JP2004172217A - 半導体発光素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透光性を有する第1導電型コンタクト層2と、発光層である活性層3と、透光性を有する第2導電型コンタクト層4とを順次積層して備えてなり、第1導電型コンタクト層2及び第2導電型コンタクト層4は、各々第1電極6及び第2電極7を表面に備えてなる半導体発光素子であって、第1導電型コンタクト層2の表面は、少なくとも第1電極6を設けた箇所以外に、透光性を有する導電性の第1薄膜1を備え、第2導電型コンタクト層4の表面は、少なくとも第2電極7を設けた箇所以外に、透光性を有する導電性の第2薄膜5を備え、第1電極6及び第2電極7は、各電極6、7が積層方向から見てお互い重ならないように配置される。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、特に、積層方向(厚み方向)に対向する最外層の各々にバイアスを印加するための電極を有した積層構造の半導体発光素子に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の半導体発光素子としては、例えば、特許文献1には、炭化珪素等の低抵抗性の支持基板と、酸化チタン膜と、GaNからなるバッファ層と、n型半導体領域と、発光層である活性層と、p型半導体領域とを順に積層して形成した積層体を備え、この積層体の積層方向(厚み方向)に対向する最外層の各々に電極(以降、n型半導体領域側に設けた電極をn側電極と称し、支持基板側に設けた電極をp側電極と称する。)を設けてなるものを挙げることができる。
【0003】
上述の半導体発光素子にあっては、積層体の最外層の各々に電極、つまり、n側電極)と、p側電極とが、積層方向に対してはお互いに重なり合わない構成であり、順方向バイアスを印加する(p側電極にプラス電圧を印加する)ことにより、p側電極からn側電極に向って電流が流れ、活性層で、ホール(正孔)と電子が結合し発光する。
【0004】
【特許文献1】
特開2000−77712号公報
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上述のような従来の半導体発光素子においては、n側電極、p側電極間に順方向バイアスを印加したときに、発光層である活性層中を流れる電流は、活性層中において抵抗が比較的小さくなる領域を主として流れる傾向があるので、n側電極とp側電極との間の領域でも、抵抗が低い領域に偏るため、活性層中での均一な発光の実現が困難であるという問題があった。
【0006】
また、活性層中で発生する光が素子外部に放出される際には、素子を取り囲む空気と、発光素子を構成するn型半導体領域やp型半導体領域との屈折率が異なるため、両者が接する界面で全反射が起こり、発光層で発生する光が、100%素子から取り出せない可能性があったり、n側電極やp側電極により吸収されるという問題があった。
【0007】
本発明は上記問題点を改善するためになされたものであり、発光強度を向上させ、素子内部で発生する光を効率良く外部に取り出すことができる半導体発光素子を提供することを目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
請求項1に記載の半導体発光素子は、透光性を有する第1導電型コンタクト層2と、発光層である活性層3と、透光性を有する第2導電型コンタクト層4とを順次積層して備えてなり、第1導電型コンタクト層2及び第2導電型コンタクト層4は、各々第1電極6及び第2電極7を表面に備えてなる半導体発光素子であって、第1導電型コンタクト層2の表面は、少なくとも第1電極6を設けた箇所以外に、透光性を有する導電性の第1薄膜1を備え、第2導電型コンタクト層4の表面は、少なくとも第2電極7を設けた箇所以外に、透光性を有する導電性の第2薄膜5を備え、第1電極6及び第2電極7は、各電極6、7が積層方向から見てお互い重ならないように配置されたことを特徴とするものである。
【0009】
また、請求項2に記載の半導体発光素子は、図1、図2にその一例を示すように、請求項1に記載の発明において、第1電極6及び第2電極7は、くし歯形状であり、各電極6、7がお互いに歯合するパターンを備えたことを特徴とするものである。
【0010】
また、請求項3に記載の半導体発光素子は、図3、図4にその一例を示すように、請求項1に記載の発明において、第1電極6を設けた第1導電型コンタクト層4の領域と、第2電極7を設けた第2導電型コンタクト層4の領域とは、各領域が積層方向から見てお互い重ならないように対向したことを特徴とするものである。
【0011】
また、請求項4に記載の半導体発光素子は、図5、図6にその一例を示すように、請求項1に記載の発明において、第1電極6及び第2電極7は、積層方向から見て、一方の電極が他方の電極を囲むように配置されたことを特徴とするものである。
