JP2000007687A - （メタ）アクリル基を有するホスホン酸化合物およびその製造方法 - Google Patents
（メタ）アクリル基を有するホスホン酸化合物およびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 機能性に優れた（メク）アクリル基を有する
ホスホン酸化合物を提供する。 【解決手段】 一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1は水素原子またはメチル基、Ａは炭素数３
〜１０の直鎖状または分岐状のアルキレンを示す。）で
表される（メタ）アクリル基を有するホスホン酸化合
物。
ホスホン酸化合物を提供する。 【解決手段】 一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1は水素原子またはメチル基、Ａは炭素数３
〜１０の直鎖状または分岐状のアルキレンを示す。）で
表される（メタ）アクリル基を有するホスホン酸化合
物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は（メタ）アクリル基
を有するホスホン酸化合物およびその製造方法に関し、
特に共重合可能な新規の（メタ）アクリル基を有するホ
スホン酸化合物およびその製造方法に関するものであ
る。
を有するホスホン酸化合物およびその製造方法に関し、
特に共重合可能な新規の（メタ）アクリル基を有するホ
スホン酸化合物およびその製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、リンを含む重合可能な（メタ）ア
クリル系モノマーとしては、下記の一般式（４）で表さ
れるようなリン酸型が知られており、すでに市場に供給
されている。
クリル系モノマーとしては、下記の一般式（４）で表さ
れるようなリン酸型が知られており、すでに市場に供給
されている。
【０００３】
【化５】 （式中、Ｒは水素原子またはメチル基を示す。）
【０００４】また、下記一般式（５）に示されるような
（メタ）アクリル基を有するビスホスホン酸エステル
は、歯科用セメントの接着成分として用いられることが
報告されている。（特開昭５８−２２２０９５号公報）
（メタ）アクリル基を有するビスホスホン酸エステル
は、歯科用セメントの接着成分として用いられることが
報告されている。（特開昭５８−２２２０９５号公報）
【０００５】
【化６】 （式中、Ｍは水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金
属、アンモニウム又は置換アンモニウムより選ばれ、少
なくとも１個は水素原子でない。）
属、アンモニウム又は置換アンモニウムより選ばれ、少
なくとも１個は水素原子でない。）
【０００６】一般に、Ｐ−Ｏ−Ｃ結合に比べて、Ｐ−Ｃ
結合はＣ−Ｃ結合に匹敵するほどの強力な結合エネルギ
ーを持つので、Ｐ−Ｃ結合は従来のリン酸型にはない、
耐熟性、耐加水分解性、耐候性等の機能性を高めること
が一般に知られている。特に、耐加水分解特性に優れて
いる。
結合はＣ−Ｃ結合に匹敵するほどの強力な結合エネルギ
ーを持つので、Ｐ−Ｃ結合は従来のリン酸型にはない、
耐熟性、耐加水分解性、耐候性等の機能性を高めること
が一般に知られている。特に、耐加水分解特性に優れて
いる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、前記従
来の課題に鑑み、Ｐ−Ｃ結合を有する機能性に優れた新
規な（メク）アクリル基を有するホスホン酸化合物およ
びその製造方法について鋭意研究を重ねた結果、次亜リ
ン酸または次亜リン酸塩と不飽和アルコールより得られ
る（ヒドロキシアルキル）ホスホン酸と、（メタ）アク
リル酸ハロゲン化物とを反応させることにより、新規な
（メタ）アクリル基を有するホスホン酸化合物が得られ
ることを知見し、本発明を完成させた。
来の課題に鑑み、Ｐ−Ｃ結合を有する機能性に優れた新
規な（メク）アクリル基を有するホスホン酸化合物およ
びその製造方法について鋭意研究を重ねた結果、次亜リ
ン酸または次亜リン酸塩と不飽和アルコールより得られ
る（ヒドロキシアルキル）ホスホン酸と、（メタ）アク
リル酸ハロゲン化物とを反応させることにより、新規な
（メタ）アクリル基を有するホスホン酸化合物が得られ
ることを知見し、本発明を完成させた。
【０００８】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、下記一
般式（１）
般式（１）
【０００９】
【化７】 （式中、Ｒ1は水素原子またはメチル基、Ａは炭素数３
〜１０の直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。）
で表される（メタ）アクリル基を有するホスホン酸化合
物である。
〜１０の直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。）
で表される（メタ）アクリル基を有するホスホン酸化合
物である。
【００１０】また、本発明は、次亜リン酸または次亜リ
ン酸塩と不飽和アルコールとをアルコール溶媒中でラジ
カル開始剤の存在下で反応させて、下記一般式（２）
ン酸塩と不飽和アルコールとをアルコール溶媒中でラジ
カル開始剤の存在下で反応させて、下記一般式（２）
【００１１】
【化８】 （式中、Ａは炭素数３〜１０の直鎖状または分岐状のア
ルキレン基を示す。）で表されるヒドロキシアルキルホ
スフィン酸を生成させる第一工程、次いで該ヒドロキシ
アルキルホスフィン酸を酸化して、下記一般式（３）
ルキレン基を示す。）で表されるヒドロキシアルキルホ
スフィン酸を生成させる第一工程、次いで該ヒドロキシ
アルキルホスフィン酸を酸化して、下記一般式（３）
【００１２】
【化９】 （式中、Ａは前記と同義を示す。）で表されるヒドロキ
シアルキルホスホン酸を生成させる第二工程、次いで該
ヒドロキシアルキルホスホン酸と（メタ）アクリル酸ハ
ロゲン化物を反応させる第三工程からなることを特徴と
する下記一般式（１）
シアルキルホスホン酸を生成させる第二工程、次いで該
ヒドロキシアルキルホスホン酸と（メタ）アクリル酸ハ
ロゲン化物を反応させる第三工程からなることを特徴と
する下記一般式（１）
【００１３】
【化１０】 （式中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を示し、Ａは前
