JP2004024926A - 高濃度炭酸水による洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents

Abstract

【課題】諸外国から輸入される野菜や他の食材とそれを運搬、搬送する器具類、その他、電子基盤及び機材や医療機械器具などの洗浄方法及び洗浄装置を提供する。
【解決手段】密閉された洗浄工程がある上部空間１０の下に、搬送コンベアー２３の上で食材を入れたバケット３２を搬送しながら、高濃度炭酸水を使用し、食材を入れたバケット３２が水面１５近傍に位置するように搬送される状態にして、下側からは、洗浄水及び炭酸ガスの流れで、食材の周りの溶液に攪拌作用を与え、その外側へ向かって汚れを排出するようにし、上側より色々な角度から激しい噴射水流を、食材とその周りの洗浄水の水面に当てることにより、炭酸水中の食材表面や水面から発生する気泡郡や攪拌作用と水面の叩き振動によって被洗浄物に、強固に付着した細菌や異物及び虫などを、取り除きながら洗浄を確実におこなうことができる。又、次亜塩素酸ソーダ及び亜塩素酸ソーダのような塩素系食品添加用殺菌剤の希釈溶液を、炭酸水に希釈混合して、殺菌力を持った洗浄水として使用することができる。
【選択図】　図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、３００ｐｐｍ以上６０００ｐｐｍ以下の生成し易い炭酸水を使用し、その発泡作用を利用して、微細なミクロ空間において、噴射水流やシャワー状の噴射水激などにより、高濃度炭酸水のもつ、ガス化作用を刺激してミクロレベルでの洗浄作用を最大限にいかすものであり。食材や電子基盤や機材、ＩＣのウエハー、医療機械器具のような、より高度な洗浄を必要とする物のため、炭酸水を用いた洗浄方法や装置に関するものであり。
【０００２】
又は治療用の患部の洗浄に、炭酸水の持つガス化作用を利用して、洗浄効果を高め、同時に、高濃度炭酸水を温水にして、血行促進、毛細管発達促進作用を必要とするものに適した洗浄方法や装置に関するものである。
【０００３】
又、同時に食材の表面に付着した、小さな虫、髪の毛、ごみなどや、野菜類の表面にある、水をはじく生成物中に、住み着いた細菌等を、ミクロのゴミと考えて、より効率良く除去して、洗浄作用で殺菌に準じる効果を、得るのに適した洗浄方法や装置に関するものである。
【０００４】
なおかつ、炭酸水の持つ小さな気泡の、生成と消滅による振動攪拌作用や、微弱な超音波発生作用を利用して、殺菌剤を含有する洗浄水が、食材の表面に直接作用し易くし、洗浄作用により、一層、殺菌効率を高めることや、同時に、炭酸水のガス化作用により、混合される殺菌剤の脱臭を目的とした、殺菌、脱臭作用がおこなえる、洗浄方法及びその装置に関する。
【０００５】
【従来の技術】
従来から、食材の殺菌などに、次亜塩素酸ソーダや亜塩素酸ソーダの希釈液をシャワー状に墳射して殺菌を行う事は知られている又、これらの液はアルカリ性で酸化力が弱いため、これらに酸を作用させて、極めて高い酸化力の次亜塩素酸や二酸化塩素を生じさせると殺菌力が増大する事も学問的にはは知られていた。
【０００６】
しかし、危険な塩素ガスや二酸化塩素ガスの発生によって酸を加える機構をもった殺菌作用のある洗浄機械の商品開発はなされなかった。
【０００７】
又、従来は次亜塩素酸ソーダ又は亜塩素酸ソーダの水溶液を数個の浸漬槽に入れ、その中に食材を浸し、水洗浄の槽と殺菌水の槽を直線ライン状に配置してバケット式に食材を移送して殺菌を行っていた。
【０００８】
又、これら浸漬槽の下部よりエアーを殺菌水中で噴射して、気泡による攪拌効果を利用した殺菌装置は市販されているが、野菜などが世界中から輸入されるようになって、新たな問題として、生育地域の気候の違いからくる、表面の生成膜の違いや、微生物の多い少ないの違いが、従来技術では、同じ時間内に均一な菌数に、野菜を殺菌できないと言う問題が生じていた。
【０００９】
こうした問題には、必ず付着物の洗浄が大きく結果を左右することがしられてきつつあった。しかし、現在まで、この問題を安価にしかも、食品洗浄としても、安全である、解決の方法や装置が、市場に提供されていなかった。
【００１０】