【0012】
また、請求項5に記載の半導体発光素子は、請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の発明において、第1導電型コンタクト層2は、活性層3との界面であり第1電極6の積層方向裏面側に相当する領域に透光性の絶縁層8を備えたことを特徴とするものである。
【0013】
また、請求項6に記載の半導体発光素子は、図7にその一例を示すように、請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の発明において、第2導電型コンタクト層4は、活性層3との界面であり第2電極7の積層方向裏面側に相当する領域に透光性の絶縁層8を備えたことを特徴とするものである。
【0014】
【発明の実施の形態】
本発明の第1実施形態を図1及び図2に基づいて説明する。図1は、本発明の第1実施形態に係る半導体発光素子を示す上面図であり、図2は、半導体発光素子を示すA−A断面での概略断面図である。なお、図1において、第2薄膜5の図示は簡略のため省略する。
【0015】
第1実施形態における半導体発光素子は、図1、図2に示すように、透光性つまり光透過性を有する導電性の第1薄膜1と、n型の導電型つまり電気伝導を示す例えばGaN基板である第1導電型コンタクト層2と、発光層である例えば3族窒化物半導体である活性層3と、p型の電気伝導を示すGaN基板である第2導電型コンタクト層4と、透光性を有する導電性の第2薄膜5と、第1導電型コンタクト層2側の表面に設けた第1電極6であるn側電極と、第2導電型コンタクト層4側の表面に設けた第2電極7であるp側電極とを備え、第1導電型コンタクト層2と、活性層3と、第2導電型コンタクト層4とを順次積層した構成であり、第1導電型コンタクト層2は、半導体発光素子のベースとなる支持基板も兼ねている。
【0016】
なお、活性層3は、例えば、InGaNからなる半導体で形成されている。また、この活性層3は、色純度のよい発光を得るために不純物を注入せずにニュートラルなInGaN層としている。なお、活性層3は、そのInとGaの組成比を調整したり、n型あるいはp型の導電型にすることにより、バンドギャップを変化させて発光波長を紫外から青色の範囲で所望の色に調整可能に変化させることができる。なお、n型の導電型にするにはSi、Ge、S、Te等の不純物を適宜注入すればよく、p型の導電型にするにはMg、Zn、Cd、Be、Ca等の不純物を適宜注入すればよい。
【0017】
ここで、第1導電型コンタクト層2の表面は、少なくとも第1電極6を設けた箇所以外に、透光性を有する導電性の第1薄膜1を備え、第2導電型コンタクト層4の表面は、少なくとも第2電極7を設けた箇所以外に、透光性を有する導電性の第2薄膜5を備え、第1電極6及び第2電極7は、各電極が積層方向(厚み方向)から見てお互い重ならないように配置されている。
【0018】
なお、第1薄膜1及び第2薄膜5の材料は、透光性を有する導電性材料である、例えばNi、Ti、Au、Pt、Al等であり、第1薄膜1及び第2薄膜5の膜厚は、蒸着やスパッタ等により第1薄膜1及び第2薄膜5が透光性を有するように所望の厚みに膜厚調整される。
【0019】
ここで、第1電極6及び第2電極7は、材料は、例えばAlであり、図1に示すように、平面視において略四角形状をなす棟部電極61、71と、この棟部電極61、71各々と直交するとともに所定の間隔を有して配設された複数の歯部電極62、72とで形成された所望の厚みであるくし歯形状であり、各電極6、7がお互いに歯合するパターンを備えており、第1電極6のくし歯の先端と第2電極7のくし歯の先端との距離は、それぞれ等間隔になるように配置されている。なお、第1電極6及び第2電極7は、そのくし歯の先端部は、その隅角部が面取りされた形状(不図示)であってもよい。なお、第1電極6及び第2電極7の材料は、Ni、Ti、Au等であってもよい。
【0020】
なお、発光半導体素子の動作は、発光半導体素子に順方向のバイアス、すなわち、p型電極である第2電極7にプラス電圧を加え、n型電極である第1電極6にマイナス電圧を加えることで、活性層3内に多数キャリアである電子と多数キャリアであるホール(正孔)とが注入され、電子とホールとが再結合して消滅するときにエネルギーを放出する。このエネルギーの放出が光となって発光し、青色又は紫外の光が伝播経路を経由して素子の外部に伝わる。
【0021】
