ硬度の増加や柔軟性の低下も生じない。
上記式（１）において、Ｒ１はメチル基または水素原子であり、好ましくは、メチル基である。
Ａは上記式（２）または（３）で表される基であり、ｎは１～２００の整数であり、好ましくは、ｎは４～１００の整数であり、更に好ましくは、ｎは４～３０の整数である。ａは０～１０の整数であり、ｂは０～１０の整数であり、ｃは０～１０の整数であり、ただしａ＋ｂ＋ｃは２以上である。また、式（３）において、ａが１であり、ｂが１であり、及びｃが０であるのが好ましい。
上記式（２）または（３）において、Ｒは、互いに独立に、炭素数１～６の１価炭化水素基である。１価炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ－ブチル基、ｔ－ブチル基、ペンチル基、及びヘキシル基等のアルキル基；シクロペンチル基、及びシクロヘキシル基等のシクロアルキル基；フェニル基等のアリール基等が挙げられる。Ｒは、好ましくは炭素数１～４のアルキル基であり、更に好ましくはメチル基またはブチル基である。
［ポリシロキサン化合物の製造方法］
以下、上記式（１）で示されるポリシロキサン化合物の製造方法を説明する。
本発明のポリシロキサン化合物の製造方法は、下記式（４）で表される、末端に不飽和基を含有する化合物（不飽和化合物）と、
（Ｒ１は上記の通りである。）
下記式（５）または（６）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物、
（Ｒ、ｎ、ａ、ｂ、ｃは上記の通りである。）
とを触媒の存在下でヒドロシリル化反応させて、上記式（１）で表される化合物を得る工程を含むポリシロキサン化合物の製造方法である。
以下、上記式（１）で示されるポリシロキサン化合物の製造方法を説明する。
本発明のポリシロキサン化合物の製造方法は、下記式（４）で表される、末端に不飽和基を含有する化合物（不飽和化合物）と、
下記式（５）または（６）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物、
とを触媒の存在下でヒドロシリル化反応させて、上記式（１）で表される化合物を得る工程を含むポリシロキサン化合物の製造方法である。
本発明のポリシロキサン化合物の製造方法は、末端に不飽和結合を有し、かつ第三級水酸基で置換された環状脂肪族炭化水素基を有する化合物（式（４））を原料として用いることを特徴とする。本発明のポリシロキサン化合物の製造方法において、上記式（４）で表される原料化合物が有する水酸基はシクロヘキサン環上に存在する第三級水酸基であるため、ヒドロシリル化反応において水酸基が望ましくない副反応を起こすことを抑制できる。これにより本発明のポリシロキサン化合物を高純度にて得ることができる。
上記ヒドロシリル化反応は従来公知の方法に従い行えばよい。本発明では、式（５）または式（６）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物に式（４）で表される不飽和化合物を例えば１モル当量以上を添加して反応させればよい。反応温度は特に制限されるものでないが、使用する溶媒の沸点を超えない程度の温度が好ましい。例えば、約０℃から約１２０℃の温度で行われるのがよい。該ヒドロシリル化反応は溶媒、ヒドロシリル化触媒、又は安定剤の存在下で行ってもよい。溶媒、ヒドロシリル化触媒及び安定剤は従来公知のものであればよく特に制限されるものではない。
上記ヒドロシリル化反応において不飽和化合物は、ハイドロジェンシロキサン化合物に対して１モル当量以上を添加することが好ましい。より好ましくは１．０～３．０モル当量であり、更に好ましくは１．１～２．０モル当量であり、特に好ましくは１．２～１．５モル当量である。ハイドロジェンシロキサン化合物に対して不飽和化合物を１モル当量以上添加することでハイドロジェンシロキサン化合物の残存および副反応の抑制ができる。また、上限値は制限されないが、３．０モル当量以下であれば収率や経済性の点から好ましい。
（ヒドロシリル化触媒）
ヒドロシリル化触媒は、例えば、貴金属触媒、特には塩化白金酸から誘導される白金触媒が好ましい。特に、塩化白金酸の水素イオンを重曹で完全中和して白金触媒の安定性を向上させるのがよい。例えば１，１，３，３－テトラメチル－１，３－ジビニルジシロキサンと塩化白金酸の重曹中和物との錯体（カルステッド触媒）がより好ましい。
ヒドロシリル化触媒は、例えば、貴金属触媒、特には塩化白金酸から誘導される白金触媒が好ましい。特に、塩化白金酸の水素イオンを重曹で完全中和して白金触媒の安定性を向上させるのがよい。例えば１，１，３，３－テトラメチル－１，３－ジビニルジシロキサンと塩化白金酸の重曹中和物との錯体（カルステッド触媒）がより好ましい。
ヒドロシリル化触媒の添加量は上記ヒドロシリル化反応を進行させるための触媒量であればよい。例えば、１，１，３，３－テトラメチル－１，３－ジビニルジシロキサンと塩化白金酸の重曹中和物との錯体を、式（５）または（６）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物の質量に対し、白金換算量で１ｐｐｍ～８０ｐｐｍとなる量で使用すればよい。
（溶媒）
