JP2001172253A - 硫黄含有アクリル化合物の製造方法 - Google Patents
硫黄含有アクリル化合物の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 常温で結晶化せず、液状で硬化成型等の作業
性のよい硫黄含有アクリル化合物を製造する方法の提
供。 【解決手段】 硫黄含有ポリオールと（メタ）アクリル
酸とをエステル化触媒及び溶媒の存在下で反応させる。
硫黄含有ポリオールが下記一般式（１）で示される化合
物である。 【化１】 （式中、Ｒは炭素数１〜１２の二価の炭化水素基を表
し、Ｘは塩素原子又は臭素原子を表し、Ｙは−ＳＯ
２−、−Ｓ−又は−ＣＯ−を表し、ｍ及びｎは１〜３の
整数を表し、且つｐ及びｑは０〜４の整数を表す）
性のよい硫黄含有アクリル化合物を製造する方法の提
供。 【解決手段】 硫黄含有ポリオールと（メタ）アクリル
酸とをエステル化触媒及び溶媒の存在下で反応させる。
硫黄含有ポリオールが下記一般式（１）で示される化合
物である。 【化１】 （式中、Ｒは炭素数１〜１２の二価の炭化水素基を表
し、Ｘは塩素原子又は臭素原子を表し、Ｙは−ＳＯ
２−、−Ｓ−又は−ＣＯ−を表し、ｍ及びｎは１〜３の
整数を表し、且つｐ及びｑは０〜４の整数を表す）
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、硫黄含有アクリル
化合物の製造方法に関する。詳しくは、硫黄含有ポリオ
ールをアシル化して硫黄含有アクリル化合物を製造する
方法の改良に関する。本発明により得られる硫黄含有ア
クリル化合物は常温で結晶化しないので、光学レンズ、
プリズム等に用いられる高屈折率の樹脂の原料として好
適である。
化合物の製造方法に関する。詳しくは、硫黄含有ポリオ
ールをアシル化して硫黄含有アクリル化合物を製造する
方法の改良に関する。本発明により得られる硫黄含有ア
クリル化合物は常温で結晶化しないので、光学レンズ、
プリズム等に用いられる高屈折率の樹脂の原料として好
適である。
【０００２】
【従来の技術】硫黄含有アクリル化合物の重合体が高屈
折率を有する成形体となることは従来から知られてお
り、該化合物及びその製造方法についてもいろいろと提
案がなされている。硫黄含有アクリル化合物の一般的な
製造方法としては、硫黄含有ポリオールと（メタ）アク
リル酸ハライド、（メタ）アクリル酸エステル又は（メ
タ）アクリル酸等のアシル化剤とを反応させる方法が知
られているが、これ迄に知られている硫黄含有アクリル
化合物については、アシル化剤として（メタ）アクリル
酸ハライドを用いて製造されている（特開昭６１−７２
７４８号、同６２−１９５３５７号各公報）。
折率を有する成形体となることは従来から知られてお
り、該化合物及びその製造方法についてもいろいろと提
案がなされている。硫黄含有アクリル化合物の一般的な
製造方法としては、硫黄含有ポリオールと（メタ）アク
リル酸ハライド、（メタ）アクリル酸エステル又は（メ
タ）アクリル酸等のアシル化剤とを反応させる方法が知
られているが、これ迄に知られている硫黄含有アクリル
化合物については、アシル化剤として（メタ）アクリル
酸ハライドを用いて製造されている（特開昭６１−７２
７４８号、同６２−１９５３５７号各公報）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、アシル
化剤として（メタ）アクリル酸ハライドを用いて製造し
た硫黄含有アクリル化合物については、常温で固体であ
るとか、また液状で得られても保存時に結晶化するた
め、硬化成型のための注型作業が困難であるという問題
がある。また、アシル化剤として（メタ）アクリル酸エ
ステルを用いて製造した硫黄含有アクリル化合物につい
ても、同様の問題がある。本発明は、常温で結晶化しな
い硫黄含有アクリル化合物を製造する方法を提供するこ
とを目的とする。
化剤として（メタ）アクリル酸ハライドを用いて製造し
た硫黄含有アクリル化合物については、常温で固体であ
るとか、また液状で得られても保存時に結晶化するた
め、硬化成型のための注型作業が困難であるという問題
がある。また、アシル化剤として（メタ）アクリル酸エ
ステルを用いて製造した硫黄含有アクリル化合物につい
ても、同様の問題がある。本発明は、常温で結晶化しな
い硫黄含有アクリル化合物を製造する方法を提供するこ
とを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる事
情に鑑み鋭意検討した結果、意外にもアシル化剤として
（メタ）アクリル酸を用いて製造した硫黄含有アクリル
化合物は常温で液状であり、また長期間保存しても結晶
化しないことを見い出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の要旨は、硫黄含有ポリオールと（メタ）
アクリル酸とをエステル化触媒及び溶媒の存在下で反応
させることを特徴とする硫黄含有アクリル化合物の製造
方法にある。
情に鑑み鋭意検討した結果、意外にもアシル化剤として
（メタ）アクリル酸を用いて製造した硫黄含有アクリル