記と同義を示す。）で表される（メタ）アクリル基を有
するホスホン酸化合物の製造方法である。
記と同義を示す。）で表される（メタ）アクリル基を有
するホスホン酸化合物の製造方法である。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に係わる下記一般式（１）で表されるアクリル基
を有するホスホン酸化合物の製造方法は、次の第一工程
〜第三工程からなる３つの工程からなる。
本発明に係わる下記一般式（１）で表されるアクリル基
を有するホスホン酸化合物の製造方法は、次の第一工程
〜第三工程からなる３つの工程からなる。
【００１５】
【化１１】
【００１６】式中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を示
す。Ａは炭素数３〜１０の直鎖状または分岐状のアルキ
レン基を示し、例えば、メチレン、エチレン、プロピレ
ン、ブチレン、ヘキシレン、オクチレン、デシレン、２
−メチルブチレン、３−メチルブチレンなどが挙げられ
る。また、Ａは好ましくは炭素数３〜５の直鎖状または
分岐状のアルキレン基である。
す。Ａは炭素数３〜１０の直鎖状または分岐状のアルキ
レン基を示し、例えば、メチレン、エチレン、プロピレ
ン、ブチレン、ヘキシレン、オクチレン、デシレン、２
−メチルブチレン、３−メチルブチレンなどが挙げられ
る。また、Ａは好ましくは炭素数３〜５の直鎖状または
分岐状のアルキレン基である。
【００１７】（第一工程）まず、第一工程は、次亜リン
酸または次亜リン酸塩と不飽和アルコールとをアルコー
ル溶媒中でラジカル開始剤の存在下で反応させて、下記
一般式（２）
酸または次亜リン酸塩と不飽和アルコールとをアルコー
ル溶媒中でラジカル開始剤の存在下で反応させて、下記
一般式（２）
【００１８】
【化１２】 （式中、Ａは炭素数３〜１０の直鎖状または分岐状のア
ルキレン基を示す。）で表されるヒドロキシアルキルホ
スフィン酸を生成させる工程である。
ルキレン基を示す。）で表されるヒドロキシアルキルホ
スフィン酸を生成させる工程である。
【００１９】次亜リン酸または次亜リン酸塩としては、
次亜リン酸、次亜リン酸ナトリウム、次亜リン酸カリウ
ム、次亜リン酸カルシウム、次亜リン酸マグネシウム、
または次亜リン酸アンモニウム等が挙げられるが、工業
的には最も安価な次亜リン酸ナトリウムが用いられる。
次亜リン酸、次亜リン酸ナトリウム、次亜リン酸カリウ
ム、次亜リン酸カルシウム、次亜リン酸マグネシウム、
または次亜リン酸アンモニウム等が挙げられるが、工業
的には最も安価な次亜リン酸ナトリウムが用いられる。
【００２０】反応原料である不飽和アルコールとして
は、炭素数３〜１０の直鎖状または分岐状の不飽和アル
キル基のアルコールが用いられ、例えばアリルアルコー
ル、β−メタリルアルコール、３−ブテン−１−オー
ル、３−メチル−３−ブテン−１−オール、２−メチル
−３−ブテン−１−オール、４−ペンテン−１−オー
ル、５−ヘキセン−１−オール、６−ヘプテン−１−オ
ール、７−オクテン−１−オール、８−ノネン−１−オ
ール、９−デセン−１−オール等が挙げられる。
は、炭素数３〜１０の直鎖状または分岐状の不飽和アル
キル基のアルコールが用いられ、例えばアリルアルコー
ル、β−メタリルアルコール、３−ブテン−１−オー
ル、３−メチル−３−ブテン−１−オール、２−メチル
−３−ブテン−１−オール、４−ペンテン−１−オー
ル、５−ヘキセン−１−オール、６−ヘプテン−１−オ
ール、７−オクテン−１−オール、８−ノネン−１−オ
ール、９−デセン−１−オール等が挙げられる。
【００２１】上記二つの原料をアルコール溶媒中でラジ
カル開始剤の存在下で反応させる。反応条件は、原料の
物性、溶媒の種類およびラジカル開始剤によって異なる
が、反応温度は通常５０〜１２０℃、好ましくは５０〜
１００℃であり、反応時間は通常１〜２４時間、好まし
くは２〜１０時間である。反応は常圧または加圧下のい
ずれで行ってもよいが、好ましくは常圧下で行うのが工
業的に有利である。
カル開始剤の存在下で反応させる。反応条件は、原料の
物性、溶媒の種類およびラジカル開始剤によって異なる
が、反応温度は通常５０〜１２０℃、好ましくは５０〜
１００℃であり、反応時間は通常１〜２４時間、好まし
くは２〜１０時間である。反応は常圧または加圧下のい
ずれで行ってもよいが、好ましくは常圧下で行うのが工
業的に有利である。
【００２２】不飽和アルコールと次亜リン酸または次亜
リン酸塩とのモル比は、１：１〜１：５モル、好ましく
は１：１〜１：２モルが適当である。反応溶媒は、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−プ
ロピルアルコール等の低級アルコールを使用するのが好
ましく、容量で１〜５０％の水分を含んでいてもかまわ
ない。
リン酸塩とのモル比は、１：１〜１：５モル、好ましく
は１：１〜１：２モルが適当である。反応溶媒は、メタ
ノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−プ
ロピルアルコール等の低級アルコールを使用するのが好
ましく、容量で１〜５０％の水分を含んでいてもかまわ
ない。
【００２３】また使用するラジカル開始剤は、半減期が
上記反応温度に適したものを使用するのが好ましく、例
えばアセチルパーオキサイド、イソブチルパーオキサイ
ド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイルパーオキ
サイド等のジアシルパーオキサイド類、ジイソプロピル
パーオキシジカルボネート、ジ−２−エチルヘキシルパ
ーオキシジカルボネート等のパーオキシジカルボネート
類、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレー卜、ｔ−ブチル
パーピバレート等のパーオキシエステル類、２，２′−
アゾビス（２−メチルプロピルニトリル）、２，２′−
アゾビス（２−メチルプロピオネイト）等のアゾビス類
等が挙げられる。ラジカル開始剤の使用量は、不飽和ア
ルコールに対して、０．０５〜５％モル、好ましくは
０．１〜１％モルが適当である。
上記反応温度に適したものを使用するのが好ましく、例
えばアセチルパーオキサイド、イソブチルパーオキサイ