かかる半導体発光素子においては、第1導電型コンタクト層2の表面は、少なくとも第1電極6を設けた箇所以外に、透光性を有する導電性の第1薄膜1を備え、第2導電型コンタクト層4の表面は、少なくとも第2電極7を設けた箇所以外に、透光性を有する導電性の第2薄膜5を備えるので、第1薄膜1及び第2薄膜5が透光性を備えながらも導電性を有していることで、活性層3で発生する光を第1電極6、第2電極7で遮られることなく効率よく取り出すことができて、しかも活性層3内での電流を均一に分布させることができ、活性層3内での発光を均一に拡大させ、発光面積を増加させることにより、素子内部からの素子外部への光の取り出し効率が向上し、発光強度が向上する。
【0022】
また、第1電極6及び第2電極7は、各電極6、7が積層方向から見てお互い重ならないように配置することで、第1電極6と第2電極7とを結ぶ線上近傍に、第1電極6、第2電極7間の活性層3内を経由して電流を流すことができるので、第1電極6、第2電極7直下での発光を抑えて、第1電極6、第2電極7にて吸収される光を低減することにより、素子内部からの外部への光の取り出し効率が向上し、発光強度が向上するという効果を奏する。
【0023】
また、第1電極6及び第2電極7をくし歯形状とし、各電極6、7がお互いに歯合するパターンを備えることで、電流経路の抵抗を低くかつ等しくして、発光が始まる動作電圧を低くでき、かつ活性層3内に流れる電流密度は全領域でほぼ一定にすることができるので、第1電極6、第2電極7間の活性層3内を経由して流れる電流が局所的に集中することが防止でき、活性層3内での電流を均一に分布させることができ、活性層3内での発光を均一に拡大させ、発光面積を増加させることにより、素子内部からの素子外部への光の取り出し効率が向上し、発光強度が向上する。
【0024】
次に、第1電極6を設けた第1導電型コンタクト層2の領域と、第2電極7を設けた第2導電型コンタクト層4の領域との各領域が積層方向から見てお互い重ならないようにした実施形態を、本発明の第2実施形態として図3及び図4に基づいて説明する。図3は、本発明の第2実施形態に係る半導体発光素子を示す上面図であり、図4は、半導体発光素子を示すB−B断面での概略断面図である。なお、第1実施形態との同一箇所には同一符号を付して、共通部分の説明は省略する。
【0025】
まず、第2実施形態においては、図3、図4に示すように、半導体発光素子は、第1実施形態において、第1電極6及び第2電極7の形状がくし歯形状ではなく、平面視において四角型であり、第1電極6を設けた第1導電型コンタクト層2の領域と、第2電極7を設けた第2導電型コンタクト層4の領域とは、各領域が積層方向から見てお互い重ならない、つまり積層方向から見て対向の位置になるような構成である。なお、第1電極6及び第2電極7の材料は、例えばAlであるが、Ni、Ti、Au等であってもよい。
【0026】
かかる半導体発光素子においては、第1電極6を設けた第1導電型コンタクト層2の領域と、第2電極7を設けた第2導電型コンタクト層4の領域とが、お互い積層方向から見て重ならないように対向させたことで、第1電極6、第2電極7間の活性層3内を経由して流れる電流を効率的に拡散することができるので、電流が活性層3の特定領域に集中して、動作時に活性層3で発熱するのことを緩和でき、素子の動作温度を下げられるので、素子の信頼性向上と、活性層3内での電流を均一に分布させることができ、活性層3内での発光を均一に拡大させ、発光面積を増加させることにより、素子内部からの素子外部への光の取り出し効率が向上し、発光強度が向上する。
【0027】
なお、第2実施形態においては、第1電極6の数及び第2電極7の数は、各々1つずつであったが、各々少なくとも1つ以上であれば、複数個であっても勿論よい。また、第1電極6、第2電極7の平面視における大小関係は、図3、図4に示すように、第1電極6に比べて第2電極7の面積が大きいが、第1電極6と第2電極7との面積が同一であっても、第2電極7に比べて第1電極6の面積が大きくてもよい。また、第1電極6、第2電極7の厚みは、所望の厚みでよい。
【0028】
次に、他の実施形態を、本発明の第3実施形態として図5及び図6に基づいて説明する。図5は、本発明の第3実施形態に係る半導体発光素子を示す上面図であり、図6は、半導体発光素子を示すC−C断面での概略断面図である。なお、第1実施形態、第2実施形態との同一箇所には同一符号を付して、共通部分の説明は省略する。
【0029】
まず、第3実施形態においては、図5、図6に示すように、半導体発光素子は、第2実施形態において、積層方向から見て第1電極6であるn側電極を第2電極7であるp側電極がその周囲を取り囲むように配置して構成されている。
【0030】
なお、図5に示すように、例えば、第1電極6は、平面視において円形状であり、第2電極7は、平面視において四角形状から、円形状をくり抜いた形状であり、両電極6、7とも、材料は、例えばAlであるが、Ni、Ti、Au等であってもよい。なお、第1電極6及び第2電極7の厚みは、所望の厚みでよい。
【0031】