溶媒は、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル及びポリエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、乳酸エチル及び安息香酸メチル等のエステル系溶媒；直鎖ヘキサン、直鎖ヘプタン及び直鎖オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；シクロヘキサン及びエチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒；並びに石油系溶媒等；及び、メチルアルコール、エチルアルコール、直鎖プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、直鎖ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール及びポリエチレングリコールなどのアルコール系溶媒が挙げられる。前記溶媒は１種を単独で使用しても、２種以上を組合せて使用してもよい。
溶媒は、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、イソプロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル及びポリエチレングリコールジメチルエーテル等のグリコールエーテル溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、乳酸エチル及び安息香酸メチル等のエステル系溶媒；直鎖ヘキサン、直鎖ヘプタン及び直鎖オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；シクロヘキサン及びエチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；ベンゼン、トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒；並びに石油系溶媒等；及び、メチルアルコール、エチルアルコール、直鎖プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、直鎖ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール及びポリエチレングリコールなどのアルコール系溶媒が挙げられる。前記溶媒は１種を単独で使用しても、２種以上を組合せて使用してもよい。
（安定剤）
安定剤は、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、及びイオウ系酸化防止剤等が挙げられる。フェノール系酸化防止剤としては、特に限定するものではないが、例えば、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、４，４－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、フェノール樹脂類、及びクレゾール樹脂類からなる群より選択される化合物等が挙げられる。リン系酸化防止剤としては、特に限定するものではないが、例えば、トリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、および亜リン酸エチルビス（２，４－ジｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）等が挙げられる。アミン系酸化防止剤としては、特に限定するものではないが、例えば、トリ又はテトラＣ１－３アルキルピペリジン又はその誘導体、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）オギサレート、１，２－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジルオキシ）エタン、フェニルナフチルアミン、Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－１，４－フェニレンジアミン、Ｎ－フェニル－Ｎ’－シクロヘキシル－１，４－フェニレンジアミン等が挙げられる。イオウ系酸化防止剤としては、特に限定するものではないが、例えば、ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート等が挙げられる。前記安定剤は１種を単独で使用しても、２種以上を組合せて使用してもよい。
安定剤は、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、及びイオウ系酸化防止剤等が挙げられる。フェノール系酸化防止剤としては、特に限定するものではないが、例えば、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、４，４－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、フェノール樹脂類、及びクレゾール樹脂類からなる群より選択される化合物等が挙げられる。リン系酸化防止剤としては、特に限定するものではないが、例えば、トリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、および亜リン酸エチルビス（２，４－ジｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）等が挙げられる。アミン系酸化防止剤としては、特に限定するものではないが、例えば、トリ又はテトラＣ１－３アルキルピペリジン又はその誘導体、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）オギサレート、１，２－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジルオキシ）エタン、フェニルナフチルアミン、Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－１，４－フェニレンジアミン、Ｎ－フェニル－Ｎ’－シクロヘキシル－１，４－フェニレンジアミン等が挙げられる。イオウ系酸化防止剤としては、特に限定するものではないが、例えば、ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート等が挙げられる。前記安定剤は１種を単独で使用しても、２種以上を組合せて使用してもよい。