ド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイルパーオキ
サイド等のジアシルパーオキサイド類、ジイソプロピル
パーオキシジカルボネート、ジ−２−エチルヘキシルパ
ーオキシジカルボネート等のパーオキシジカルボネート
類、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレー卜、ｔ−ブチル
パーピバレート等のパーオキシエステル類、２，２′−
アゾビス（２−メチルプロピルニトリル）、２，２′−
アゾビス（２−メチルプロピオネイト）等のアゾビス類
等が挙げられる。ラジカル開始剤の使用量は、不飽和ア
ルコールに対して、０．０５〜５％モル、好ましくは
０．１〜１％モルが適当である。
【００２４】反応終了後は、過剰の次亜リン酸または次
亜リン酸塩、および溶媒のアルコールを分離し、生成し
た一般式（２）で表されるヒドロキシアルキルホスフィ
ン酸を抽出等の操作により得ることができる。
亜リン酸塩、および溶媒のアルコールを分離し、生成し
た一般式（２）で表されるヒドロキシアルキルホスフィ
ン酸を抽出等の操作により得ることができる。
【００２５】（第二工程）次に、第二工程は、上記で得
られた一般式（２）で表されるヒドロキシアルキルホス
フィン酸を過酸化水素のような酸化剤で酸化させて、下
記一般式（３）
られた一般式（２）で表されるヒドロキシアルキルホス
フィン酸を過酸化水素のような酸化剤で酸化させて、下
記一般式（３）
【００２６】
【化１３】 （式中、Ａは前記と同義を示す。）で表されるヒドロキ
シアルキルホスホン酸を生成させる工程である。
シアルキルホスホン酸を生成させる工程である。
【００２７】酸化剤は、過酸化水素、過酢酸、ジ−ｔｅ
ｒｔ−ブチルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、
ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエー
ト、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシドピバレートなどの有
機過酸化物、空気、酸素、オゾンなどが使用できるが、
過酸化水素が好ましい。
ｒｔ−ブチルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、
ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエー
ト、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシドピバレートなどの有
機過酸化物、空気、酸素、オゾンなどが使用できるが、
過酸化水素が好ましい。
【００２８】反応条件は、反応温度は室温〜１００℃、
好ましくは５０〜８０℃であり、反応時間は通常ｌ〜２
４時間、好ましくは２〜５時間である。
好ましくは５０〜８０℃であり、反応時間は通常ｌ〜２
４時間、好ましくは２〜５時間である。
【００２９】上記の一般式（２）で表されるヒドロキシ
アルキルホスフィン酸に対して、酸化剤はモル比で、
１：１〜１：２モル、好ましくは１：１〜１：１．５モ
ルが適当である。なおこの工程の反応において、反応溶
媒は必ずしも必要ではなく無溶媒でよいが、反応等を制
御する必要がある場合は、溶媒を使用しても差し支えな
い。その場合、例えばメタノール、エタノールなどのア
ルコール類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどの
ニトリル類、水などの溶媒を挙げることができる。反応
終了後は、溶媒を濃縮分離し、生成した一般式（３）で
表されるヒドロキシアルキルホスホン酸を抽出、晶析等
の操作により得ることができる。
アルキルホスフィン酸に対して、酸化剤はモル比で、
１：１〜１：２モル、好ましくは１：１〜１：１．５モ
ルが適当である。なおこの工程の反応において、反応溶
媒は必ずしも必要ではなく無溶媒でよいが、反応等を制
御する必要がある場合は、溶媒を使用しても差し支えな
い。その場合、例えばメタノール、エタノールなどのア
ルコール類、アセトニトリル、プロピオニトリルなどの
ニトリル類、水などの溶媒を挙げることができる。反応
終了後は、溶媒を濃縮分離し、生成した一般式（３）で
表されるヒドロキシアルキルホスホン酸を抽出、晶析等
の操作により得ることができる。
【００３０】上記の工程で得られる、一般式（３）で表
されるヒドロキシアルキルホスホン酸は、例えば、３−
ヒドロキシプロピルホスホン酸、４−ヒドロキシブチル
ホスホン酸、５−ヒドロキシペンチルホスホン酸、６−
ヒドロキシヘキシルホスホン酸、７−ヒドロキシヘプチ
ルホスホン酸、８−ヒドロキシオクチルホスホン酸、９
−ヒドロキシノニルホスホン酸、１０−ヒドロキシデシ
ルホスホン酸、４−ヒドロキシ−２−メチルブチルホス
ホン酸などが挙げられる。
されるヒドロキシアルキルホスホン酸は、例えば、３−
ヒドロキシプロピルホスホン酸、４−ヒドロキシブチル
ホスホン酸、５−ヒドロキシペンチルホスホン酸、６−
ヒドロキシヘキシルホスホン酸、７−ヒドロキシヘプチ
ルホスホン酸、８−ヒドロキシオクチルホスホン酸、９
−ヒドロキシノニルホスホン酸、１０−ヒドロキシデシ
ルホスホン酸、４−ヒドロキシ−２−メチルブチルホス
ホン酸などが挙げられる。
【００３１】（第三工程）次に、第三工程は、上記で得
られた一般式（３）で表されるヒドロキシアルキルホス
ホン酸と（メタ）アクリル酸ハロゲン化物とを反応させ
て、目的物の一般式（１）で表される（メタ）アクリル
基を有するホスホン酸化合物を生成させる工程である。
られた一般式（３）で表されるヒドロキシアルキルホス
ホン酸と（メタ）アクリル酸ハロゲン化物とを反応させ
て、目的物の一般式（１）で表される（メタ）アクリル
基を有するホスホン酸化合物を生成させる工程である。
【００３２】また、反応後、目的物は、有機溶媒で抽出
し、必要に応じて水、飽和食塩水などで洗浄し、分液後
抽出溶媒を留去させることにより得ることができる。反
応温度は、限定的ではなく、通常−３０〜１００℃、好
ましくは０〜２０℃であり、反応時間は通常１〜２４時
間、好ましくは１〜１０時間である。また必要に応じて
熟成反応を行えばよい。
し、必要に応じて水、飽和食塩水などで洗浄し、分液後
抽出溶媒を留去させることにより得ることができる。反
応温度は、限定的ではなく、通常−３０〜１００℃、好