かかる半導体発光素子においては、第1電極6及び第2電極7を、積層方向から見て一方の電極が他方の電極を囲むように配置することで、第1電極6、第2電極7間を結ぶ特定箇所に電界が集中するのを防止できるので、耐静電気性が向上し、しかも第1電極6、第2電極7間の活性層内を経由して流れる電流を広範囲に拡散することができるので、活性層3内での電流を均一に分布させることができ、活性層3内での発光を均一に拡大させ、発光面積を増加させることにより、素子内部からの素子外部への光の取り出し効率が向上し、発光強度が向上する。
【0032】
次に、第3実施形態において半導体発光素子内部に透光性の絶縁層8を設けた実施形態を、本発明の第4実施形態として図7に基づいて説明する。図7は、本発明の第4実施形態に係る半導体発光素子を示すC−C断面(図5参照)での概略断面図である。なお、第3実施形態との同一箇所には同一符号を付して、共通部分の説明は省略する。また、半導体発光素子を示す上面図は、図5と同様であるので図示は省略する。
【0033】
まず、第4実施形態においては、図7に示すように、半導体発光素子は、第2導電型コンタクト層4内の活性層3との界面であり、積層方向から見て第2電極7の裏面に相当する箇所全面に透光性の絶縁層8である絶縁膜を設けた構成である。
【0034】
ここで、絶縁層8は、SiO2や、SiN等の透光性を有するものであり、その厚みは、第2導電型コンタクト層4の厚みより薄くかつ、透光性を損なわない範囲での所望の厚みであればよい。
【0035】
かかる半導体発光素子においては、第2導電型コンタクト層4内の活性層3との界面であり、積層方向から見て第2電極7の裏面に相当する箇所に透光性の絶縁層8を設けたことで、第2電極7の直下の領域の活性層3に電流が流れることを防止して、第2電極7で遮られる第2電極7直下での発光をなくすとともに、第2電極7の直下の領域の活性層3に電流が集中するのを防止することで、第1電極6、第2電極7間の活性層3内を経由して流れる電流を拡散することができるので、活性層3内での電流を均一に分布させることができ、活性層3内での発光を均一に拡大させ、発光面積を増加させることにより、素子内部からの素子外部への光の取り出し効率が向上し、発光強度が向上する。
【0036】
なお、第4実施形態においては、第2導電型コンタクト層4内の活性層との界面に絶縁層8を設けているが、半導体発光素子は、第1導電型コンタクト層2内の活性層3との界面で、積層方向から見て第1電極6の裏面に相当する箇所に、透光性の絶縁層(不図示)である絶縁膜を形成するような構成であってもよい。この場合も、第1導電型コンタクト層2内の活性層3との界面であり、積層方向から見て第1電極6の裏面に相当する箇所に透光性の絶縁層を設けることで、第1電極6の直下の領域の活性層3に電流が流れることを防止して、第1電極6で遮られる第1電極6直下での発光をなくすとともに、第1電極6の直下の領域の活性層3に電流が集中するのを防止することで、第1電極6、第2電極7間の活性層内を経由して流れる電流を拡散することができるので、活性層3内での電流を均一に分布させることができ、活性層3内での発光を均一に拡大させ、発光面積を増加させることにより、素子内部からの素子外部への光の取り出し効率が向上し、発光強度が向上する。
【0037】
ここで、第1実施形態乃至第4実施形態においては、第1導電型コンタクト層2及び第2導電型コンタクト層4は、透光性基板としてGaN基板を用いているが、SiCであってもよい。第1導電型コンタクト層2及び第2導電型コンタクト層4にGaNやSiCを用いることにより、素子内部からの素子外部への光の取り出し効率が向上し、発光強度が向上する。
【0038】
【発明の効果】
上記のように本願の請求項1に係る発明の半導体発光素子にあっては、透光性を有する第1導電型コンタクト層と、発光層である活性層と、透光性を有する第2導電型コンタクト層とを順次積層して備えてなり、第1導電型コンタクト層及び第2導電型コンタクト層は、各々第1電極及び第2電極を表面に備えてなる半導体発光素子であって、第1導電型コンタクト層の表面は、少なくとも第1電極を設けた箇所以外に、透光性を有する導電性の第1薄膜を備え、第2導電型コンタクト層の表面は、少なくとも第2電極を設けた箇所以外に、透光性を有する導電性の第2薄膜を備えており、第1薄膜及び第2薄膜が透光性を備えながらも導電性を有していることで、活性層で発生する光を第1電極、第2電極で遮られることなく効率よく取り出すことができて、しかも活性層内での電流を均一に分布させることができ、活性層内での発光を均一に拡大させ、発光面積を増加させることにより、素子内部からの素子外部への光の取り出し効率が向上し、発光強度が向上するという効果を奏する。
【0039】