上記のヒドロシリル化反応において、反応終点は、従来公知の方法に従い確認することができる。例えば、薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）、高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）又はガスクロマトグラフィー（ＧＣ）等によって原料化合物のピークが消失したことで確認できる。
反応終了後は、従来公知の方法に従い精製すればよい。例えば、有機層を水で洗浄した後、溶媒を除去することにより生成物を単離することができる。また、減圧蒸留や活性炭処理などを使用してもよい。
反応終了後は、従来公知の方法に従い精製すればよい。例えば、有機層を水で洗浄した後、溶媒を除去することにより生成物を単離することができる。また、減圧蒸留や活性炭処理などを使用してもよい。
本発明のポリシロキサン化合物の製造方法の一例としては、式（５）または式（６）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物１モル当量と上記式（４）で表される不飽和化合物１．３モル当量、塩化白金酸重曹中和物・ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含有量０．５ｗｔ％）をポリシロキサン化合物の質量に対し白金換算量で１０ｐｐｍ、トルエンをハイドロジェンシロキサン化合物に対して１００質量％を添加し、窒素雰囲気下８０℃で加熱撹拌を行う。２時間程度反応させることにより反応は完結する。また、その際に不飽和化合物あるいは生成する化合物をＧＣ測定等でモニタリングすることで反応の進行を確認できる。反応の完結後、ｎ－ヘキサンをハイドロジェンシロキサン化合物に対して１００質量％を添加し、有機層をメタノール水（メタノール：水＝４：１）で洗浄し、有機層に存在する溶媒、未反応の原料を減圧留去することで、上記式（１）で表されるポリシロキサン化合物を得ることができる。
［ポリマー］
本発明のポリシロキサン化合物は、ポリシロキサン化合物の（メタ）アクリロキシ基の（付加）重合から導かれる繰り返し単位を含むポリマー（重合体）を与えることができる。本発明のポリシロキサン化合物は、（メタ）アクリロキシ基などの重合性基を有する他の化合物（以下、重合性モノマー、または親水性モノマーという）との相溶性が良好である。そのため、重合性モノマーと共重合することにより無色透明の共重合体を与えることができる。また、単独で重合することも可能である。
本発明のポリシロキサン化合物は、ポリシロキサン化合物の（メタ）アクリロキシ基の（付加）重合から導かれる繰り返し単位を含むポリマー（重合体）を与えることができる。本発明のポリシロキサン化合物は、（メタ）アクリロキシ基などの重合性基を有する他の化合物（以下、重合性モノマー、または親水性モノマーという）との相溶性が良好である。そのため、重合性モノマーと共重合することにより無色透明の共重合体を与えることができる。また、単独で重合することも可能である。
本発明のポリシロキサン化合物と他の重合性（親水性）モノマーとの重合から導かれる繰返し単位を含む共重合体の製造において、本発明のポリシロキサン化合物の配合割合は、本発明のポリシロキサン化合物から導かれる繰り返し単位の質量割合がポリマーの全質量に対し１０質量％以上であることが好ましい。より詳細には、本発明のポリシロキサン化合物と重合性（親水性）モノマーとの合計１００質量部に対して本発明のポリシロキサン化合物の（メタ）アクリロキシ基の（付加）重合から導かれる繰り返し単位を好ましくは１０～８０質量部、より好ましくは１０～６０質量部となる量がよい。上記繰り返し単位の質量割合が１０質量％以上であれば、本発明のポリシロキサン化合物の特性が表れやすい。
重合性モノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、（ポリ）エチレングリコールジメタクリレート、ポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコールモノアルキルエーテル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２，３―ジヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のアクリル系モノマー；Ｎ，Ｎ－ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ－ジエチルアクリルアミド、Ｎ－アクリロイルモルホリン、Ｎ－メチル（メタ）アクリルアミド等のアクリル酸誘導体；Ｎ－ビニルピロリドン等、その他の不飽和脂肪族もしくは芳香族化合物、例えばクロトン酸、桂皮酸、ビニル安息香酸；及び（メタ）アクリル基などの重合性基を有するシロキサンモノマーが挙げられる。これらは１種単独でも、２種以上を併用してもよい。