化合物は常温で液状であり、また長期間保存しても結晶
化しないことを見い出し、本発明を完成するに至った。
即ち、本発明の要旨は、硫黄含有ポリオールと（メタ）
アクリル酸とをエステル化触媒及び溶媒の存在下で反応
させることを特徴とする硫黄含有アクリル化合物の製造
方法にある。
【０００５】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に用いられる硫黄含有ポリオールについては、特
に限定されるものではないが、式（１）で示される化合
物が好ましい。
本発明に用いられる硫黄含有ポリオールについては、特
に限定されるものではないが、式（１）で示される化合
物が好ましい。
【０００６】
【化２】
【０００７】（式中、Ｒは炭素数１〜１２の二価の炭化
水素基を表し、Ｘは塩素原子又は臭素原子を表し、Ｙは
−ＳＯ2 −、−Ｓ−又は−ＣＯ−を表し、ｍ及びｎは１
〜３の整数を表し、且つｐ及びｑは０〜４の整数を表
す） 式（１）において、Ｒは炭素数１〜１２、好ましくは１
〜４の二価の炭化水素基であり、直鎖状、分岐状、環状
のいずれでもよく、その具体例としては、例えばメチレ
ン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テ
トラメチレン基等が挙げられる。これらの中、エチレン
基、プロピレン基が好ましい。
水素基を表し、Ｘは塩素原子又は臭素原子を表し、Ｙは
−ＳＯ2 −、−Ｓ−又は−ＣＯ−を表し、ｍ及びｎは１
〜３の整数を表し、且つｐ及びｑは０〜４の整数を表
す） 式（１）において、Ｒは炭素数１〜１２、好ましくは１
〜４の二価の炭化水素基であり、直鎖状、分岐状、環状
のいずれでもよく、その具体例としては、例えばメチレ
ン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テ
トラメチレン基等が挙げられる。これらの中、エチレン
基、プロピレン基が好ましい。
【０００８】そして、このようなポリオール化合物の具
体例としては、例えば、４，４′−ビス（２−ヒドロキ
シエチルチオ）ジフェニルスルホン、４，４′−ビス
（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニルケトン、２，
４−ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニルケト
ン、４，４′−ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）３，
３′，５，５′−テトラブロモジフェニルケトン等が挙
げられる。これらの中、４，４′−ビス（２−ヒドロキ
シエチルチオ）ジフェニルスルホン、４，４′−ビス
（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニルケトンが好ま
しい。
体例としては、例えば、４，４′−ビス（２−ヒドロキ
シエチルチオ）ジフェニルスルホン、４，４′−ビス
（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニルケトン、２，
４−ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニルケト
ン、４，４′−ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）３，
３′，５，５′−テトラブロモジフェニルケトン等が挙
げられる。これらの中、４，４′−ビス（２−ヒドロキ
シエチルチオ）ジフェニルスルホン、４，４′−ビス
（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニルケトンが好ま
しい。
【０００９】なお、これらのポリオールは、例えばＮ．
Ｋｈａｒａｓｃｈ，ＯｒｇａｎｉｃＳｕｌｆｕｒ Ｃｏ
ｍｐｏｕｎｄｓ，第１巻，第９７〜１１１頁、又は米国
特許第３，８２４，２９３号明細書に記載の合成法に準
拠して合成することができる。（メタ）アクリル酸につ
いては、市販のものをそのまま用いることができる。そ
の使用量は、硫黄含有ポリオール１モルに対して、通常
２〜１０モル、好ましくは２〜５モルである。
Ｋｈａｒａｓｃｈ，ＯｒｇａｎｉｃＳｕｌｆｕｒ Ｃｏ
ｍｐｏｕｎｄｓ，第１巻，第９７〜１１１頁、又は米国
特許第３，８２４，２９３号明細書に記載の合成法に準
拠して合成することができる。（メタ）アクリル酸につ
いては、市販のものをそのまま用いることができる。そ
の使用量は、硫黄含有ポリオール１モルに対して、通常
２〜１０モル、好ましくは２〜５モルである。
【００１０】エステル化触媒については、通常のエステ
ル化触媒が用いられるが、その具体例としては、例えば
硫酸、塩酸、リン酸、弗化硼酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、カチオン型イオン交換樹脂等
が挙げられる。これらの中、ｐ−トルエンスルホン酸、
ベンゼンスルホン酸が好ましい。その使用量は硫黄含有