又、搬送コンベアー、などの上に食材を載せ電動式のコンベアーの移動時に、上下側方向や左右側方向から激しくシャワー状にオゾン含有水を噴射して食材の虫取りや、わずかな洗浄作用を持った、殺菌をする方法は、すでに知られていた。（例えば、特願昭５５−７３０９０号広報参照）。このように従来のわずかな洗浄作用を持った殺菌方法はシャワー状の噴射水激によるもので、次亜塩素酸ソーダの希釈水かオゾン水かによっただけであった。
【００１１】
あるいは、食材を塩素系殺菌水の中で下側より殺菌水の噴射流によって浮き沈み、並びに回転をさせて、洗浄と殺菌をさせながら上部にある移送手段によって出口側に所要の時間をかけながら洗浄と殺菌を行うもので、（例えば、特願平６−１６４７２０号広報参照）このような従来技術は、殺菌水の単純な水流を利用して、食材に水や泡を、接触させるだけのもので、洗浄効果は微弱であった。
【００１２】
又、医療用機械器具の洗浄において、胃カメラの洗浄は特に洗浄時間の短縮化と殺菌洗浄の完全性が要求されるものである、従来は、過酢酸が使用されているが、１５分以上はかかるので、これ以上の時間の短縮化は洗浄や殺菌に不完全さをもたらし、好ましくないと言う状況があった。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
一般に、このような噴射水流や水激だけでの装置では、食材や電子基盤及び機材、医療機械器具の洗浄は、難しかった。又、表面の極めて薄い臨界膜（被洗浄物の微細な表面空間に生まれる、動き難い水の層）や付着物の、一部は剥離できても、全体的に剥離して、表面にこびりついた付着物を除去し、常に新しい殺菌成分を被洗浄物の表面に、有効的に接触させて高い効果を得ることや、超純水を使用しても、極めて高度な洗浄を、より高い効率で得ることはできなかった。
【００１４】
このため、食材においては、一般細菌数を１０の二乗以下に下げるには、長い時間が必要であったが、長時間殺菌水に浸漬しておくと食材が痛み商品性が損なわれた。又、生産性も悪くコスト競争の激しい現在の生産設備としては使用できないと言う問題があった。
【００１５】
又、食材の表面に付着した異物、例えば、小さな虫やごみ、そして細かい髪の毛などは殺菌と別に新たな洗浄除去工程が必要であった。
【００１６】
その上、殺菌効果においては野菜などの表面に形成された植物の保護層のさまざまな隙間についている細菌などは、今までの殺菌水の攪拌やシャワー状の噴射流だけでは、なかなか取りにくいものであった。このため、初期の細菌数が１０の８乗ぐらいあると、１０の４乗以下には下がりにくい状況にあった。
【００１７】
又、次亜塩素酸ソーダは、１００ｐｐｍ以上の濃度になると微妙に塩素臭が残り、水洗浄に時間をかける必要があった、洗浄殺菌機を通過した時点でまったく塩素臭のない野菜洗浄はできなかった。このため、野菜サラダなどの食感を損なう事があった。
【００１８】
これらの問題を解決するには、現状食材や医療機器に認められている殺菌剤だけでの働きとか、超純水などの洗浄効果だけではこれ以上の進歩が得られないと言う状況にあった。しかも、電子技術産業においては、電子基盤は少しの異物も許容できない、高度技術の段階にきており、その洗浄技術の更なる進歩が求められている。又、胃カメラなどにおいては、機器が極めて効果であるため、台数を増やして対応するのではなく、より早い完全な洗浄殺菌が求められている。
【００１９】
【課題を解決するための手段】
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、次亜塩素酸による殺菌も二酸化塩素（亜塩素酸ソーダ）を使用して殺菌する場合もともに、食材表面にできて、なかなか移動しない洗浄液の臨界膜（被洗浄物の微細な表面空間に生まれる、動き難い水の層）を剥離して常に新しい殺菌水が入れ替わり、入れ替わり接触するようにし、同時に、小さな虫や付着物を取り除く洗浄を、炭酸ガスによる発泡作用を利用した、塩素臭の脱臭もできる方法及び装置を提供するものである。
【００２０】
又、炭酸水の発生する泡による吸着作用を利用し、虫や細かい異物を除去し、かつ食材などの表面に生成される、皮膜を除去し、常に新しい殺菌水を直接、食材表面に接触させるように、泡の消滅による超音波発生作用を同時に利用できる殺菌や、脱臭の効果や、電子産業がもとめる、極めて高い洗浄力がある洗浄方法及び装置を提供するものである。