ましくは０〜２０℃であり、反応時間は通常１〜２４時
間、好ましくは１〜１０時間である。また必要に応じて
熟成反応を行えばよい。
【００３３】（メタ）アクリル酸ハロゲン化物と一般式
（３）で表されるヒドロキシアルキルホスホン酸とのモ
ル比は、１：１〜２：１モル、好ましくは１．０５：１
〜１．２：１モルが適当である。
（３）で表されるヒドロキシアルキルホスホン酸とのモ
ル比は、１：１〜２：１モル、好ましくは１．０５：１
〜１．２：１モルが適当である。
【００３４】また、必要に応じて重合禁止剤および反応
溶媒を添加して反応を行う。重合禁止剤の種類は、例え
ば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテ
ル、フェノチアジン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−
ｐ−クレゾール、チオ尿素、尿素、Ｎ−フェニル−Ｎ′
−インプロピル−ｐ−フェニレンジアミン等を挙げるこ
とができるが、これに特に制限されるものではない。ま
た、重合禁止剤の添加量は、得られる目的物に対して１
００〜１００００ｐｐｍ、好ましくは５００〜５０００
ｐｐｍ程度であるが、これらは特に制限されるものでは
ない。
溶媒を添加して反応を行う。重合禁止剤の種類は、例え
ば、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテ
ル、フェノチアジン、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−
ｐ−クレゾール、チオ尿素、尿素、Ｎ−フェニル−Ｎ′
−インプロピル−ｐ−フェニレンジアミン等を挙げるこ
とができるが、これに特に制限されるものではない。ま
た、重合禁止剤の添加量は、得られる目的物に対して１
００〜１００００ｐｐｍ、好ましくは５００〜５０００
ｐｐｍ程度であるが、これらは特に制限されるものでは
ない。
【００３５】また溶媒は、アセトニトリル、プロピオニ
トニル、ブチロニトリル等のニトリル化合物、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサ
ン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、ア
セトン、メチルエチルケトン、ＭＩＢＫ等のケトン類、
ＤＭＳＯ、スルホラン、ＴＨＦ、ＤＭＦ、ジメチルアセ
トアミド、水等が挙げられるが、特に限定されるもので
ない。
トニル、ブチロニトリル等のニトリル化合物、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサ
ン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、ア
セトン、メチルエチルケトン、ＭＩＢＫ等のケトン類、
ＤＭＳＯ、スルホラン、ＴＨＦ、ＤＭＦ、ジメチルアセ
トアミド、水等が挙げられるが、特に限定されるもので
ない。
【００３６】本発明の製造方法により得られる、一般式
（１）で表される（メタ）アクリル基を有するホスホン
酸化合物（（メタ）アクリロイルオキシアルキルホスホ
ン酸）は、例えば、３−アクリロイルオキシプロピルホ
スホン酸、４−アクリロイルオキシブチルホスホン酸、
５−アクリロイルオキシペンチルホスホン酸、６−アク
リロイルオキシヘキシルホスホン酸、７−アクリロイル
オキシヘプチルホスホン酸、８−アクリロイルオキシオ
クチルホスホン酸、９−アクリロイルオキシノニルホス
ホン酸、１０−アクリロイルオキシデシルホスホン酸、
４−アクリロイルオキシ−２−メチルブチルホスホン
酸、４−メタクリロイルオキシブチルホスホン酸、５−
メタクリロイルオキシペンチルホスホン酸、６−メタク
リロイルオキシヘキシルホスホン酸、７−メタクリロイ
ルオキシヘプチルホスホン酸、８−メタクリロイルオキ
シオクチルホスホン酸、９−メタクリロイルオキシノニ
ルホスホン酸、１０−メタクリロイルオキシデシルホス
ホン酸、４−メタクリロイルオキシ−２−メチルブチル
ホスホン酸などが挙げられる。
（１）で表される（メタ）アクリル基を有するホスホン
酸化合物（（メタ）アクリロイルオキシアルキルホスホ
ン酸）は、例えば、３−アクリロイルオキシプロピルホ
スホン酸、４−アクリロイルオキシブチルホスホン酸、
５−アクリロイルオキシペンチルホスホン酸、６−アク
リロイルオキシヘキシルホスホン酸、７−アクリロイル
オキシヘプチルホスホン酸、８−アクリロイルオキシオ
クチルホスホン酸、９−アクリロイルオキシノニルホス
ホン酸、１０−アクリロイルオキシデシルホスホン酸、
４−アクリロイルオキシ−２−メチルブチルホスホン
酸、４−メタクリロイルオキシブチルホスホン酸、５−
メタクリロイルオキシペンチルホスホン酸、６−メタク
リロイルオキシヘキシルホスホン酸、７−メタクリロイ
ルオキシヘプチルホスホン酸、８−メタクリロイルオキ
シオクチルホスホン酸、９−メタクリロイルオキシノニ
ルホスホン酸、１０−メタクリロイルオキシデシルホス
ホン酸、４−メタクリロイルオキシ−２−メチルブチル
ホスホン酸などが挙げられる。
【００３７】本発明の一般式（１）で表される（メタ）
アクリル基を有するホスホン酸化合物は、有機系の化合
物や組成物に添加もしくは共重合させることによつて、
接着剤組成物、コーティング組成物、ラテックス組成
物、塗料組成物等を改質することができ、鉄、アルミ、
銅などの金属への密着性、接着性の向上、防錆性、耐薬
品性、防汚性、難燃性などの機能を付与することができ
る。特に、メタクリル酸メチル等と共重合させる際に、
安息香酸銅、酢酸銅等の銅塩を添加することにより得ら
れるプラスチック製の光学フィルターに好適である。光
学フィルターに使用した場合、高湿度、高温雰囲気下で
もフィルターが失透し難い効果が期待できる。
アクリル基を有するホスホン酸化合物は、有機系の化合
物や組成物に添加もしくは共重合させることによつて、
接着剤組成物、コーティング組成物、ラテックス組成
物、塗料組成物等を改質することができ、鉄、アルミ、
銅などの金属への密着性、接着性の向上、防錆性、耐薬
品性、防汚性、難燃性などの機能を付与することができ
る。特に、メタクリル酸メチル等と共重合させる際に、
安息香酸銅、酢酸銅等の銅塩を添加することにより得ら
れるプラスチック製の光学フィルターに好適である。光
学フィルターに使用した場合、高湿度、高温雰囲気下で
