JP2004077811A5

JP2004077811A5 -

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Publication number: JP2004077811A5
Application number: JP2002238158A
Authority: JP
Filing date: 2002-08-19
Publication date: 2005-09-22
Anticipated expiration: 2022-08-19

Claims

（Ａ）アルカリ可溶性ポリマー、
（Ｂ）酸の作用によりアルカリ可溶性ポリマー（Ａ）と架橋する架橋剤、及び、
（Ｃ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、下記一般式（１）で表される化合物
を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

一般式（１）中、
Ｒ₁〜Ｒ₅は、各々独立に、水素原子、ニトロ基、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アリール基、又はアシルアミノ基を表し、Ｒ₁〜Ｒ₅のうち少なくとも２つが結合して環を形成してもよい。
Ｒ₆及びＲ₇は、各々、水素原子を表す。
Ｙ₁及びＹ₂は、各々独立に、アルキル基、アルケニル基、又はアリール基を表し、Ｙ₁及びＹ₂の少なくともひとつはアリール基である。Ｙ₁及びＹ₂は結合してＳ⁺とともに環を形成してもよい。
Ｒ₁〜Ｒ₅の少なくともひとつとＹ₁及びＹ₂の少なくともひとつが結合して環を形成してもよい。
また、Ｒ₁〜Ｒ₇のいずれか、又はＹ₁及びＹ₂のいずれかの位置で、連結基を介して結合し、式（１）の構造を２つ以上有していてもよい。
Ｘ^-は、非求核性アニオンを表す。
請求項１に記載のレジスト組成物によりレジスト膜を形成し、当該レジスト膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。