本発明のポリシロキサン化合物と上記他の重合性モノマーとの共重合は従来公知の方法により行えばよい。例えば、熱重合開始剤や光重合開始剤など既知の重合開始剤を使用して行うことができる。該重合開始剤としては、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニル－プロパン－１－オン、アゾビスイソブチロニトリル、アゾビスジメチルバレロニトリル、ベンゾイルパーオキサイド、ｔｅｒｔ－ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオンアミジン）２塩酸塩などがあげられる。これら重合開始剤は単独でまたは２種以上を混合して用いることができる。重合開始剤の配合量は、重合成分の合計１００質量部に対して０．００１～２質量部が好ましく、より好ましくは０．０１～１質量部であるのがよい。
本発明のポリシロキサン化合物の（メタ）アクリロキシ基の重合から導かれる繰返し単位を含む重合体は、親水性に優れる。また、該重合体から得られるハイドロゲルは透明性および強度が高い。また、該重合体から医療用材料を得ることもできる。従って、本発明のポリシロキサン化合物は、医療用材料、例えば、眼科デバイス、コンタクトレンズ、眼内レンズ、人工角膜を製造するのに好適である。該重合体を用いた医療用材料の製造方法は特に制限されるものでなく、従来公知の医療用材料の製造方法に従えばよい。例えば、コンタクトレンズ、眼内レンズなどレンズの形状に成形する際には、切削加工法や鋳型（モールド）法などを使用できる。
以下、実施例及び比較例を示し、本発明をより詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
下記実施例において、１Ｈ－ＮＭＲ分析はＪＥＯＬ製のＥＣＳ４００を用い、測定溶媒として重クロロホルムを使用して実施した。
また、ガスクロマトグラフ（ＧＣ）測定は、すべて下記の条件で行われた。
測定装置：Ａｇｉｌｅｎｔ社ガスクロマトグラフィー（ＦＩＤ検出器）
キャピラリーカラム：Ａｇｉｌｅｎｔ社製 Ｊ＆Ｗ ＨＰ－５ｍｓ
（内径：０．２５ｍｍ×長さ：３０ｍ×膜厚：０．２５μｍ）
昇温プログラム：５０℃（５分）→１０℃／分→２５０℃（保持）
注入口温度：２５０℃
検出器温度：ＦＩＤ３００℃
キャリアガス：ヘリウム（１．０ｍｌ／分）
スプリット比：５０：１
注入量：１μＬ
下記実施例において、１Ｈ－ＮＭＲ分析はＪＥＯＬ製のＥＣＳ４００を用い、測定溶媒として重クロロホルムを使用して実施した。
また、ガスクロマトグラフ（ＧＣ）測定は、すべて下記の条件で行われた。
測定装置：Ａｇｉｌｅｎｔ社ガスクロマトグラフィー（ＦＩＤ検出器）
キャピラリーカラム：Ａｇｉｌｅｎｔ社製 Ｊ＆Ｗ ＨＰ－５ｍｓ
（内径：０．２５ｍｍ×長さ：３０ｍ×膜厚：０．２５μｍ）
昇温プログラム：５０℃（５分）→１０℃／分→２５０℃（保持）
注入口温度：２５０℃
検出器温度：ＦＩＤ３００℃
キャリアガス：ヘリウム（１．０ｍｌ／分）
スプリット比：５０：１
注入量：１μＬ
下記実施例および比較例に使用した化合物は以下の通りである。
ＭＨＭＶＣＨ：式（７）で表される化合物
ＡＨＰＭ：式（８Ａ）（８Ｂ）で表される化合物の異性体混合物
Ｃ－ＳｉＧＭＡ：式（９Ａ）（９Ｂ）で表される化合物の異性体混合物
ＭＨＭＶＣＨ：式（７）で表される化合物
合成例１
ジムロート、温度計を付けた３００ｍＬの三口ナスフラスコに、窒素雰囲気下で下記式（１０）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物５０．０ｇ、ＭＨＭＶＣＨ４２．６ｇ（ハイドロジェンシロキサン化合物に対する不飽和化合物のモル比＝１．３）、トルエン５０．０ｇ、塩化白金酸重曹中和物・ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含有量０．５ｗｔ％）０．０３ｇを添加し、８０℃まで加熱し、４時間熟成した。反応後にｎ－ヘキサンを５０．０ｇ添加し、メタノール水溶液（メタノール：水＝４：１）で５回洗浄し、内温８０℃で溶媒および未反応の原料などを減圧留去することで無色透明液体を得た。収量７２．５ｇ。１Ｈ－ＮＭＲから式（１０Ａ）で表される化合物であることを確認した。ＧＣ測定を行い、目的物の純度を面積％から算出したところ、９２．３％であった。
以下に１Ｈ－ＮＭＲデータを示す。
－０．１０－０．２０ｐｐｍ（２１Ｈ）、０．３０ｐｐｍ（１Ｈ）、０．５４ｐｐｍ（１Ｈ）、０．８８ｐｐｍ（３Ｈ）、１．１７ｐｐｍ（２．５Ｈ）、１．３０－１．８０ｐｐｍ（９Ｈ）、１．９０－２．００ｐｐｍ（３Ｈ）、２．２０－２．３０ｐｐｍ（０．５Ｈ）、４．０８ｐｐｍ（０．４Ｈ）、４．８４ｐｐｍ（０．６Ｈ）、５．４８－５．５８ｐｐｍ（１Ｈ）、６．０５－６．１２ｐｐｍ（１Ｈ）。
ジムロート、温度計を付けた３００ｍＬの三口ナスフラスコに、窒素雰囲気下で下記式（１０）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物５０．０ｇ、ＭＨＭＶＣＨ４２．６ｇ（ハイドロジェンシロキサン化合物に対する不飽和化合物のモル比＝１．３）、トルエン５０．０ｇ、塩化白金酸重曹中和物・ビニルシロキサン錯体のトルエン溶液（白金含有量０．５ｗｔ％）０．０３ｇを添加し、８０℃まで加熱し、４時間熟成した。反応後にｎ－ヘキサンを５０．０ｇ添加し、メタノール水溶液（メタノール：水＝４：１）で５回洗浄し、内温８０℃で溶媒および未反応の原料などを減圧留去することで無色透明液体を得た。収量７２．５ｇ。１Ｈ－ＮＭＲから式（１０Ａ）で表される化合物であることを確認した。ＧＣ測定を行い、目的物の純度を面積％から算出したところ、９２．３％であった。