もフィルターが失透し難い効果が期待できる。
【００３８】さらに、本発明の一般式（１）で表される
（メタ）アクリル基を有するホスホン酸化合物は、ホス
ホン酸がＰ−Ｃ結合から成るので、Ｐ−Ｏ−Ｃ結合のリ
ン酸基に比べて、耐熱性、耐加水分解性等が良好で、樹
脂、塗料、接着剤等において耐候性、耐久性、耐熱性、
耐加水分解性などを向上させることができる。
（メタ）アクリル基を有するホスホン酸化合物は、ホス
ホン酸がＰ−Ｃ結合から成るので、Ｐ−Ｏ−Ｃ結合のリ
ン酸基に比べて、耐熱性、耐加水分解性等が良好で、樹
脂、塗料、接着剤等において耐候性、耐久性、耐熱性、
耐加水分解性などを向上させることができる。
【００３９】
【実施例】以下、本発明を実施例によって更に説明する
が、これらに限定されるものではない。
が、これらに限定されるものではない。
【００４０】実施例１ （３−アクリロイルオキシプロピル）ホスホン酸の合成 （第一工程）撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサ
ーを備えた１０００ｍｌの四つ口フラスコに、次亜リン
酸ナトリウム・１水塩１０６．０ｇ（１．０モル）と純
水３０ｍｌ、エタノール３００ｍｌを仕込み、ラジカル
開始剤のｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキ
サネート３．５０ｇをアリルアルコール５８．ｌｇ
（１．０モル）に溶解させた溶液を、約４時間かけてエ
タノール還流下に、滴下反応させた。滴下終了後、還流
温度で２時間熟成させ、室温まで冷却した。
ーを備えた１０００ｍｌの四つ口フラスコに、次亜リン
酸ナトリウム・１水塩１０６．０ｇ（１．０モル）と純
水３０ｍｌ、エタノール３００ｍｌを仕込み、ラジカル
開始剤のｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキ
サネート３．５０ｇをアリルアルコール５８．ｌｇ
（１．０モル）に溶解させた溶液を、約４時間かけてエ
タノール還流下に、滴下反応させた。滴下終了後、還流
温度で２時間熟成させ、室温まで冷却した。
【００４１】この反応液に（１＋１）塩酸水溶液をｐＨ
ｌの酸性となるまで添加したところ、塩化ナトリウムが
析出してきた。液量を１／２まで濃縮し、生成した塩化
ナトリウムを濾別除去し、濃縮することにより無色透明
液体１２８．６ｇを得た。
ｌの酸性となるまで添加したところ、塩化ナトリウムが
析出してきた。液量を１／２まで濃縮し、生成した塩化
ナトリウムを濾別除去し、濃縮することにより無色透明
液体１２８．６ｇを得た。
【００４２】分析結果は、以下の通りで、生成物は３−
ヒドロキシプロピルホスフィン酸であった。中和滴定よ
り求めた純度は、９３．７％で、収率は９７．１％であ
った。
ヒドロキシプロピルホスフィン酸であった。中和滴定よ
り求めた純度は、９３．７％で、収率は９７．１％であ
った。
【００４３】 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ、δ）；１．７
０〜１．９６（ｍ、４Ｈ）、３．６８（ｔ、Ｊ＝５．６
Ｈｚ、２Ｈ）、５．８４（ｓ、１Ｈ）、７．０６（ｄ、
Ｊ＝５４３Ｈｚ、１Ｈ）ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）； ３２５０（ν−ＯＨ）、
２９５０、２８８０（ν−ＣＨ）、２７６０（ν−ＰＯ
ＯＨ）、２３７０（ν−ＰＨ）、１１４５（ν−Ｐ＝
Ｏ）、９５２（ν−Ｐ−ＯＨ）
０〜１．９６（ｍ、４Ｈ）、３．６８（ｔ、Ｊ＝５．６
Ｈｚ、２Ｈ）、５．８４（ｓ、１Ｈ）、７．０６（ｄ、
Ｊ＝５４３Ｈｚ、１Ｈ）ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）； ３２５０（ν−ＯＨ）、
２９５０、２８８０（ν−ＣＨ）、２７６０（ν−ＰＯ
ＯＨ）、２３７０（ν−ＰＨ）、１１４５（ν−Ｐ＝
Ｏ）、９５２（ν−Ｐ−ＯＨ）
【００４４】（第二工程）得られた３−ヒドロキシプロ
ピルホスフィン酸１０５．９ｇ（０．８モル）、純水２
００ｍｌを５００ｍｌ四つ口フラスコに仕込み、８０℃
に昇温した。次いで、滴下ロートに仕込んだ３５％過酸
化水素８１．６ｇ（０．８４モル）を、９０〜９５℃に
保ちながら、約１時間かけて滴下した。滴下終了後、同
温度で２時間熟成した。冷却後、溶媒を濃縮し、さらに
乾燥させて、無色透明な粘性液体１１３．２ｇを得た。
分析の結果、生成物は、（３−ヒドロキシプロピル）ホ
スホン酸で、中和滴定純度９５．２％、収率は９６．２
％であった。分析結果は、以下の通りである。
ピルホスフィン酸１０５．９ｇ（０．８モル）、純水２
００ｍｌを５００ｍｌ四つ口フラスコに仕込み、８０℃
に昇温した。次いで、滴下ロートに仕込んだ３５％過酸
化水素８１．６ｇ（０．８４モル）を、９０〜９５℃に
保ちながら、約１時間かけて滴下した。滴下終了後、同
温度で２時間熟成した。冷却後、溶媒を濃縮し、さらに
乾燥させて、無色透明な粘性液体１１３．２ｇを得た。
分析の結果、生成物は、（３−ヒドロキシプロピル）ホ
スホン酸で、中和滴定純度９５．２％、収率は９６．２
％であった。分析結果は、以下の通りである。
【００４５】 1Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ2 Ｏ、δ）；１．７４〜
２．０２（ｍ、４Ｈ）、３．６０〜３．６８（ｍ、２
Ｈ）、５．４０（ｄ、Ｊ＝６．１Ｈｚ、２Ｈ）ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）； ３２９０（ν−ＯＨ）、
２９１０（ν−ＣＨ）、２７６０（ν−ＰＯＯＨ）、１
１４０（ν−Ｐ＝Ｏ）、９７０（ν−Ｐ−ＯＨ）
２．０２（ｍ、４Ｈ）、３．６０〜３．６８（ｍ、２
Ｈ）、５．４０（ｄ、Ｊ＝６．１Ｈｚ、２Ｈ）ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）； ３２９０（ν−ＯＨ）、
２９１０（ν−ＣＨ）、２７６０（ν−ＰＯＯＨ）、１
１４０（ν−Ｐ＝Ｏ）、９７０（ν−Ｐ−ＯＨ）
【００４６】（第三工程）撹拌機、温度計、および蒸留
ラインを備えたｌＬの四つ口フラスコに、３−ヒドロキ
シプロピルホスホン酸４４．ｌｇ（０．３モル）、アセ
トニトリル５００ｍｌを仕込み、常圧にて撹拌しながら
加熟して、アセトニトリルを約２００ｍｌ留出させた。
アクリル酸クロライド３６．３ｇ（０．４モル）、重合
禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル１．５
ｇを添加し、窒素ガスを系内に絶えず導入しながら、５
０℃にて３時間反応させた。
ラインを備えたｌＬの四つ口フラスコに、３−ヒドロキ
シプロピルホスホン酸４４．ｌｇ（０．３モル）、アセ
トニトリル５００ｍｌを仕込み、常圧にて撹拌しながら
加熟して、アセトニトリルを約２００ｍｌ留出させた。
アクリル酸クロライド３６．３ｇ（０．４モル）、重合
禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエーテル１．５
ｇを添加し、窒素ガスを系内に絶えず導入しながら、５
０℃にて３時間反応させた。
【００４７】反応液を濃縮し、さらに乾燥させて、無色
透明な粘性液体を５９．６ｇ得た。中和滴定純度９５．
０％で、収率は９７．２％であった。
透明な粘性液体を５９．６ｇ得た。中和滴定純度９５．
０％で、収率は９７．２％であった。
【００４８】 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、δ）；１．８
２〜２．０４（ｍ、４Ｈ）、４．１９〜４．２５（ｍ、
２Ｈ）、５．８４（ｄｄ、Ｊ＝１０．４Ｈｚ、Ｊ＝１．
５Ｈｚ、１Ｈ）、６．１２（ｄｄ、Ｊ＝１０．４Ｈｚ、
Ｊ＝１７．４Ｈｚ、１Ｈ）、６．４１（ｄｄ、Ｊ＝１
７．１Ｈｚ、Ｊ＝１．５Ｈｚ、１Ｈ）、１０．９６
（ｓ、２Ｈ）ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）； ２９２０（ν−ＣＨ）、
２７３０（ν−ＰＯＯＨ）、１７１５（ν−Ｃ＝Ｏ）、
１６３０（ν−Ｃ＝Ｃ−Ｃ＝Ｏ）、１１７０（ν−Ｐ＝
Ｏ）、９７５（ν−Ｐ−ＯＨ）
２〜２．０４（ｍ、４Ｈ）、４．１９〜４．２５（ｍ、
２Ｈ）、５．８４（ｄｄ、Ｊ＝１０．４Ｈｚ、Ｊ＝１．
５Ｈｚ、１Ｈ）、６．１２（ｄｄ、Ｊ＝１０．４Ｈｚ、
Ｊ＝１７．４Ｈｚ、１Ｈ）、６．４１（ｄｄ、Ｊ＝１
７．１Ｈｚ、Ｊ＝１．５Ｈｚ、１Ｈ）、１０．９６
（ｓ、２Ｈ）ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）； ２９２０（ν−ＣＨ）、
２７３０（ν−ＰＯＯＨ）、１７１５（ν−Ｃ＝Ｏ）、
１６３０（ν−Ｃ＝Ｃ−Ｃ＝Ｏ）、１１７０（ν−Ｐ＝
Ｏ）、９７５（ν−Ｐ−ＯＨ）
【００４９】実施例２ （３−メタクリロイルオキシプロピル）ホスホン酸の合
成 （第一工程）、（第二工程） 実施例１と同様に行なった。
成 （第一工程）、（第二工程） 実施例１と同様に行なった。
【００５０】（第三工程）実施例１と同様にして、アク
リル酸クロライドの代わりに、メタクリル酸クロライド
４１．８ｇ（０．４モル）を反応させることにより、無
色透明な粘性液体を６２．４ｇ得た。中和滴定純度９
６．２％で、収率は９６．１％であった。
リル酸クロライドの代わりに、メタクリル酸クロライド
４１．８ｇ（０．４モル）を反応させることにより、無
色透明な粘性液体を６２．４ｇ得た。中和滴定純度９
６．２％で、収率は９６．１％であった。
【００５１】 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、δ）；１．８
９〜２．０２（ｍ、７Ｈ）、４．１２〜４．２７（ｍ、
２Ｈ）、５．６５（ｄ、Ｊ＝１．８Ｈｚ、１Ｈ）、６．
２１（ｄ、Ｊ＝１．８Ｈｚ、１Ｈ）、１１．６２（ｓ、
２Ｈ）ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）； ２９３０（ν−ＣＨ）、
２７００（ν−ＰＯＯＨ）、１７１０（ν−Ｃ＝Ｏ）、
１６３２（ν−Ｃ＝Ｃ−Ｃ＝Ｏ）、１１６０（ν−Ｐ＝
Ｏ）、９８０（ν−Ｐ−ＯＨ）
９〜２．０２（ｍ、７Ｈ）、４．１２〜４．２７（ｍ、
２Ｈ）、５．６５（ｄ、Ｊ＝１．８Ｈｚ、１Ｈ）、６．
２１（ｄ、Ｊ＝１．８Ｈｚ、１Ｈ）、１１．６２（ｓ、
２Ｈ）ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）； ２９３０（ν−ＣＨ）、
２７００（ν−ＰＯＯＨ）、１７１０（ν−Ｃ＝Ｏ）、
１６３２（ν−Ｃ＝Ｃ−Ｃ＝Ｏ）、１１６０（ν−Ｐ＝
Ｏ）、９８０（ν−Ｐ−ＯＨ）
【００５２】実施例３ （４−アクリロイルオキシ−２−メチルブチル）ホスホ
ン酸の合成 （第一工程）撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサ
ーを備えた１０００ｍｌの四つ口フラスコに、次亜リン
酸ナトリウム・１水塩１０６．０ｇ（１．０モル）と純
水３０ｍｌ、エタノール３００ｍｌを仕込み、ラジカル
開始剤のｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキ
サネート３．５２ｇを３−メチルー３−ブテン１−オー
ル８６．ｌｇ（１．０モル）に溶解させた溶液を、約２
時間かけてエタノール還流下に、滴下反応させた。滴下
終了後、還流温度で６時間熟成させ、室温まで冷却し
た。
ン酸の合成 （第一工程）撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサ
ーを備えた１０００ｍｌの四つ口フラスコに、次亜リン
酸ナトリウム・１水塩１０６．０ｇ（１．０モル）と純
水３０ｍｌ、エタノール３００ｍｌを仕込み、ラジカル
開始剤のｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキ
サネート３．５２ｇを３−メチルー３−ブテン１−オー
ル８６．ｌｇ（１．０モル）に溶解させた溶液を、約２
時間かけてエタノール還流下に、滴下反応させた。滴下
終了後、還流温度で６時間熟成させ、室温まで冷却し
た。
【００５３】この反応液に（１＋１）塩酸水溶液をｐＨ
ｌの酸性となるまで添加したところ、塩化ナトリウムが
析出してきた。液量を１／２まで濃縮し、生成した塩化
ナトリウムを濾別除去し、濃縮することにより無色透明
液体ｌ３８．７ｇを得た。
ｌの酸性となるまで添加したところ、塩化ナトリウムが
析出してきた。液量を１／２まで濃縮し、生成した塩化
ナトリウムを濾別除去し、濃縮することにより無色透明
液体ｌ３８．７ｇを得た。
【００５４】分析結果は、以下の通りで、生成物は４−
ヒドロキシ−２−メチルブチルホスフィン酸であった。
中和滴定より求めた純度は、９７．２％で、収率は８