【００２１】
これらの作用が同時に得られるためには、被洗浄物の搬送過程で、洗浄水に、激しい噴射流やシャワー状の水激をあたえると、炭酸水は炭酸ガスを水分子空間から気泡として出現させ、微細な泡として発生する、これを水面下においては、攪拌作用として働かせるために、
【００２２】
被洗浄物の下側からは、強力な炭酸水の流と炭酸ガスや空気などの噴射流を用い、上側からは激しい噴射水流により炭酸水面と共に被洗浄物と下側から吹き上げる炭酸ガスの気泡を叩くような、激しい振動を与えるなら、前記の作用である、水激剥離及び、攪拌と泡による吸着除去と微弱な超音波振動による臨界膜の除去等が、被洗浄物の周りで同時に作用し、連続的な殺菌や、脱臭効果を持つ、洗浄方法や、高度な洗浄方法及び装置を提供するものである。
【００２３】
炭酸水の浸漬槽において、被洗浄物の下側から吹き上げる水流を作り、排水口部へ泡及び異物が排出できるように、対流を起させて排出させ、又、循環濾過の吸入経路の途中に、細かいメッシュの網による異物捕捉用の籠を取り外し自在に取り付、その他の重い異物を捕捉除去するようにした、食材や電子基盤及び機材、医療機械器具の洗浄又は、治療用洗浄の洗浄や、殺菌、脱臭等もおこなえる洗浄方法及び装置を提供するものである。
【００２４】
又、炭酸水の発泡作用とガス化による気化作用で食材などに付着した、消毒材の臭気などを吹き飛ばして、殺菌工程の残留臭を取り除けるようにする、脱臭作用もある洗浄装置を提供するものである。
【００２５】
これらの作用がより強力に得られるために、洗浄のための炭酸水に被洗浄物を水面近傍に沈めて、下方向から炭酸ガス噴射流を吹き上げさせ、それを上下方向から殺菌効果の高い薬剤を含有する炭酸水により、激しく水激をあたえると、炭酸水の表面は激しい波立ちと、泡を発生させる又、その水面下では激しく水が攪拌される、その状態のところに、新しい被洗浄物が入った、アミ籠式で搬送手段から脱着機構を有する、複数のバケットが連続的に送られて来るようにして、流体の水激作用から生じる、高度な洗浄効果をもたらす、連続的な殺菌、脱臭効果も得られる高度洗浄方法及び装置を提供するものである。
【００２６】
又、医療器械においては、胃カメラなどの洗浄が高度洗浄を必要とする分野である。現在はマグネット式のケミカルポンプなどで、０．２％〜０．３％程度の過酢酸溶液を殺菌剤として内部に循環注入して殺菌に使用しているが、胃カメラの長い管は内部の先端カメラ部や手元側の入り組んだところの内部洗浄が極めて難しい。
【００２７】
過酢酸含有高濃度炭酸水を細いテフロン洗浄管に圧力送水して先端部にシャワー化させる機構を設け、このパイプごと胃カメラの管に挿入して複雑な内部の凹凸のところで激しく回転流及びシャワー状の流れを生み出して炭酸水の発泡作用を利用して菌や蛋白汚染物質を洗浄剥離させて、過酢酸や次亜塩素酸による殺菌を短時間でより高精度にする高度洗浄方法及び装置を提供するものである。
【００２８】
この時、使用される炭酸濃度は２０００ｐｐｍ以上であることが望ましく、又、胃カメラの洗浄に使用される洗浄時の収納室は大気圧より負圧になっている方がより炭酸ガスの発泡作用に好ましい。又、前記テフロン洗浄管の一部分に、ちょうど、先端が胃カメラの先端近傍にある時手元の挿入部入り口近傍で噴射流を発生させるようになっていると更に良い。
【００２９】
又、胃カメラの装置が収納される洗浄槽は液密で、使用した炭酸水から発生する炭酸ガスが空気と混じらずに、再び使用されるために、再吸収するようになっているとさらに好ましい。
【００３０】
胃カメラに使用される、殺菌剤と混合された洗浄炭酸水の送水経路に炭酸ガス又は空気などを、微細な気泡にしてポンプ送水流の中に送り込むと、この気泡が炭酸のガス化を誘引して分子レベルからの気泡発生をもたらし、洗浄効果が増大するので殺菌効果も向上する、
【００３１】
又、この発泡効果を断続的に流水洗浄水中で発生させ、洗浄効果を増強させるため、ポンプと洗浄部間の、管路の一部に、ベローズやシリンダーなどにより、洗浄水が通る管路空間の体積を、極めて速い速度で増減させて、一瞬負圧状態を作るのが望ましい。この場合、電磁ポンプ機構が機能として一層、望ましい
【００３２】