－０．１０－０．２０ｐｐｍ（２１Ｈ）、０．３０ｐｐｍ（１Ｈ）、０．５４ｐｐｍ（１Ｈ）、０．８８ｐｐｍ（３Ｈ）、１．１７ｐｐｍ（２．５Ｈ）、１．３０－１．８０ｐｐｍ（９Ｈ）、１．９０－２．００ｐｐｍ（３Ｈ）、２．２０－２．３０ｐｐｍ（０．５Ｈ）、４．０８ｐｐｍ（０．４Ｈ）、４．８４ｐｐｍ（０．６Ｈ）、５．４８－５．５８ｐｐｍ（１Ｈ）、６．０５－６．１２ｐｐｍ（１Ｈ）。
合成例２
合成例１において式（１０）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物を下記式（１１）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物５０．０ｇ、ＭＨＶＣＨ１７．５ｇ（ハイドロジェンシロキサン化合物に対する不飽和化合物のモル比＝１．３）に替えた他は合成例１と同様の方法で無色透明液体を得た。収量６１．２ｇ。１Ｈ－ＮＭＲにより下記式（１１Ａ）で表される化合物であることを確認した。ＧＣ測定を行い、目的物の純度を面積％から算出したところ、９３．２％であった。
以下に１Ｈ－ＮＭＲデータを示す。
－０．１０－０．２０ｐｐｍ（３３Ｈ）、０．３０ｐｐｍ（１Ｈ）、０．５４ｐｐｍ（１Ｈ）、０．８８ｐｐｍ（３Ｈ）、１．１７ｐｐｍ（２．５Ｈ）、１．３０－１．８０ｐｐｍ（９Ｈ）、１．９０－２．００ｐｐｍ（３Ｈ）、２．２０－２．３０ｐｐｍ（０．５Ｈ）、４．０８ｐｐｍ（０．４Ｈ）、４．８４ｐｐｍ（０．６Ｈ）、５．４８－５．５８ｐｐｍ（１Ｈ）、６．０５－６．１２ｐｐｍ（１Ｈ）。
合成例１において式（１０）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物を下記式（１１）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物５０．０ｇ、ＭＨＶＣＨ１７．５ｇ（ハイドロジェンシロキサン化合物に対する不飽和化合物のモル比＝１．３）に替えた他は合成例１と同様の方法で無色透明液体を得た。収量６１．２ｇ。１Ｈ－ＮＭＲにより下記式（１１Ａ）で表される化合物であることを確認した。ＧＣ測定を行い、目的物の純度を面積％から算出したところ、９３．２％であった。
－０．１０－０．２０ｐｐｍ（３３Ｈ）、０．３０ｐｐｍ（１Ｈ）、０．５４ｐｐｍ（１Ｈ）、０．８８ｐｐｍ（３Ｈ）、１．１７ｐｐｍ（２．５Ｈ）、１．３０－１．８０ｐｐｍ（９Ｈ）、１．９０－２．００ｐｐｍ（３Ｈ）、２．２０－２．３０ｐｐｍ（０．５Ｈ）、４．０８ｐｐｍ（０．４Ｈ）、４．８４ｐｐｍ（０．６Ｈ）、５．４８－５．５８ｐｐｍ（１Ｈ）、６．０５－６．１２ｐｐｍ（１Ｈ）。
合成例３
合成例１において式（１０）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物を下記式（１２）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物５０．０ｇ、ＭＨＶＣＨ１０．５ｇ（ハイドロジェンシロキサン化合物に対する不飽和化合物のモル比＝１．３）に替えた他は合成例１と同様の方法で無色透明液体を得た。収量４８．８ｇ。１Ｈ－ＮＭＲにより下記式（１２Ａ）で表される化合物であることを確認した。
以下に１Ｈ－ＮＭＲデータを示す。
－０．１０－０．２０ｐｐｍ（１３２Ｈ）、０．３０ｐｐｍ（１Ｈ）、０．４０ｐｐｍ（２Ｈ）、０．５４ｐｐｍ（１Ｈ）、０．８８ｐｐｍ（６Ｈ）、１．１７ｐｐｍ（２．５Ｈ）、１．３０－１．８０ｐｐｍ（１３Ｈ）、１．９０－２．００ｐｐｍ（３Ｈ）、２．２０－２．３０ｐｐｍ（０．５Ｈ）、４．０８ｐｐｍ（０．４Ｈ）、４．８４ｐｐｍ（０．６Ｈ）、５．４８－５．５８ｐｐｍ（１Ｈ）、６．０５－６．１２ｐｐｍ（１Ｈ）。
合成例１において式（１０）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物を下記式（１２）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物５０．０ｇ、ＭＨＶＣＨ１０．５ｇ（ハイドロジェンシロキサン化合物に対する不飽和化合物のモル比＝１．３）に替えた他は合成例１と同様の方法で無色透明液体を得た。収量４８．８ｇ。１Ｈ－ＮＭＲにより下記式（１２Ａ）で表される化合物であることを確認した。
－０．１０－０．２０ｐｐｍ（１３２Ｈ）、０．３０ｐｐｍ（１Ｈ）、０．４０ｐｐｍ（２Ｈ）、０．５４ｐｐｍ（１Ｈ）、０．８８ｐｐｍ（６Ｈ）、１．１７ｐｐｍ（２．５Ｈ）、１．３０－１．８０ｐｐｍ（１３Ｈ）、１．９０－２．００ｐｐｍ（３Ｈ）、２．２０－２．３０ｐｐｍ（０．５Ｈ）、４．０８ｐｐｍ（０．４Ｈ）、４．８４ｐｐｍ（０．６Ｈ）、５．４８－５．５８ｐｐｍ（１Ｈ）、６．０５－６．１２ｐｐｍ（１Ｈ）。
比較合成例１
合成例２においてＭＨＭＶＣＨをＡＨＰＭ４０．８ｇ（ハイドロジェンシロキサン化合物に対する不飽和化合物のモル比＝１．３）に替えた他は合成例１と同様の方法で無色透明液体を得た。収量７２．５ｇ。１Ｈ－ＮＭＲにより下記式（１３Ａ）及び（１３Ｂ）で表される化合物の異性体混合物であることを確認した。ＧＣ測定を行い、目的物の純度を面積％から算出したところ、８９．３％であった。
合成例２においてＭＨＭＶＣＨをＡＨＰＭ４０．８ｇ（ハイドロジェンシロキサン化合物に対する不飽和化合物のモル比＝１．３）に替えた他は合成例１と同様の方法で無色透明液体を得た。収量７２．５ｇ。１Ｈ－ＮＭＲにより下記式（１３Ａ）及び（１３Ｂ）で表される化合物の異性体混合物であることを確認した。ＧＣ測定を行い、目的物の純度を面積％から算出したところ、８９．３％であった。