８．７％であった。
ヒドロキシ−２−メチルブチルホスフィン酸であった。
中和滴定より求めた純度は、９７．２％で、収率は８
８．７％であった。
【００５５】 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ、δ）；１．０
８〜１．１２（ｍ、３Ｈ）、１．４５〜１．７２（ｍ、
２Ｈ）、１．７７〜２．１３（ｍ、２Ｈ）、３．５９〜
３．６４（ｍ、２Ｈ）、４．２１〜４．４０（ｍ、１
Ｈ）、５．０８（ｓ、１Ｈ）、７．１２（ｄ、Ｊ＝５３
６Ｈｚ、１Ｈ）ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）； ３４００（ν−ＯＨ）、
２９８０、２９５０（ν−ＣＨ）、２７６０（ν−ＰＯ
ＯＨ）、２３５０（ν−ＰＨ）、１２００（ν−Ｐ＝
Ｏ）、９６０（ν−Ｐ−ＯＨ）
８〜１．１２（ｍ、３Ｈ）、１．４５〜１．７２（ｍ、
２Ｈ）、１．７７〜２．１３（ｍ、２Ｈ）、３．５９〜
３．６４（ｍ、２Ｈ）、４．２１〜４．４０（ｍ、１
Ｈ）、５．０８（ｓ、１Ｈ）、７．１２（ｄ、Ｊ＝５３
６Ｈｚ、１Ｈ）ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）； ３４００（ν−ＯＨ）、
２９８０、２９５０（ν−ＣＨ）、２７６０（ν−ＰＯ
ＯＨ）、２３５０（ν−ＰＨ）、１２００（ν−Ｐ＝
Ｏ）、９６０（ν−Ｐ−ＯＨ）
【００５６】（第二工程）得られた４−ヒドロキシ−２
−メチルブチルホスフィン酸６２．６ｇ（０．４モ
ル）、純水２００ｍｌを５００ｍｌ四つ口フラスコに仕
込み、８０℃に昇温した。次いで、滴下ロートに仕込ん
だ３５％過酸化水素８１．６ｇ（０．４５モル）を、９
０〜９５℃に保ちながら、約２時間かけて滴下した。滴
下終了後、９０℃で２時間熟成した。冷却後、溶媒を濃
縮し、さらに乾燥させて、無色透明な粘性液体６５．２
ｇを得た。分析の結果、生成物は、４−ヒドロキシ−２
−メチルブチルホスホン酸で、中和滴定純度９５．８
％、収率は９２．９％であった。分析結果は、以下の通
りである。
−メチルブチルホスフィン酸６２．６ｇ（０．４モ
ル）、純水２００ｍｌを５００ｍｌ四つ口フラスコに仕
込み、８０℃に昇温した。次いで、滴下ロートに仕込ん
だ３５％過酸化水素８１．６ｇ（０．４５モル）を、９
０〜９５℃に保ちながら、約２時間かけて滴下した。滴
下終了後、９０℃で２時間熟成した。冷却後、溶媒を濃
縮し、さらに乾燥させて、無色透明な粘性液体６５．２
ｇを得た。分析の結果、生成物は、４−ヒドロキシ−２
−メチルブチルホスホン酸で、中和滴定純度９５．８
％、収率は９２．９％であった。分析結果は、以下の通
りである。
【００５７】 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤ3 ＯＤ、δ）；１．０
５〜１．１５（ｍ、３Ｈ）、１．４１〜１．６９（ｍ、
２Ｈ）、１．８０〜２．１５（ｍ、２Ｈ）、３．６６〜
３．７０（ｍ、２Ｈ）、４．２１〜４．４２（ｍ、１
Ｈ）、５．０８（ｓ、２Ｈ）ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）； ３３８０（ν−ＯＨ）、
２９５０（ν−ＣＨ）、２７６０（ν−ＰＯＯＨ）、１
１９０（ν−Ｐ＝Ｏ）、９６５（ν−Ｐ−ＯＨ）
５〜１．１５（ｍ、３Ｈ）、１．４１〜１．６９（ｍ、
２Ｈ）、１．８０〜２．１５（ｍ、２Ｈ）、３．６６〜
３．７０（ｍ、２Ｈ）、４．２１〜４．４２（ｍ、１
Ｈ）、５．０８（ｓ、２Ｈ）ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）； ３３８０（ν−ＯＨ）、
２９５０（ν−ＣＨ）、２７６０（ν−ＰＯＯＨ）、１
１９０（ν−Ｐ＝Ｏ）、９６５（ν−Ｐ−ＯＨ）
【００５８】（第三工程）撹拌機、温度計、および蒸留
ラインを備えたｌＬの四つ口フラスコに、４−ヒドロキ
シ−２−メチルブチルホスホン酸１７．５ｇ（０．１モ
ル）、アセトニトリル５００ｍｌを仕込み、常圧にて撹
拌しながら加熱して、アセトニトリルを約２００ｍｌ留
出させた。アクリル酸クロライド１３．６ｇ（０．１５
モル）、重合禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエ
ーテル０．６ｇを添加し、窒素ガスを系内に絶えず導入
しながら、５０℃にて３時間反応させた。
ラインを備えたｌＬの四つ口フラスコに、４−ヒドロキ
シ−２−メチルブチルホスホン酸１７．５ｇ（０．１モ
ル）、アセトニトリル５００ｍｌを仕込み、常圧にて撹
拌しながら加熱して、アセトニトリルを約２００ｍｌ留
出させた。アクリル酸クロライド１３．６ｇ（０．１５
モル）、重合禁止剤としてハイドロキノンモノメチルエ
ーテル０．６ｇを添加し、窒素ガスを系内に絶えず導入
しながら、５０℃にて３時間反応させた。
【００５９】反応液を濃縮し、さらに乾燥して、無色透
明な粘性液体を２２．７ｇ得た。中和滴定純度９５．０
％で、収率は９７．２％であった。
明な粘性液体を２２．７ｇ得た。中和滴定純度９５．０
％で、収率は９７．２％であった。
【００６０】 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、δ）；１．０
５〜１．１６（ｍ、３Ｈ）、１．６０〜２．０４（ｍ、
４Ｈ）、４．１７〜４．２３（ｍ、１Ｈ）、４．９４〜
４．２１（ｍ、２Ｈ）、５．８４（ｄｄ、Ｊ＝１０．４
Ｈｚ、Ｊ＝１．５Ｈｚ、１Ｈ）、６．１２（ｄｄ、Ｊ＝
１０．４Ｈｚ、Ｊ＝１７．１Ｈｚ、１Ｈ）、６．４１
（ｄｄ、Ｊ＝１７．１Ｈｚ、Ｊ＝１．５Ｈｚ、１Ｈ）、
１０．０８（ｓ、２Ｈ）ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）； ２９００（ν−ＣＨ）、
２７２０（ν−ＰＯＯＨ）、１７１２（ν−Ｃ＝Ｏ）、
１６２５（ν−Ｃ＝Ｃ−Ｃ＝Ｏ）、１１５０（ν−Ｐ＝
Ｏ）、９７０（ν−Ｐ−ＯＨ）
５〜１．１６（ｍ、３Ｈ）、１．６０〜２．０４（ｍ、
４Ｈ）、４．１７〜４．２３（ｍ、１Ｈ）、４．９４〜
４．２１（ｍ、２Ｈ）、５．８４（ｄｄ、Ｊ＝１０．４
Ｈｚ、Ｊ＝１．５Ｈｚ、１Ｈ）、６．１２（ｄｄ、Ｊ＝
１０．４Ｈｚ、Ｊ＝１７．１Ｈｚ、１Ｈ）、６．４１
（ｄｄ、Ｊ＝１７．１Ｈｚ、Ｊ＝１．５Ｈｚ、１Ｈ）、
１０．０８（ｓ、２Ｈ）ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）； ２９００（ν−ＣＨ）、