又、前記炭酸ガス又は空気の微細な気泡の混入ではなく、前記洗浄水を加圧送水し、この噴出する管と同心線上に別の噴射流保護管を設け、この両者の管の間に外気取り入れ管路を設けた構造において噴射流保護管に向かって噴射流を形成すると、激しい送水流が生じる。このように、洗浄管路内に炭酸ガス又は空気の気泡が混合された状態で、勢い良く管路内に送水し、炭酸ガスの気泡粒径の増大作用を利用して、殺菌水と気体の激しい流れにより、管路を及び洗浄部を洗浄及び殺菌をするのが望ましい。
【００３３】
ＩＣ産業の米ともいわれるシリコンウエハーの洗浄や電子基盤の洗浄に、炭酸水流に超音波振動をかけて、気泡を誘発し、分子レベルから発生する炭酸ガス気泡の表面に汚れを吸着させて洗浄することが、高度な洗浄を可能にする。又、被洗浄物についた汚染物質の種類によっては、この洗浄水にオゾンを混合して酸化力を加え又、超音波発振素子と被洗浄物との間隔を、約２センチ以内に保って洗浄すると良い。
【００３４】
又、歯科治療時においては歯茎の血行促進に３５０ｐｐｍ以上の高濃度炭酸温水が有効であり、高い濃度の炭酸温水によるほど、霧状噴霧又はシャワー状噴霧による泡の生成作用が顕著であり、こうした高濃度炭酸水の持つ血行促進と発泡洗浄作用を有する洗浄方法及び装置を提供するものである。
【００３５】
又、寝たきり老人の蓐瘡洗浄には膿みを取り除く作業がつきもので、消毒薬の中にはガス発泡作用があるものも市販されているが、この洗浄作業を容易にしかも、より完全に行ない、しかも、衛生的に行なうには、炭酸温水による噴射水激がよい、簡単に蓐瘡の洗浄が行なえる治療患部の洗浄方法及び装置を提供するものである。
【００３６】
患部洗浄に使用される高濃度炭酸水の温度は人体の体温程度が好ましく、２５℃〜３９℃の範囲内に調整するのが望ましい。
【００３７】
食材、特にお米の洗浄は無洗米などの普及で、洗浄と同時に旨味をどしたら逃がさずに外側の部分を除去できるかが、今後の課題となっている。お酒などは米を研ぐと言う考え方が昔からあり、お米の外側部分を削って中だけを使用するのですが、一般に販売される、炊いたご飯で作る商品等も、みなより美味しい商品を作り出そうと努力している。
【００３８】
これには、高濃度炭酸水のガス化し易さと、弱酸性の性質が極めて有効であります。あまり酸性が強いと、食品の味を壊してしまい、又、アルカリや中性では美味しさの溶出がとまらず、せっかくの美味しさが研ぎの過程で失われます。
又、お米を研ぐ状態での炭酸水は、その発泡作用により、削り取ったものを、水の表面張力で泡に吸着して、分離し排出することが容易にできるため、高度な研ぎと洗浄ができる高度洗浄方法及び装置を提供するものである。
【００３９】
又、ＩＣ産業や電子基盤産業においては、高度技術に成ればなるほど、従来の超純水だけの洗浄でなく、より高い効果が得られる方法が求められている。しかし、洗浄物に少しのシミや傷害も許されない。その点で、炭酸ガス、ＣＯ_２はすでに酸化されている物質であるから、ウエハーなどの酸化を防止しながらその発泡作用により超純水の被洗浄物への接触をより強力にして、洗浄をより分子レベルでおこなう事ができる高度洗浄方法及び装置を提供するものである。
【００４０】
使用される炭酸水は絶えずガス化して減少するため、連続的に補充できる機構が好ましい。又その濃度はあまり高すぎるとガス化が激しく減少する分の補充にコストがかかり過ぎて経済的でない、このため、食材の沈んだ炭酸水の表面を噴射水激する場合は作用効果が高いため炭酸水の濃度は５００ｐｐｍ程度の低い濃度でも良いが。好ましくは１０００〜４０００ｐｐｍ程度が望ましい。
【００４１】
又、洗浄に使用される炭酸水の生成は、タンク内に炭酸ガスを圧力充填して、その炭酸ガスの中にシャワー状に水を噴射して微細な水粒子として吸収させるのが望ましい。このとき、タンク内水位又は圧力が所定の条件に達したとき、排水バルブを開き、この時、排水中の流量抵抗を大きくし、排水中にタンク内の圧力が、大気圧以上の圧力状態に保持されるようにし、連続的に炭酸ガスを供給し水を加圧給水させながら高濃度炭酸泉を生成させるのが好ましい。
【００４２】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１乃至図８は本発明による洗浄方法の実施例を示す図である。
【００４３】