また、第1電極及び第2電極は、各電極が積層方向から見てお互い重ならないように配置することで、第1電極と第2電極とを結ぶ線上近傍に、第1電極、第2電極間の活性層内を経由して電流を流すことができるので、第1電極、第2電極直下での発光を抑えて、第1電極、第2電極にて吸収される光を低減することにより、素子内部からの外部への光の取り出し効率が向上し、発光強度が向上するという効果を奏する。
【0040】
また、請求項2に係る発明の半導体発光素子にあっては、請求項1に記載の発明における効果に加えて、第1電極及び第2電極は、くし歯形状であり、各電極がお互いに歯合するパターンを備えることで、電流経路の抵抗を低くかつ等しくして、発光が始まる動作電圧を低くでき、かつ活性層内に流れる電流密度は全領域でほぼ一定にすることができるので、第1電極、第2電極間の活性層内を経由して流れる電流が局所的に集中することが防止でき、活性層内での電流を均一に分布させることができ、活性層内での発光を均一に拡大させ、発光面積を増加させることにより、更に、素子内部からの素子外部への光の取り出し効率が向上し、発光強度が向上するという効果を奏する。
【0041】
また、請求項3に係る発明の半導体発光素子にあっては、請求項1に記載の発明における効果に加えて、第1電極を設けた第1導電型コンタクト層の領域と、第2電極を設けた第2導電型コンタクト層の領域とは、各領域が積層方向から見てお互い重ならないように対向しているので、第1電極、第2電極間の活性層内を経由して流れる電流を効率的に拡散することができるので、電流が活性層の特定領域に集中して、動作時に活性層で発熱するのことを緩和でき、素子の動作温度を下げられるので、素子の信頼性向上と、活性層内での電流を均一に分布させることができ、活性層内での発光を均一に拡大させ、発光面積を増加させることにより、更に、素子内部からの素子外部への光の取り出し効率が向上し、発光強度が向上するという効果を奏する。
【0042】
また、請求項4に係る発明の半導体発光素子にあっては、請求項1に記載の発明における効果に加えて、第1電極及び第2電極を、積層方向から見て一方の電極が他方の電極を囲むように配置することで、第1電極、第2電極間を結ぶ特定箇所に電界が集中するのを防止できるので、耐静電気性が向上し、しかも第1電極、第2電極間の活性層内を経由して流れる電流を広範囲に拡散することができるので、活性層内での電流を均一に分布させることができ、活性層内での発光を均一に拡大させ、発光面積を増加させることにより、更に、素子内部からの素子外部への光の取り出し効率が向上し、発光強度が向上するという効果を奏する。
【0043】
また、請求項5に係る発明の半導体発光素子にあっては、請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の発明における効果に加えて、第1導電型コンタクト層は、活性層との界面であり第1電極の積層方向裏面側に相当する領域に透光性の絶縁層を設けたことで、第1電極の直下の領域の活性層に電流が流れることを防止して、第1電極で遮られる第1電極直下での発光をなくすとともに、第1電極の直下の領域の活性層に電流が集中するのを防止することで、第1電極、第2電極間の活性層内を経由して流れる電流を拡散することができるので、活性層内での電流を均一に分布させることができ、活性層内での発光を均一に拡大させ、発光面積を増加させることにより、更に、素子内部からの素子外部への光の取り出し効率が向上し、発光強度が向上するという効果を奏する。
【0044】
また、請求項6に係る発明の半導体発光素子にあっては、請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の発明における効果に加えて、第2導電型コンタクト層は、活性層との界面であり第2電極の積層方向裏面側に相当する領域に透光性の絶縁層を設けたことで、第2電極の直下の領域の活性層に電流が流れることを防止して、第2電極で遮られる第2電極直下での発光をなくすとともに、第1電極、第2電極間の活性層内を経由して流れる電流を拡散することができるので、活性層内での電流を均一に分布させることができ、活性層内での発光を均一に拡大させ、発光面積を増加させることにより、更に、素子内部からの素子外部への光の取り出し効率が向上し、発光強度が向上するという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施形態に係る半導体発光素子を示す上面図である。
【図2】本発明の第1実施形態に係る半導体発光素子を示す概略断面図である。
【図3】本発明の第2実施形態に係る半導体発光素子を示す上面図である。
【図4】本発明の第2実施形態に係る半導体発光素子を示す概略断面図である。
【図5】本発明の第3実施形態に係る半導体発光素子を示す上面図である。
【図6】本発明の第3実施形態に係る半導体発光素子を示す概略断面図である。
【図7】本発明の第4実施形態に係る半導体発光素子を示す概略断面図である。