合成例２および比較合成例１に示す通り、シクロヘキサン環上に存在する第三級水酸基を含有する不飽和基含有化合物（ＭＨＭＶＣＨ）は、ハイドロジェンシロキサンとの付加反応において、ヒドロシリル化反応の際の副反応が抑制されることから、第一級及び第二級水酸基を有する不飽和基含有化合物（ＡＨＰＭ）に比べ高い純度でポリシロキサン化合物を製造できる。
［実施例１～４及び比較例１～３］
ハイドロゲルの製造例
上記合成例１～３で得た各化合物、上記比較合成例１で得た各化合物、上記式で表されるＣ－ＳｉＧＭＡ、下記式で表される３－［トリス（トリメチルシロキシ）シリル］プロピルメタクリレート（ＴＲＩＳ）、２－ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）、Ｎ、Ｎ－ジメチルアクリルアミド（ＤＭＡ）、エチレングリコールジメタクリレート（ＥＧＤＭＡ）、イルガキュア１１７３（ＩＲＧ１１７３）を、表１又は２に示す組成及び配合比で混合し、均一な溶液になるまで撹拌した。撹拌後Ｎ２によるバブリング５分間を行い、十分に脱気を行った後、ポリプロピレン製の鋳型へと封入した。高圧水銀ランプを用いてＵＶ照射を行い、硬化した。硬化後、イソプロパノール、５０％イソプロパノール水溶液、脱イオン水の順にそれぞれ数秒浸漬させることで洗浄を行い、ハイドロゲルフィルムを得た。得られたフィルムの各物性値を下記に示す方法に従い測定した。結果を表１及び２に示す。
ＴＲＩＳ：３－［トリス（トリメチルシロキシ）シリル］プロピルメタクリレート
ハイドロゲルの製造例
上記合成例１～３で得た各化合物、上記比較合成例１で得た各化合物、上記式で表されるＣ－ＳｉＧＭＡ、下記式で表される３－［トリス（トリメチルシロキシ）シリル］プロピルメタクリレート（ＴＲＩＳ）、２－ヒドロキシエチルメタクリレート（ＨＥＭＡ）、Ｎ、Ｎ－ジメチルアクリルアミド（ＤＭＡ）、エチレングリコールジメタクリレート（ＥＧＤＭＡ）、イルガキュア１１７３（ＩＲＧ１１７３）を、表１又は２に示す組成及び配合比で混合し、均一な溶液になるまで撹拌した。撹拌後Ｎ２によるバブリング５分間を行い、十分に脱気を行った後、ポリプロピレン製の鋳型へと封入した。高圧水銀ランプを用いてＵＶ照射を行い、硬化した。硬化後、イソプロパノール、５０％イソプロパノール水溶液、脱イオン水の順にそれぞれ数秒浸漬させることで洗浄を行い、ハイドロゲルフィルムを得た。得られたフィルムの各物性値を下記に示す方法に従い測定した。結果を表１及び２に示す。
ＴＲＩＳ：３－［トリス（トリメチルシロキシ）シリル］プロピルメタクリレート
［平衡含水率］
フィルムを脱イオン水に２５℃で４８時間浸漬させた後、表面の水分を拭き取り、水和したフィルムの質量を計測した。次に水和したフィルムを５０℃のオーブンで４８時間、２５℃のオーブンで２４時間乾燥させ、乾燥フィルムの質量を計測した。平衡含水率は以下の式により算出した。
平衡含水率（％）＝１００×（水和フィルムの質量－乾燥フィルムの質量）／水和フィルムの質量
フィルムを脱イオン水に２５℃で４８時間浸漬させた後、表面の水分を拭き取り、水和したフィルムの質量を計測した。次に水和したフィルムを５０℃のオーブンで４８時間、２５℃のオーブンで２４時間乾燥させ、乾燥フィルムの質量を計測した。平衡含水率は以下の式により算出した。
平衡含水率（％）＝１００×（水和フィルムの質量－乾燥フィルムの質量）／水和フィルムの質量
［透明性］
フィルムを脱イオン水に２５℃で４８時間浸漬させた後、表面の水分を拭き取り、水和したフィルムを作成した。その外観を目視により観察し、下記の指標により評価した。
Ａ：均一かつ透明であった
Ｂ：不均一あるいは白濁していた
フィルムを脱イオン水に２５℃で４８時間浸漬させた後、表面の水分を拭き取り、水和したフィルムを作成した。その外観を目視により観察し、下記の指標により評価した。
Ａ：均一かつ透明であった
Ｂ：不均一あるいは白濁していた
［弾性率（ヤング弾性率）および伸び率］
フィルムを脱イオン水に２５℃で４８時間浸漬させた後、表面の水分を拭き取り、水和したフィルムを作成した。該水和したフィルムのヤング弾性率をインストロン５９４３を用いて測定した。０．８ｃｍ×４．０ｃｍに切断されたフィルムを５０Ｎのロードセル、１ｃｍ／分のヘッド速度で測定を行い、縦軸に得られる応力、横軸にひずみをとった応力－ひずみ曲線の初期（直線部）の傾きを算出し、ヤング弾性率（ＭＰａ）とした。また、フィルムが破断した時の伸び率を最大伸び率（％）とした。
フィルムを脱イオン水に２５℃で４８時間浸漬させた後、表面の水分を拭き取り、水和したフィルムを作成した。該水和したフィルムのヤング弾性率をインストロン５９４３を用いて測定した。０．８ｃｍ×４．０ｃｍに切断されたフィルムを５０Ｎのロードセル、１ｃｍ／分のヘッド速度で測定を行い、縦軸に得られる応力、横軸にひずみをとった応力－ひずみ曲線の初期（直線部）の傾きを算出し、ヤング弾性率（ＭＰａ）とした。また、フィルムが破断した時の伸び率を最大伸び率（％）とした。
表２に示す通り、比較化合物としてＴＲＩＳを用いたハイドロゲルは透明性に難がある（比較例１）。また、比較化合物として式（１３Ａ）（１３Ｂ）、Ｃ－ＳｉＧＭＡを用いたハイドロゲルは弾性率が高く、最大伸び率も低い（比較例２及び３）。一方、表１に示す通り、本発明のポリシロキサン化合物を用いたハイドロゲルは、透明性に優れ、優れた弾性率および最大伸び率を有する。すなわち、本発明のポリシロキサン化合物を用いたハイドロゲルは、有益な親水性や十分な強度や柔軟性を有する医療用材料を提供する。