図１において、炭酸ガス密度の高い洗浄空間で、炭酸水による高圧噴射洗浄を行う炭酸洗浄装置１は網状の食材入りバケット３２をシリンダー機構２２の上下作動と、２１の左右作動によって矢印Ａのように作動してシリンダー機構１８により搬送コンベアー２３に乗るようになっている、
【００４４】
バケット３２は図の左側に送られて行き、上側から、さまざまな角度を有する噴射ノズル２０−Ａが複数個付いた、噴射ノズル管２０から、激しく水激シャワーに搬送されるバケット３２に向かって洗浄をおこなう。又、下部より炭酸ガスが噴射し、異物を搬送ラインの流れ方向と直角方向の両側へ向かって押し流し、排水機構（図示せず）を通って、機械の外へ排出する。
【００４５】
食材は丸ごと洗浄しても、汚れが落ちない場合が多い、細かく切断すると、重なり合い密着部分が生じる、このため、アミ籠にして搬送すると、激しい攪拌を行なっても食材がこぼれてしまはない。被洗浄物同士が影を作ったりしても激しい攪拌作用で確実に動いて、影の部分が洗浄される。
【００４６】
又、洗浄が届き難い奥のほうも、洗浄が炭酸ガスの気泡化による攪拌が起こり洗浄される。こうして、洗浄された食材は、シリンダー機構２４の上下作動とシリンダー２５の左右作動によって矢印Ｂの動きのように移動しシリンダー機構２６により搬送され搬送コンベアー２７に送られて、矢印Ｃの方向に搬出される。
【００４７】
この時、食材を運ぶアミ籠の食材搬送手段は、汚染の原因であった食材用の容器としても、完全に殺菌され人の手に触れずに製品の最終加工現場まで自動搬送することができる。
【００４８】
この洗浄に使用される炭酸水は洗浄槽１１の水をフィルター１２で濾過した後、ポンプ１３により加圧送水して反応タンク１５の噴射ノズル１４からシャワーじょうにして高圧炭酸ガスの充満した空間に噴射される。この時、炭酸ガスボンベ２９から圧力調整器３２を通り電動バルブ３４による、開閉制御を通し、逆止弁３７から反応タンク１５に供給されたものである。
【００４９】
炭酸水となった溶液は水位センサー１６，１７によって炭酸ガスが外部に漏れないように水面が制御されている。生成された炭酸水は、水位センサー１６，１７と連動した制御により作動する電動バルブ１９によって開閉制御をうける、又、電動バルブ１９の上流側には反応タンク内に炭酸ガスが圧力状態に保たれるよう直動式リリーフバルブのような流量抑制バルブ１８がある、この他にも、排出管３９が非常に細い管で流量が抑制できる、抵抗が大きい状態にしても良い。
【００５０】
又、洗浄工程を行なう搬送コンベアーの在る、上部空間１０は最初空気で満たされているが、炭酸水の激しい噴霧により炭酸ガスが増大して水面から徐々に上方に充満されてくる、この時、ガスポンプ８により電動三方バルブ９を通して外部に排出される。
【００５１】
所定時間が過ぎると、前記空間が炭酸ガスで充満し、電動三方バルブ９を圧力タンク２８側に切り替えて、圧力調整器３１を介して、ガス合流部３３を通って前記炭酸ガスボンベ２９から排出されたガスと合流して、一部は気体量調節バルブ３０で噴射量の調整うけて、搬送コンベアーのところからバケット３２に向かって噴射される。こうして炭酸ガスの消耗を防ぐようになっている。
【００５２】
洗浄工程の在る空間は隔壁７によって外部と仕切られていて、水面８はこの隔壁７の下端より上部に在るようになっている。洗浄に使用される炭酸水に次亜塩素酸濃度が１３０ｐｐｍ程度でＰｈが６程度になるよう２００〜１０００ｐｐｍ程度のもので炭酸水を希釈できるようになっており、洗浄と同時に殺菌をおこなえるよう、生成された炭酸水に次亜塩素酸溶液を混合する機構が用意されている（図示せず）。
【００５３】
図２は胃カメラの洗浄機構図である。外周部の洗浄殺菌と先端部Ｓと機械部Ｗの内部洗浄が患者ごとに、行なわれるが外側に比べて、内部はなかなか洗浄しにくい、そこで、電解強酸化水のアルカリと次亜塩素酸含有水による洗浄と殺菌が行なはれ又、過酢酸０．２％以上の溶液による殺菌がなされているが、これを一層強化するために、高濃度炭酸水を混合して洗浄することにより、今までにない速い洗浄と殺菌を可能にする実施例をしめす。
【００５４】
