JP2004052046A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103147069A (zh) * 2011-12-07 2013-06-12 周义才 金属有机物磊晶薄膜的制造方法
KR101508812B1 (ko) * 2012-05-08 2015-04-06 삼성전기주식회사 코일 부품 제조방법 및 코일 부품
KR101709810B1 (ko) * 2012-06-14 2017-03-08 삼성전기주식회사 고주파 인덕터의 제조방법
KR101994726B1 (ko) * 2013-12-18 2019-07-01 삼성전기주식회사 칩 전자부품 및 그 제조방법
KR101762027B1 (ko) * 2015-11-20 2017-07-26 삼성전기주식회사 코일 부품 및 그 제조 방법
CN106094445B (zh) * 2016-06-12 2018-11-20 中国科学院微电子研究所 大高宽比纳米级金属结构的制作方法
CN106435675B (zh) * 2016-11-30 2018-08-28 华侨大学 一种适用于分段电镀的屏蔽层取消设备及其取消方法
JP2019033282A (ja) * 2018-10-30 2019-02-28 Tdk株式会社 コイル部品およびその製造方法
JP6879355B2 (ja) * 2019-12-03 2021-06-02 Tdk株式会社 コイル部品の製造方法
US12382581B2 (en) * 2022-05-10 2025-08-05 International Business Machines Corporation Sidewall plating of circuit boards for layer transition connections

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3853715A (en) 1973-12-20 1974-12-10 Ibm Elimination of undercut in an anodically active metal during chemical etching
JPH08330736A (ja) 1995-06-01 1996-12-13 Toray Ind Inc 多層基板およびその製造方法
JPH0973608A (ja) * 1995-09-04 1997-03-18 Sanyo Electric Co Ltd 薄膜磁気ヘッドの製造方法
US6156487A (en) * 1998-10-23 2000-12-05 Matsushita-Kotobuki Electronics Industries, Ltd. Top surface imaging technique for top pole tip width control in magnetoresistive read/write head processing
JP3355175B2 (ja) * 2000-05-16 2002-12-09 ティーディーケイ株式会社 フレームめっき方法および薄膜磁気ヘッドの磁極の形成方法
JP2002123910A (ja) * 2000-10-16 2002-04-26 Alps Electric Co Ltd 薄膜磁気ヘッド及び薄膜磁気ヘッドの製造方法
JP3593497B2 (ja) * 2000-11-08 2004-11-24 アルプス電気株式会社 薄膜磁気ヘッドの製造方法
US6922316B2 (en) * 2000-11-10 2005-07-26 Tdk Corporation Thin-film magnetic head and method of manufacturing same
JP2003029415A (ja) 2001-07-06 2003-01-29 Internatl Business Mach Corp <Ibm> フォトレジスト加工方法及び段型金属体製造方法
JP2003317210A (ja) * 2002-04-25 2003-11-07 Tdk Corp パターン形成方法、マイクロデバイスの製造方法、薄膜磁気ヘッドの製造方法、磁気ヘッドスライダの製造方法、磁気ヘッド装置の製造方法、磁気記録再生装置の製造方法

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