［産業上の利用可能性］
本発明のポリシロキサン化合物は親水性や強度に優れるハイドロゲルを与える。本発明のポリシロキサン化合物は、医療用材料、例えば、眼科用デバイス、コンタクトレンズ、眼内レンズ、人工角膜、及び眼鏡レンズ製造用モノマーとして有用である。
本発明のポリシロキサン化合物は親水性や強度に優れるハイドロゲルを与える。本発明のポリシロキサン化合物は、医療用材料、例えば、眼科用デバイス、コンタクトレンズ、眼内レンズ、人工角膜、及び眼鏡レンズ製造用モノマーとして有用である。
なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
（安定剤）
安定剤は、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、及びイオウ系酸化防止剤等が挙げられる。フェノール系酸化防止剤としては、特に限定するものではないが、例えば、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、４，４－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、フェノール樹脂類、及びクレゾール樹脂類からなる群より選択される化合物等が挙げられる。リン系酸化防止剤としては、特に限定するものではないが、例えば、トリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、および亜リン酸エチルビス（２，４－ジｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）等が挙げられる。アミン系酸化防止剤としては、特に限定するものではないが、例えば、トリ又はテトラＣ１－３アルキルピペリジン又はその誘導体、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）オキサレート、１，２－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジルオキシ）エタン、フェニルナフチルアミン、Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－１，４－フェニレンジアミン、Ｎ－フェニル－Ｎ’－シクロヘキシル－１，４－フェニレンジアミン等が挙げられる。イオウ系酸化防止剤としては、特に限定するものではないが、例えば、ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート等が挙げられる。前記安定剤は１種を単独で使用しても、２種以上を組合せて使用してもよい。
安定剤は、例えば、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、及びイオウ系酸化防止剤等が挙げられる。フェノール系酸化防止剤としては、特に限定するものではないが、例えば、ｐ－メトキシフェノール、ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－ｐ－クレゾール、ピロガロール、ｔｅｒｔ－ブチルカテコール、４，４－チオビス（３－メチル－６－ｔｅｒｔ－ブチルフェノール）、２，２’－メチレンビス（４－メチル－６－ｔ－ブチルフェノール）、フェノール樹脂類、及びクレゾール樹脂類からなる群より選択される化合物等が挙げられる。リン系酸化防止剤としては、特に限定するものではないが、例えば、トリス［２－［［２，４，８，１０－テトラキス（１，１－ジメチルエチル）ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－６－イル］オキシ］エチル］アミン、トリス［２－［（４，６，９，１１－テトラ－ｔｅｒｔ－ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン－２－イル）オキシ］エチル］アミン、および亜リン酸エチルビス（２，４－ジｔｅｒｔ－ブチル－６－メチルフェニル）等が挙げられる。アミン系酸化防止剤としては、特に限定するものではないが、例えば、トリ又はテトラＣ１－３アルキルピペリジン又はその誘導体、ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジル）オキサレート、１，２－ビス（２，２，６，６－テトラメチル－４－ピペリジルオキシ）エタン、フェニルナフチルアミン、Ｎ，Ｎ’－ジフェニル－１，４－フェニレンジアミン、Ｎ－フェニル－Ｎ’－シクロヘキシル－１，４－フェニレンジアミン等が挙げられる。イオウ系酸化防止剤としては、特に限定するものではないが、例えば、ジラウリルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート等が挙げられる。前記安定剤は１種を単独で使用しても、２種以上を組合せて使用してもよい。
Claims (11)
- １分子中に１個の炭素数８～２０の環状脂肪族炭化水素基を含むポリシロキサン化合物であって、前記環状脂肪族炭化水素基の脂肪族環上に（メタ）アクリロキシ基及び第３級水酸基を有するものであることを特徴とするポリシロキサン化合物。
- 前記ポリシロキサン化合物が、下記式（１）で表される化合物であることを特徴とする請求項１に記載のポリシロキサン化合物。
- 前記式（１）において、Ａが前記式（２）で表され、ｎが４～１００の整数であることを特徴とする請求項２に記載のポリシロキサン化合物。