洗浄殺菌槽４６の中に胃カメラをセットして、Ａ，Ｂ，Ｃの洗浄水投入口から洗浄溶液タンク４３の中に、過酢酸又は、次亜塩素酸含有水等を、炭酸水と混合されたものを入れてある、又、洗浄殺菌槽４６から排水管４９を介して洗浄溶液タンク４３に戻る構造である、洗浄水は洗浄溶液タンクからポンプ４０で、気液混合部４２に供給し、ジェット流発生部４７で３箇所に分岐してＡ，Ｂ，Ｃより注入して、先端部Ｓより排出させる過程で洗浄を行なうものである。
【００５５】
気液混合部４２は炭酸ガスボンベ４４から気泡発生器４１から炭酸ガスの気泡を加圧供給するようになっているが、発生を停止できるようにバルブ４１−１がついている、又、気液混合部４２はその一部にベローズ式ポンプ４５が接続されている。この作動は電磁式が好ましいが、モーター式でも良い、この作動によってポンプより下流の送水空間が一時的に増減するようになっている。
【００５６】
ジェット流発生部４７には洗浄室に充満する炭酸ガスを吸入する吸入管４８があり、内部で３個所に分岐して吸引される、この吸入管４８は洗浄液が混入しないような個所に吸入口をセットしてある。又、洗浄殺菌槽４６機溜まった、洗浄殺菌水は排水管路４５から洗浄液タンク４３に戻り、再びポンプ４０から送り出される。
【００５７】
図３はジェット流発生部４７の内部にある液体噴射管４７−１は噴射保護管４７−２と中心線が同一線上になるようになっている。又、吸入管４８から取り入れられた炭酸ガスは３箇所の各々に在る吸入口４８−１から噴射保護管にとりこまれて、そこで大きな気泡粒子に成長して、被洗浄管路と内部装置を洗浄する。この吸入口４８−１には、逆止弁４８−３が付いていて、洗浄水がジェット流発生部４７に逆流するのを防いでいる。
【００５８】
図４は気液混合部４２の内部にある気泡発生部４２−１から炭酸ガスの気泡がポンプからの送水流に混合されていく、ただし、ベローズ式ポンプ４５が作動しているときに、炭酸ガスの供給を停止しても良い。又、気泡発生部４２−１から炭酸ガスの供給がさている時に、吸入管４８を電動バルブ４８−２によって閉じるようにしても良い。
【００５９】
図５は蓐瘡に着床したＭＲＳＡによる化膿部分５４，５５の膿を洗浄する使用状態図です。タンクを有する、ポンプユニット５０で、炭酸濃度が１０００ｐｐｍ程度の炭酸水を３７℃程度に暖め、温水洗浄水として、炭酸洗浄水が、５０〜１００ｐｐｍの次亜塩素酸含有濃度になるよう次亜塩素酸溶液を加えて、患部に霧状に患部洗浄器５２で噴霧して、膿の、受け器５３からバキューム装置５１に、吸引して洗浄と消毒治療を行なうようにしたものである。
【００６０】
図６は歯茎噴霧器５８からポンプユニット５０により加圧及び３７℃程度に加温して、歯茎の治療時に一定時間、高濃度炭酸水の温水噴霧を歯茎に霧状にして噴霧し膿の洗浄を行なうものである。
【００６１】
歯茎噴霧器５８は作動操作スイッチを有し、上部から吊り下げられていて所定の高さで固定できるようになっている。又、噴射部分は矢印で示す、Ｈ，Ｇ，Ｋの方向に霧状に噴射して所定の時間、患者さんが歯を軽くかんだ状態で歯茎に付いた膿の洗浄と温泉治療的毛細血管の発達促進効果を得るものである。
【００６２】
歯槽膿漏により劣化した細胞表面に付着した膿を、細胞の中から炭酸泉の持つ毛細管の発達刺激を促進する作用により、治療効果を高め、体の中からの排泄力を高めて、洗浄効果を一層効果の高いものにすることができる。
【００６３】
図７は食材の加工機能を有する、洗浄削り装置２を示す。削りタンク６４に加工する食材６５を満たして、ロウター６６を回して、削りながら下部より炭酸水を噴射ポケット部６８から削りタンク６４に供給し、配水管６３から汚れや、削り粕を排出して、削り加工と同時に洗浄を行なうものである。
【００６４】
図８は電子機材の表面の洗浄を超純水から生成した炭酸水と、オゾンを混合させた洗浄水に超音波を付加して洗浄を行なう洗浄ノズル装置３を示す。発振周波数１メガヘルツ〜３メガヘルツ程度の周波数を洗浄水に付加する発振部７１と発振面７２と、これが収納されている洗浄ノズル７３がある所に矢印Ａ方向よりＢ方向に、導入管７４を介して送水される。
【００６５】
洗浄水はＩＣウエハー７０の表面に、噴射水流７５として衝突し、その衝突部に超音波振動を伝え、表面に付着した異物をオゾンが酸化して、剥れ易くして、超音波振動と炭酸水の発泡する力と超純水の溶解力で汚染物質を分子レベルから剥がし、その上、炭酸ガスの気泡に吸着させて除去する、
【００６５】
【発明の効果】