【符号の説明】
1 第1薄膜
2 第1導電型コンタクト層
3 活性層
4 第2導電型コンタクト層
5 第2薄膜
6 第1電極
7 第2電極
8 絶縁層
Claims (6)
- 透光性を有する第1導電型コンタクト層と、発光層である活性層と、透光性を有する第2導電型コンタクト層とを順次積層して備えてなり、
前記第1導電型コンタクト層及び前記第2導電型コンタクト層は、各々第1電極及び第2電極を表面に備えてなる半導体発光素子であって、
前記第1導電型コンタクト層の表面は、少なくとも前記第1電極を設けた箇所以外に、透光性を有する導電性の第1薄膜を備え、
前記第2導電型コンタクト層の表面は、少なくとも前記第2電極を設けた箇所以外に、透光性を有する導電性の第2薄膜を備え、
前記第1電極及び前記第2電極は、各電極が積層方向から見てお互い重ならないように配置されたことを特徴とする半導体発光素子。 - 前記第1電極及び前記第2電極は、くし歯形状であり、各電極がお互いに歯合するパターンを備えた請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記第1電極を設けた前記第1導電型コンタクト層の領域と、前記第2電極を設けた前記第2導電型コンタクト層の領域とは、各領域が積層方向から見てお互い重ならないように対向した請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記第1電極及び前記第2電極は、積層方向から見て、一方の電極が他方の電極を囲むように配置された請求項1に記載の半導体発光素子。
- 前記第1導電型コンタクト層は、前記活性層との界面であり前記第1電極の積層方向裏面側に相当する領域に透光性の絶縁層を備えた請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の半導体発光素子。
- 前記第2導電型コンタクト層は、前記活性層との界面であり前記第2電極の積層方向裏面側に相当する領域に透光性の絶縁層を備えた請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の半導体発光素子。
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Cited By (8)
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---|---|---|---|---|
CN100438108C (zh) * | 2006-06-15 | 2008-11-26 | 厦门大学 | 树叶脉络形大功率氮化镓基发光二极管芯片的p、n电极 |
WO2010092781A1 (ja) * | 2009-02-10 | 2010-08-19 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | 半導体発光素子およびその製造方法 |
WO2010092783A1 (ja) * | 2009-02-10 | 2010-08-19 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | 半導体発光素子およびその製造方法 |
JP2012033800A (ja) * | 2010-08-02 | 2012-02-16 | Stanley Electric Co Ltd | 半導体発光装置 |
JP2012064917A (ja) * | 2010-09-14 | 2012-03-29 | ▲さん▼圓光電股▲ふん▼有限公司 | 発光ダイオード |
JP2012142630A (ja) * | 2012-04-27 | 2012-07-26 | Hitachi Cable Ltd | 発光装置 |
JP2012222219A (ja) * | 2011-04-12 | 2012-11-12 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光素子 |
EP1929545A4 (en) * | 2005-09-30 | 2014-03-05 | Lattice Power Jiangxi Corp | SEMICONDUCTOR ELECTROLUMINESCENT DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME |
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2002
