JP2004163420A5 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2003360974A JP4472305B2 (ja) | 2002-10-22 | 2003-10-21 | パターン検査装置および方法 |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002307406 | 2002-10-22 | ||
| JP2003360974A JP4472305B2 (ja) | 2002-10-22 | 2003-10-21 | パターン検査装置および方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009261499A Division JP5037590B2 (ja) | 2002-10-22 | 2009-11-17 | パターン検査装置および方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004163420A JP2004163420A (ja) | 2004-06-10 |
| JP2004163420A5 true JP2004163420A5 (enExample) | 2006-11-24 |
| JP4472305B2 JP4472305B2 (ja) | 2010-06-02 |
Family
ID=32828056
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003360974A Expired - Fee Related JP4472305B2 (ja) | 2002-10-22 | 2003-10-21 | パターン検査装置および方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4472305B2 (enExample) |
Families Citing this family (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7831369B2 (en) * | 2005-11-16 | 2010-11-09 | Gm Global Technology Operations, Inc. | Method and apparatus for vehicle and engine operation |
| US8041103B2 (en) * | 2005-11-18 | 2011-10-18 | Kla-Tencor Technologies Corp. | Methods and systems for determining a position of inspection data in design data space |
| JP2007192594A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Horon:Kk | パターン画像取得方法およびパターン画像取得装置 |
| JP2007192595A (ja) * | 2006-01-17 | 2007-08-02 | Horon:Kk | 検査方法および検査装置 |
| WO2007094439A1 (ja) | 2006-02-17 | 2007-08-23 | Hitachi High-Technologies Corporation | 試料寸法検査・測定方法、及び試料寸法検査・測定装置 |
| JP4943304B2 (ja) * | 2006-12-05 | 2012-05-30 | 株式会社 Ngr | パターン検査装置および方法 |
| JP5153212B2 (ja) * | 2007-06-07 | 2013-02-27 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線装置 |
| JP5474312B2 (ja) * | 2007-06-20 | 2014-04-16 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム装置及びその制御方法 |
| US8071943B2 (en) * | 2009-02-04 | 2011-12-06 | Advantest Corp. | Mask inspection apparatus and image creation method |
| US20120092482A1 (en) * | 2009-04-03 | 2012-04-19 | Shinichi Shinoda | Method and device for creating composite image |
| JP2011137901A (ja) * | 2009-12-28 | 2011-07-14 | Hitachi High-Technologies Corp | パターン計測条件設定装置 |
| JP5809997B2 (ja) | 2012-02-14 | 2015-11-11 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 半導体計測装置及びコンピュータープログラム |
| JP6063630B2 (ja) | 2012-03-19 | 2017-01-18 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン計測装置、及び半導体計測システム |
| KR101749440B1 (ko) | 2013-02-20 | 2017-06-20 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | 패턴 측정 장치 및 반도체 계측 시스템 |
| JP2017096625A (ja) | 2014-02-21 | 2017-06-01 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン測定装置、及びコンピュータープログラム |
| US9316492B2 (en) | 2014-08-08 | 2016-04-19 | International Business Machines Corporation | Reducing the impact of charged particle beams in critical dimension analysis |
| JP6548542B2 (ja) | 2015-09-29 | 2019-07-24 | 株式会社ホロン | Sem画像取得装置およびsem画像取得方法 |
| JP6759034B2 (ja) | 2016-09-29 | 2020-09-23 | 株式会社日立ハイテク | パターン評価装置及びコンピュータープログラム |
| JP7386619B2 (ja) * | 2019-05-09 | 2023-11-27 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 電子ビーム検査方法及び電子ビーム検査装置 |
| JP7409988B2 (ja) * | 2020-07-29 | 2024-01-09 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パターン検査装置及び輪郭線同士のアライメント量取得方法 |
| CN113296369B (zh) * | 2021-05-14 | 2022-09-23 | 长鑫存储技术有限公司 | 用于光学临近修正的图形量测方法及装置 |
| JP7750823B2 (ja) * | 2022-12-27 | 2025-10-07 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 検査装置及び検査画像の生成方法 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0660815B2 (ja) * | 1987-02-27 | 1994-08-10 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子ビームによるパターン欠陥検査方法およびその装置 |
| JPH03235949A (ja) * | 1990-02-13 | 1991-10-21 | Nec Corp | マスク検査方法 |
| JPH09265931A (ja) * | 1996-03-29 | 1997-10-07 | Toshiba Corp | 画像取得装置及び方法 |
| JPH09312318A (ja) * | 1996-05-21 | 1997-12-02 | Hitachi Ltd | パタ−ン欠陥検査装置 |
| JP3524853B2 (ja) * | 1999-08-26 | 2004-05-10 | 株式会社ナノジオメトリ研究所 | パターン検査装置、パターン検査方法および記録媒体 |
| JP2002031525A (ja) * | 2000-07-14 | 2002-01-31 | Seiko Instruments Inc | 半導体ウエハのパターン形状評価方法及び装置 |
| JP4199939B2 (ja) * | 2001-04-27 | 2008-12-24 | 株式会社日立製作所 | 半導体検査システム |
| JP4510327B2 (ja) * | 2001-05-29 | 2010-07-21 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | Cad情報に基くレイヤ合わせずれ評価方法及び装置 |
-
2003
- 2003-10-21 JP JP2003360974A patent/JP4472305B2/ja not_active Expired - Fee Related
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