本発明は近年、市場において電子機械部品や食材その他、食器や搬送用ケース類などの洗浄は細菌さえも、小さなゴミと考えるほどの洗浄能力が求められる。全ての産業分野で、極めて高い洗浄精度が要求されるようになってきた。又、治療患部の洗浄も、単に洗浄だけでなく、もっと治療自体に新しい効果をもたらすものはないかと求められている、又、電子産業はますます基盤やウエハーのプリント加工は微細になり、少しの付着物も故障の原因になる。
【００６６】
しかし、市場の要求に反して、汚染状態の悪化した食材が、大量に輸入され、また治療においても洗浄効果だけを、求めたものしか開発されていない、又、ＩＣウエハーの洗浄も超音波振動とオゾン含有超純水による洗浄があるだけである。高濃度の炭酸水による洗浄装置がこれらを解決できる、又、炭酸洗浄に、さまざまな工夫を加えると、さらに、問題の解決が容易になる。
【００６７】
本方法及び装置は、これらの相反する問題を解決することができる。特に野菜類などにおいて、中国はもとより、メキシコや南米からも輸入されており、気候環境、衛生環境の違いは、野菜類の表面に形成される、植物の分泌物や虫の量や異物の硬さ、溶けにくさ、などを異にしている。このため、従来の方法である、洗浄槽に一定量の野菜を入れ下部からエアーによる攪拌程度では、対応できなくなってきた。又、食材の周りから激しく噴射水をかけて、殺菌をおこなう方法も、影の部分ができるため、洗浄効果に位置的バラツキが生じ、対応できないが、その全てが解決される。
【００６８】
又、コンビニエンスストアーの普及により、２４時間食品を供給する社会になったが、コスト競争はますます激しく、できるだけ夜中の生産は避けたい状況にある。それには、どうしても、出荷時の菌数を下げなければならない。しかも、大量に処理をしてコストを下げる必要がある。これらを、同時に達成する処理技術がなかったが、水面近傍に食材を位置させて、激しく水激を与えることで、これらの問題が解決する。
【００６９】
又、炭酸水の発泡作用を利用して洗浄、脱臭をおこなうことも、食材に利用されていなかった。これは、炭酸水を連続的に循環式で生成する方法が開発されていなかったからである。この代わりに塩素臭の除去に、オゾンを利用して、脱臭をおこなう考えは知られているが、オゾンは作業者の多くに頭痛をもたらし、健康に有害である。こうした問題も解決できる。
【００７０】
これらの全てが一体的に解決できるよう、殺菌水が反応する方法及び機構が考案された。殺菌作用を付加できる、洗浄、方法及び、その装置は、食品業界はもとより、あらゆる業界の洗浄に役立つものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明第一の実施形態を示す洗浄装置の基本的な通常運転を示す
【図２】本発明における医療機器の洗浄として、胃カメラの外部及び内部の殺菌作用を有する洗浄機構図を示す
【図３】図２に示すジェット流発生部の詳細と作動の状態を示す
【図４】気液混合部詳細とその運転形態を示す
【図５】蓐瘡の洗浄治療の方法とその詳細を示す。
【図６】歯科治療の歯茎洗浄に使用する、歯茎噴霧器の使用方法とその詳細を示す。
【図７】削り加工機構を有する食材の洗浄削り装置の構造と運転を示す。
【図８】ＩＣウエハー表面の付着物を洗浄する、洗浄ノズル装置の構造と運転を示す。
【符号の説明】
１　　　　　　　　　炭酸洗浄装置
２　　　　　　　　　洗浄削り装置
３　　　　　　　　　洗浄ノズル装置　　　　４５　　　　　ベローズ式ポンプ
６　　　　　　　　　ガスポンプ　　　　　　４６　　　　　　洗浄殺菌槽
９　　　　　　　　　電動三方バルブ　　　　４７　　　　　ジェット流発生部
１０、　　　　　　　上部空間　　　　　　　４７−１　　　　液体噴射管
１１、３６　　　　　洗浄槽　　　　　　　　４７−２　　　　噴射保護管
１２　　　　　　　　フィルター　　　　　　４８　　　　　　吸入管
１３、４０　　　　　ポンプ　　　　　　　　４８−１　　　　吸入口
１４、２０−Ａ　　　噴射ノズル　　　　　　５０　　　　　　ポンプユニット
１５、　　　　　　　反応タンク　　　　　　５１　　　　　　バキューム装置
１６、１７　　　　　水位センサー　　　　　５２　　　　　　患部洗浄器
１８　　　　　　　　流量制御バルブ　　　　５３　　　　　　受け器
１９、３４　　　　　電動バルブ　　　　　　５４、５５　　　化膿部分