ポリオール１００重量部に対して、通常０．１〜５重量
部である。
ル化触媒が用いられるが、その具体例としては、例えば
硫酸、塩酸、リン酸、弗化硼酸、ｐ−トルエンスルホン
酸、ベンゼンスルホン酸、カチオン型イオン交換樹脂等
が挙げられる。これらの中、ｐ−トルエンスルホン酸、
ベンゼンスルホン酸が好ましい。その使用量は硫黄含有
ポリオール１００重量部に対して、通常０．１〜５重量
部である。
【００１１】重合禁止剤としては、例えばハイドロキノ
ン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジ
ン、銅塩等を用いることができる。その使用量は（メ
タ）アクリル酸１００重量部に対して、通常０．００１
〜１０重量部、好ましくは０．１〜５重量部である。本
エステル化反応においては、脱水剤を兼ねて溶媒を用い
る方が好ましい。好ましい溶媒としては、例えばベンゼ
ン、トルエン、キシレン、トリクロロエチレン、テトラ
クロルエチレン等が挙げられる。これらの中、ベンゼ
ン、トルエンが特に好ましい。その使用量は、硫黄含有
ポリオール１００重量部に対して、通常５０〜５００重
量部、好ましくは１００〜３００重量部である。
ン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチアジ
ン、銅塩等を用いることができる。その使用量は（メ
タ）アクリル酸１００重量部に対して、通常０．００１
〜１０重量部、好ましくは０．１〜５重量部である。本
エステル化反応においては、脱水剤を兼ねて溶媒を用い
る方が好ましい。好ましい溶媒としては、例えばベンゼ
ン、トルエン、キシレン、トリクロロエチレン、テトラ
クロルエチレン等が挙げられる。これらの中、ベンゼ
ン、トルエンが特に好ましい。その使用量は、硫黄含有
ポリオール１００重量部に対して、通常５０〜５００重
量部、好ましくは１００〜３００重量部である。
【００１２】エステル化反応については、例えば反応器
に硫黄含有ポリオール、（メタ）アクリル酸、溶媒、エ
ステル化触媒、重合禁止剤を仕込み、好ましくは撹拌下
で、好ましくは窒素等の不活性ガス雰囲気下で加熱下に
生成する水を共沸により系外に除去しながら行われる。
反応温度は、通常５０〜２００℃、好ましくは８０〜１
５０℃、圧力は通常、常圧で、反応時間は通常５〜３０
時間、好ましくは８〜２０時間である。エステル化反応
終了後、反応溶液を先ず苛性ソーダのようなアルカリ水
溶液で洗浄し、次いで水で中性になるまで洗浄する。そ
して洗浄の終った反応溶液については、必要に応じて重
合禁止剤を加え、溶媒を減圧下に留去し、目的とする硫
黄含有アクリル化合物を得る。そして、硫黄含有ポリオ
ールが式（１）の化合物である場合には、式（２）の硫
黄含有アクリル化合物が得られる。
に硫黄含有ポリオール、（メタ）アクリル酸、溶媒、エ
ステル化触媒、重合禁止剤を仕込み、好ましくは撹拌下
で、好ましくは窒素等の不活性ガス雰囲気下で加熱下に
生成する水を共沸により系外に除去しながら行われる。
反応温度は、通常５０〜２００℃、好ましくは８０〜１
５０℃、圧力は通常、常圧で、反応時間は通常５〜３０
時間、好ましくは８〜２０時間である。エステル化反応
終了後、反応溶液を先ず苛性ソーダのようなアルカリ水
溶液で洗浄し、次いで水で中性になるまで洗浄する。そ
して洗浄の終った反応溶液については、必要に応じて重
合禁止剤を加え、溶媒を減圧下に留去し、目的とする硫
黄含有アクリル化合物を得る。そして、硫黄含有ポリオ
ールが式（１）の化合物である場合には、式（２）の硫
黄含有アクリル化合物が得られる。
【００１３】
【化３】
【００１４】（式中、Ｒ′は水素原子又はメチル基を表
し、Ｒは炭素数１〜１２の二価の炭化水素基を表し、Ｘ
は塩素原子又は臭素原子を表し、Ｙは−ＳＯ2 −、−Ｓ
−又は−ＣＯ−を表し、ｍ及びｎは１〜３の整数を表
し、且つｐ及びｑは０〜４の整数を表す） 式（２）において、Ｒは炭素数１〜１２、好ましくは１
〜４の、二価の炭化水素基であり、直鎖状、分岐状、環
状のいずれでもよく、その具体例としては、例えばメチ
レン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、
テトラメチレン基、等が挙げられる。これらの中、エチ
レン基、プロピレン基が好ましい。
し、Ｒは炭素数１〜１２の二価の炭化水素基を表し、Ｘ
は塩素原子又は臭素原子を表し、Ｙは−ＳＯ2 −、−Ｓ
−又は−ＣＯ−を表し、ｍ及びｎは１〜３の整数を表
し、且つｐ及びｑは０〜４の整数を表す） 式（２）において、Ｒは炭素数１〜１２、好ましくは１
〜４の、二価の炭化水素基であり、直鎖状、分岐状、環
状のいずれでもよく、その具体例としては、例えばメチ
レン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、
テトラメチレン基、等が挙げられる。これらの中、エチ
レン基、プロピレン基が好ましい。
【００１５】式（２）の化合物の具体例としては、例え
ば４，４′−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチ
オ）ジフェニルスルホン、４，４′−ビス（β−アクリ
ロイルオキシエチルチオ）ジフェニルスルホン、４，
４′−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）ジ
フェニルケトン、４，４′−ビス（β−アクリロイルオ
キシエチルチオ）ジフェニルケトン、２，４−ビス（β
−メタクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルケト
ン、２，４−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチ
オ）ジフェニルケトン、４，４′−ビス（β−メタクリ
ロイルオキシエチルチオ）３，３′，５，５′−テトラ
ブロモジフェニルケトン等が挙げられる。
ば４，４′−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチ
オ）ジフェニルスルホン、４，４′−ビス（β−アクリ
ロイルオキシエチルチオ）ジフェニルスルホン、４，
４′−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）ジ
フェニルケトン、４，４′−ビス（β−アクリロイルオ
キシエチルチオ）ジフェニルケトン、２，４−ビス（β
−メタクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルケト
ン、２，４−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチ
オ）ジフェニルケトン、４，４′−ビス（β−メタクリ
ロイルオキシエチルチオ）３，３′，５，５′−テトラ
ブロモジフェニルケトン等が挙げられる。
【００１６】
【実施例】以下に実施例及び比較例を挙げて本発明を更
に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限
りこれらの実施例に限定されるものではない。 実施例１ 攪拌器、温度計、冷却管及び水分離器を備え付けた１リ
ットルの四ツ口フラスコに、４，４′−ビス（２−ヒド
ロキシエチルチオ）ジフェニルスルホン２００重量部、
メタクリル酸１３０重量部、ハイドロキノンモノメチル
エーテル０．２７重量部、銅粉０．０８重量部、ｐ−ト
ルエンスルホン酸５重量部、トルエン２７０重量部を仕
込み、毎分４ｃｃの空気を反応系内に流しながら、９０
〜１３０℃で６時間生成する水を抜き出しながら反応さ
せた。反応終了後、常温まで冷却し、トルエン２７０重
量部を加えた後、５％水酸化ナトリウム水溶液、次いで
水で、中性になるまで洗浄した。その後、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル０．２７重量部を加え、６０℃
で、５Ｔｏｒｒの減圧下２時間トルエンを留去し、２６
０重量部の４，４′−ビス（β−メタクリロイルオキシ
エチルチオ）ジフェニルスルホンを得た。得られた４，
４′−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）ジ
フェニルスルホンは常温で液体であった。
に具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限
りこれらの実施例に限定されるものではない。 実施例１ 攪拌器、温度計、冷却管及び水分離器を備え付けた１リ
ットルの四ツ口フラスコに、４，４′−ビス（２−ヒド
ロキシエチルチオ）ジフェニルスルホン２００重量部、
メタクリル酸１３０重量部、ハイドロキノンモノメチル
エーテル０．２７重量部、銅粉０．０８重量部、ｐ−ト
ルエンスルホン酸５重量部、トルエン２７０重量部を仕
込み、毎分４ｃｃの空気を反応系内に流しながら、９０
〜１３０℃で６時間生成する水を抜き出しながら反応さ
せた。反応終了後、常温まで冷却し、トルエン２７０重
量部を加えた後、５％水酸化ナトリウム水溶液、次いで
水で、中性になるまで洗浄した。その後、ハイドロキノ
ンモノメチルエーテル０．２７重量部を加え、６０℃
で、５Ｔｏｒｒの減圧下２時間トルエンを留去し、２６
０重量部の４，４′−ビス（β−メタクリロイルオキシ
エチルチオ）ジフェニルスルホンを得た。得られた４，
４′−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）ジ
フェニルスルホンは常温で液体であった。
【００１７】実施例２ メタクリル酸の代わりに、アクリル酸１１５重量部を用
いた以外は、実施例１と同様に行い、２５０重量部の
４，４′−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチオ）
ジフェニルスルホンを得た。得られた４，４′−ビス
（β−アクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルスル
ホンは常温で液体であった。
いた以外は、実施例１と同様に行い、２５０重量部の
４，４′−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチオ）