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Cited By (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1929545A4 (en) * | 2005-09-30 | 2014-03-05 | Lattice Power Jiangxi Corp | SEMICONDUCTOR ELECTROLUMINESCENT DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME |
CN100438108C (zh) * | 2006-06-15 | 2008-11-26 | 厦门大学 | 树叶脉络形大功率氮化镓基发光二极管芯片的p、n电极 |
KR20110120905A (ko) * | 2009-02-10 | 2011-11-04 | 도와 일렉트로닉스 가부시키가이샤 | 반도체 발광소자 및 그 제조 방법 |
JP2010186802A (ja) * | 2009-02-10 | 2010-08-26 | Dowa Electronics Materials Co Ltd | 半導体発光素子およびその製造方法 |
JP2010186798A (ja) * | 2009-02-10 | 2010-08-26 | Dowa Electronics Materials Co Ltd | 半導体発光素子およびその製造方法 |
JP4583487B2 (ja) * | 2009-02-10 | 2010-11-17 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | 半導体発光素子およびその製造方法 |
US8809894B2 (en) | 2009-02-10 | 2014-08-19 | Dowa Electronics Materials Co., Ltd. | Semiconductor light emitting diode and method of producing the same |
EP2398077A1 (en) * | 2009-02-10 | 2011-12-21 | DOWA Electronics Materials Co., Ltd. | Semiconductor light emitting diode and method of producing same |
WO2010092783A1 (ja) * | 2009-02-10 | 2010-08-19 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | 半導体発光素子およびその製造方法 |
CN102388471A (zh) * | 2009-02-10 | 2012-03-21 | 同和电子科技有限公司 | 半导体发光二极管及其制造方法 |
KR101616150B1 (ko) | 2009-02-10 | 2016-04-27 | 도와 일렉트로닉스 가부시키가이샤 | 반도체 발광소자 및 그 제조 방법 |
KR101605223B1 (ko) | 2009-02-10 | 2016-03-21 | 도와 일렉트로닉스 가부시키가이샤 | 반도체 발광소자 및 그 제조 방법 |
US9287458B2 (en) | 2009-02-10 | 2016-03-15 | Dowa Electronics Materials Co., Ltd. | Semiconductor light emitting diode and method of producing the same |
EP2398077A4 (en) * | 2009-02-10 | 2014-01-01 | Dowa Electronics Materials Co | Light-emitting semi-conductor diode and method for its production |
WO2010092781A1 (ja) * | 2009-02-10 | 2010-08-19 | Dowaエレクトロニクス株式会社 | 半導体発光素子およびその製造方法 |
JP2012033800A (ja) * | 2010-08-02 | 2012-02-16 | Stanley Electric Co Ltd | 半導体発光装置 |
JP2012064917A (ja) * | 2010-09-14 | 2012-03-29 | ▲さん▼圓光電股▲ふん▼有限公司 | 発光ダイオード |
JP2012222219A (ja) * | 2011-04-12 | 2012-11-12 | Nichia Chem Ind Ltd | 発光素子 |
JP2012142630A (ja) * | 2012-04-27 | 2012-07-26 | Hitachi Cable Ltd | 発光装置 |
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