２７２０（ν−ＰＯＯＨ）、１７１２（ν−Ｃ＝Ｏ）、
１６２５（ν−Ｃ＝Ｃ−Ｃ＝Ｏ）、１１５０（ν−Ｐ＝
Ｏ）、９７０（ν−Ｐ−ＯＨ）
【００６１】実施例４ （４−メタアクリロイルオキシ−２−メチルブチル）ホ
スホン酸の合成 （第一工程）、（第二工程） 実施例３と同様に行なった。
スホン酸の合成 （第一工程）、（第二工程） 実施例３と同様に行なった。
【００６２】（第三工程）実施例３と同様にして、アク
リル酸クロライドの代わりに、メタクリル酸クロライド
１０．５ｇ（０．１モル）を反応させることにより、無
色透明な粘性液体を２４．７ｇ得た。中和滴定純度９
２．７％で、収率は９７．０％であった。
リル酸クロライドの代わりに、メタクリル酸クロライド
１０．５ｇ（０．１モル）を反応させることにより、無
色透明な粘性液体を２４．７ｇ得た。中和滴定純度９
２．７％で、収率は９７．０％であった。
【００６３】 1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3 、δ）；１．０
５〜１．１４（ｍ、３Ｈ）、１．６０〜２．２４（ｍ、
７Ｈ）、４．１１〜４．２５（ｍ、１Ｈ）、４．９２〜
４．２５（ｍ、２Ｈ）、５．６０（ｄ、Ｊ＝１．８Ｈ
ｚ、１Ｈ）、６．１５（ｄ、Ｊ＝１．８Ｈｚ、１Ｈ）、
１１．５５（ｓ、２Ｈ）ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）； ２９７０（ν−ＣＨ）、
２７５０（ν−ＰＯＯＨ）、１７１５（ν−Ｃ＝Ｏ）、
１６３５（ν−Ｃ＝Ｃ−Ｃ＝Ｏ）、１１７０（ν−Ｐ＝
Ｏ）、９７５（ν−Ｐ−ＯＨ）
５〜１．１４（ｍ、３Ｈ）、１．６０〜２．２４（ｍ、
７Ｈ）、４．１１〜４．２５（ｍ、１Ｈ）、４．９２〜
４．２５（ｍ、２Ｈ）、５．６０（ｄ、Ｊ＝１．８Ｈ
ｚ、１Ｈ）、６．１５（ｄ、Ｊ＝１．８Ｈｚ、１Ｈ）、
１１．５５（ｓ、２Ｈ）ＦＴ−ＩＲ（液膜、ｃｍ-1）； ２９７０（ν−ＣＨ）、
２７５０（ν−ＰＯＯＨ）、１７１５（ν−Ｃ＝Ｏ）、
１６３５（ν−Ｃ＝Ｃ−Ｃ＝Ｏ）、１１７０（ν−Ｐ＝
Ｏ）、９７５（ν−Ｐ−ＯＨ）
【００６４】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明によれば、Ｐ
−Ｃ結合を有する機能性に優れた新規な一般式（１）で
表される（メク）アクリル基を有するホスホン酸化合物
を提供することができる。また、本発明の製造方法によ
れば、上記の（メク）アクリル基を有するホスホン酸化
合物を高純度、高収率で容易に得ることができる効果を
奏する。
−Ｃ結合を有する機能性に優れた新規な一般式（１）で
表される（メク）アクリル基を有するホスホン酸化合物
を提供することができる。また、本発明の製造方法によ
れば、上記の（メク）アクリル基を有するホスホン酸化
合物を高純度、高収率で容易に得ることができる効果を
奏する。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1は水素原子またはメチル基、Ａは炭素数３
〜１０の直鎖状または分岐状のアルキレン基を示す。）
で表される（メタ）アクリル基を有するホスホン酸化合
物。 - 【請求項２】 次亜リン酸または次亜リン酸塩と不飽和
アルコールとをアルコール溶媒中でラジカル開始剤の存
在下で反応させて、下記一般式（２） 【化２】 （式中、Ａは炭素数３〜１０の直鎖状または分岐状のア
ルキレン基を示す。）で表されるヒドロキシアルキルホ
スフィン酸を生成させる第一工程、次いで該ヒドロキシ
アルキルホスフィン酸を酸化して、下記一般式（３） 【化３】 （式中、Ａは前記と同義を示す。）で表されるヒドロキ
シアルキルホスホン酸を生成させる第二工程、次いで該
ヒドロキシアルキルホスホン酸と（メタ）アクリル酸ハ
ロゲン化物を反応させる第三工程からなることを特徴と
する下記一般式（１） 【化４】 （式中、Ｒ1は水素原子またはメチル基を示し、Ａは前
記と同義を示す。）で表される（メタ）アクリル基を有
するホスホン酸化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18701798A JP2000007687A (ja) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | （メタ）アクリル基を有するホスホン酸化合物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18701798A JP2000007687A (ja) | 1998-06-18 | 1998-06-18 | （メタ）アクリル基を有するホスホン酸化合物およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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Cited By (11)
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|---|---|---|---|---|
| WO2007080812A1 (ja) * | 2006-01-13 | 2007-07-19 | Kao Corporation | リン酸エステル系重合体の製造方法 |
| CN104822694A (zh) * | 2012-12-05 | 2015-08-05 | 罗门哈斯公司 | 用于制备膦酸单体的方法 |
| KR20150090105A (ko) * | 2012-12-05 | 2015-08-05 | 롬 앤드 하스 캄파니 | 포스폰산 단량체의 제조 방법 |
| EP2928901A1 (en) * | 2012-12-05 | 2015-10-14 | Rohm and Haas Company | A process for the preparation of phosphonic acid monomers |
| US20150307529A1 (en) * | 2012-12-05 | 2015-10-29 | Rohm And Haas Company | Process for the preparation of phosphonic acid monomers |
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