ジフェニルスルホンを得た。得られた４，４′−ビス
（β−アクリロイルオキシエチルチオ）ジフェニルスル
ホンは常温で液体であった。
【００１８】比較例１ （酸ハロゲンを用いた反応）攪拌器、温度計、冷却管を
備え付けた１リットルの四ツ口フラスコに、４，４′−
ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニルスルホン
１００重量部、メチルエチルケトン５００重量部を仕込
み、窒素ガス雰囲気下で６０℃に加熱、撹拌し、溶解
後、ピリジン６０重量部を加え、撹拌しながら溶液を０
〜５℃に冷却し、該温度を保持しながらメタクリル酸ク
ロリド７０重量部を１時間かけて滴下した。次いで、４
０℃で２時間加熱した後、反応液を水中に投下し、トル
エン５００重量部で抽出し、以下、実施例１と同様に行
い、２６０重量部の４，４′−ビス（β−メタクリロイ
ルオキシエチルチオ）ジフェニルスルホンを得た。得ら
れた４，４′−ビス（β−メタクリロイルオキシエチル
チオ）ジフェニルスルホンは製造時は液状であったが、
１週間後には結晶化し、固体となった。
備え付けた１リットルの四ツ口フラスコに、４，４′−
ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニルスルホン
１００重量部、メチルエチルケトン５００重量部を仕込
み、窒素ガス雰囲気下で６０℃に加熱、撹拌し、溶解
後、ピリジン６０重量部を加え、撹拌しながら溶液を０
〜５℃に冷却し、該温度を保持しながらメタクリル酸ク
ロリド７０重量部を１時間かけて滴下した。次いで、４
０℃で２時間加熱した後、反応液を水中に投下し、トル
エン５００重量部で抽出し、以下、実施例１と同様に行
い、２６０重量部の４，４′−ビス（β−メタクリロイ
ルオキシエチルチオ）ジフェニルスルホンを得た。得ら
れた４，４′−ビス（β−メタクリロイルオキシエチル
チオ）ジフェニルスルホンは製造時は液状であったが、
１週間後には結晶化し、固体となった。
【００１９】比較例２ （エステル交換による反応）攪拌器、温度計、冷却管及
び分離器を備え付けた１リットルの四ツ口フラスコに、
４，４′−ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニ
ルスルホン１００重量部、メタクリル酸メチル３００重
量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．１５重量
部及びトルエン２００重量部を仕込み、撹拌しながら８
０℃まで昇温したところへ、テトラブチルチタネート
２．７重量部を加えた。その後更に昇温し、１００〜１
２０℃で１５時間、メタノールを留去させながら反応を
行った。反応後、過剰のメタクリル酸メチルを除去し、
その後、反応溶液を室温まで冷却した。この溶液にトル
エン２００重量部を加え、以下、実施例１と同様に行
い、２６０重量部の４，４′−ビス（β−メタクリロイ
ルオキシエチルチオ）ジフェニルスルホンを得た。得ら
れた４，４′−ビス（β−メタクリロイルオキシエチル
チオ）ジフェニルスルホンは製造時は液状であったが、
１週間後には結晶化し、固体となった。
び分離器を備え付けた１リットルの四ツ口フラスコに、
４，４′−ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニ
ルスルホン１００重量部、メタクリル酸メチル３００重
量部、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．１５重量
部及びトルエン２００重量部を仕込み、撹拌しながら８
０℃まで昇温したところへ、テトラブチルチタネート
２．７重量部を加えた。その後更に昇温し、１００〜１
２０℃で１５時間、メタノールを留去させながら反応を
行った。反応後、過剰のメタクリル酸メチルを除去し、
その後、反応溶液を室温まで冷却した。この溶液にトル
エン２００重量部を加え、以下、実施例１と同様に行
い、２６０重量部の４，４′−ビス（β−メタクリロイ
ルオキシエチルチオ）ジフェニルスルホンを得た。得ら
れた４，４′−ビス（β−メタクリロイルオキシエチル
チオ）ジフェニルスルホンは製造時は液状であったが、
１週間後には結晶化し、固体となった。
【００２０】
【発明の効果】本発明の方法によって、常温で結晶化す
ることなく、液体で硬化成型等の作業性の良いイオウ含
有アクリル化合物を製造することが出来る。
ることなく、液体で硬化成型等の作業性の良いイオウ含
有アクリル化合物を製造することが出来る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC48 BA35 BA36 BA66 BA72 BB11 BB12 TA02 TA04 TB04 4H039 CA66 CD10 CD30
Claims (3)
- 【請求項１】 硫黄含有ポリオールと（メタ）アクリル
酸とをエステル化触媒及び溶媒の存在下で反応させるこ
とを特徴とする硫黄含有アクリル化合物の製造方法。 - 【請求項２】 硫黄含有ポリオールが下記一般式（１）