- 前記式（１）において、Ａが前記式（３）で表され、ａが１であり、ｂが１であり、ｃが０であることを特徴とする請求項２に記載のポリシロキサン化合物。
- 前記式（１）において、Ｒ１がメチル基であることを特徴とする請求項２から請求項４のいずれか１項に記載のポリシロキサン化合物。
- 前記式（２）または（３）において、Ｒが互いに独立に、メチル基またはブチル基であることを特徴とする請求項２から請求項５のいずれか１項に記載のポリシロキサン化合物。
- 請求項１から請求項６のいずれか１項に記載のポリシロキサン化合物の（メタ）アクリロキシ基の重合から導かれる繰り返し単位を含むものであることを特徴とするポリマー。
- 前記繰り返し単位の質量割合がポリマーの全質量に対し１０質量％以上であることを特徴とする請求項７に記載のポリマー。
- 請求項７または請求項８に記載のポリマーを含むものであることを特徴とするハイドロゲル。
- 請求項７または請求項８に記載のポリマーを含むものであることを特徴とする医療用材料。
- 下記式（１）で表されるポリシロキサン化合物の製造方法であって、
下記式（４）で表される、末端に不飽和基を含有する化合物と、
下記式（５）または（６）で表されるハイドロジェンシロキサン化合物、
とをヒドロシリル化反応させて、前記式（１）で表されるポリシロキサン化合物を得る工程を含むことを特徴とするポリシロキサン化合物の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021168649A JP2023058871A (ja) | 2021-10-14 | 2021-10-14 | ポリシロキサン化合物及びその製造方法 |
| PCT/JP2022/030943 WO2023062933A1 (ja) | 2021-10-14 | 2022-08-16 | ポリシロキサン化合物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023058871A true JP2023058871A (ja) | 2023-04-26 |
| JP2023058871A5 JP2023058871A5 (ja) | 2024-04-04 |
Family
ID=85987367
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2023058871A (ja) |
| WO (1) | WO2023062933A1 (ja) |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0311025A (ja) * | 1989-06-08 | 1991-01-18 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 含フツ素脂環式アルコール化合物、その誘導体及びその製造方法 |
| JP4507580B2 (ja) | 2003-12-10 | 2010-07-21 | 東レ株式会社 | シリコーン化合物の製造方法およびシリコーン剤 |
| US8569538B2 (en) | 2006-06-30 | 2013-10-29 | Johnson & Johnson Vision Care, Inc. | Acryloyl materials for molded plastics |
| US9851472B2 (en) | 2015-03-27 | 2017-12-26 | Momentive Performance Materials Inc. | Silicone-based hydrophilic copolymer and hydrogel compositions comprising the same |
| JP6613615B2 (ja) * | 2015-05-19 | 2019-12-04 | 信越化学工業株式会社 | 高分子化合物及び単量体並びにレジスト材料及びパターン形成方法 |
| JP2017156649A (ja) * | 2016-03-03 | 2017-09-07 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物 |
| JP6876684B2 (ja) * | 2016-04-27 | 2021-05-26 | ダウ シリコーンズ コーポレーション | 新規オルガノポリシロキサン又はその酸中和塩、およびそれらの用途 |
| JP7145122B2 (ja) * | 2019-06-06 | 2022-09-30 | 信越化学工業株式会社 | シロキサン及びその製造方法 |
| JP2021088689A (ja) * | 2019-12-06 | 2021-06-10 | 信越化学工業株式会社 | シロキサン化合物及びその製造方法 |
-
2021
- 2021-10-14 JP JP2021168649A patent/JP2023058871A/ja active Pending
-
2022
- 2022-08-16 WO PCT/JP2022/030943 patent/WO2023062933A1/ja unknown
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|---|---|
| WO2023062933A1 (ja) | 2023-04-20 |
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