で示される化合物である請求項１に記載の硫黄含有アク
リル化合物の製造方法。 【化１】 （式中、Ｒは炭素数１〜１２の二価の炭化水素基を表
し、Ｘは塩素原子又は臭素原子を表し、Ｙは−ＳＯ
2 −、−Ｓ−又は−ＣＯ−を表し、ｍ及びｎは１〜３の
整数を表し、且つｐ及びｑは０〜４の整数を表す） - 【請求項３】 式（１）の化合物が４，４′−ビス（２
−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニルスルホン、４，
４′−ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフェニルケ
トン、２，４−ビス（２−ヒドロキシエチルチオ）ジフ
ェニルケトン及び４，４′−ビス（２−ヒドロキシエチ
ルチオ）３，３′，５，５′−テトラブロモジフェニル
ケトンから選ばれる少なくとも一種である請求項１又は
２に記載の硫黄含有アクリル化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36058999A JP2001172253A (ja) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | 硫黄含有アクリル化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP36058999A JP2001172253A (ja) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | 硫黄含有アクリル化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001172253A true JP2001172253A (ja) | 2001-06-26 |
Family
ID=18470068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP36058999A Pending JP2001172253A (ja) | 1999-12-20 | 1999-12-20 | 硫黄含有アクリル化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001172253A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7087659B2 (en) | 2003-05-27 | 2006-08-08 | General Electrical | Curable (meth)acrylate compositions |
| JP2007510749A (ja) * | 2003-11-12 | 2007-04-26 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | ハイドロフルオロカーボン製造プロセスから水を除去する方法 |
| US7271283B2 (en) | 2003-08-29 | 2007-09-18 | General Electric Company | High refractive index, UV-curable monomers and coating compositions prepared therefrom |
| JP2012216655A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Jsr Corp | ナノインプリント用感放射線性組成物、及びパターン形成方法 |
-
1999
- 1999-12-20 JP JP36058999A patent/JP2001172253A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7087659B2 (en) | 2003-05-27 | 2006-08-08 | General Electrical | Curable (meth)acrylate compositions |
| US7271283B2 (en) | 2003-08-29 | 2007-09-18 | General Electric Company | High refractive index, UV-curable monomers and coating compositions prepared therefrom |
| JP2007510749A (ja) * | 2003-11-12 | 2007-04-26 | ハネウェル・インターナショナル・インコーポレーテッド | ハイドロフルオロカーボン製造プロセスから水を除去する方法 |
| JP2012216655A (ja) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Jsr Corp | ナノインプリント用感放射線性組成物、及びパターン形成方法 |
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