４８−２　　　　　　電動バルブ　　　　　　５７　　　　　　歯茎模型
２０　　　　　　　　噴射ノズル管　　　　　５８　　　　　　歯茎噴霧器
１８、２１、２２、　　　　　　　　　　　　６４　　　　　　削りタンク
２４、２５、２６　　シリンダー機構　　　　６５　　　　　　食材
２７、２３　　　　　搬送コンベアー　　　　６６　　　　　　ロウター
２８　　　　　　　　圧力タンク　　　　　　６７　　　　　　駆動モーター
２９、４４　　　　　炭酸ガスボンベ　　　　６８　　　　　　噴射ポケット部
３０　　　　　　　　気体量調節バルブ　　　６９　　　　　　開閉蓋
３１、３２　　　　　圧力調整器　　　　　　７０　　　　　　ＩＣウエハー
３３　　　　　　　　ガス合流部　　　　　　７１　　　　　　発振部
３７、４８−３　　　逆止弁　　　　　　　　７２　　　　　　発振面
３９、４９、６３　　排出管　　　　　　　　７３　　　　　　洗浄ノズル
４１　　　　　　　　気泡発生器　　　　　　７４　　　　　　導入管
４２　　　　　　　　気体混合部　　　　　　７５　　　　　　噴射水流
４３　　　　　　　　洗浄溶液タンク　　　　７６　　　　　　表面水流

Claims (24)

1. 食材や電子基盤及び機材、医療機械器具の洗浄又は、治療用洗浄において、炭酸濃度が３００ｐｐｍ以上６０００ｐｐｍ以下の炭酸水溶液を洗浄水又は、治療用洗浄水として使用する、洗浄をおこなう装置において、食材や電子機材、医療機械器具の汚染部分を、前記洗浄水の高圧噴射水流及び又はシャワー状の噴射水流による洗浄又、機械内部と付属の管路は、前記洗浄水に空気及び又は炭酸ガスの気泡を吸引又は、加圧混合した流水洗浄を、又、患部洗浄は前記洗浄水を２５℃〜４６℃に加熱した霧状及び又はシャワー状に噴射して、温水洗浄をおこなうようにしたことを特徴とする洗浄方法。
2. タンク内に炭酸ガスを加圧供給する機構と水を炭酸ガスの圧力に抗して噴射ノズルより炭酸ガス空間に噴射する機構を有する炭酸水生成装置において、タンク内に大気圧以上の炭酸ガスを供給するとともに、水を炭酸ガスの中に噴射ノズルからシャワー状に噴射し、水に炭酸ガスを吸収させた、炭酸水溶液であることを、更に特徴とする請求項１記載の洗浄方法
3. 炭酸水がＩＣ産業で使用されるものと同等の超純水に、炭酸ガスを溶解させた洗浄水を、内部に超音波振動子を有する噴射ノズルに前記炭酸水を通して噴射ノズルから噴射される洗浄水に、発振周波数が１メガヘルツ〜３メガヘルツ程度の振動を与えて被洗浄物を洗浄することを、更に特徴とする請求項１乃至２のいずれか一つ記載の洗浄方法。
4. 前記超純水に、炭酸ガスを溶解させた炭酸洗浄水に、オゾン濃度が０．１〜１５ｐｐｍになるようにした、炭酸ガスとオゾンの溶存水を使用し、内部に超音波振動子を有する噴射ノズルから噴射して、被洗浄物と超音波振動子との間を２センチ以内に保ちながら洗浄することを更に特徴とする請求項３記載の洗浄方法。
5. 被洗浄物が炭酸洗浄水中において水面近傍を搬送又は移動して洗浄を行なう機構を有する洗浄装置において、洗浄工程のある水面を覆う空間が、大気圧より負圧及び又は加圧状態で、炭酸ガスを充満させた空間であることを、更に特徴とする請求項１乃至３のいずれか一つ記載の洗浄方法。
6. 食材及び医療機械器具の洗浄処理に使用される炭酸水に、次亜塩素酸塩、二酸化塩素塩などの濃度が１〜１０００ｐｐｍである水溶液を塩酸、硫酸、酢酸、クエン酸などの水溶液によりｐＨ５〜９に調整したものを混合して洗浄をおこなうことを、更に特徴とする請求項１，２及び４のいずれか一つ記載の洗浄方法。
7. 治療患部の洗浄に使用される炭酸水に、次亜塩素酸塩、及び又は次亜塩素酸濃度が３０ｐｐｍ〜５００ｐｐｍの水溶液を混合して殺菌と洗浄を、同時におこなうことを、更に特徴とする請求項１乃至２のいずれか一つ記載の洗浄方法
8. 炭酸水が生理食塩水と同程度の塩分濃度であることを、更に特徴とする請求項６記載の洗浄方法。
9. 遊離塩素濃度又は、二酸化塩素濃度が１ｐｐｍ〜５００ｐｐｍの殺菌作用を有する洗浄水になるよう、次亜塩素酸濃度又は、二酸化塩素濃度が２０ｐｐｍ〜１０００ｐｐｍの殺菌水を希釈して使用することを、更に備えたことを特徴とする請求項１乃至２のいずれか一つ記載の洗浄方法。
10. 医療用機械器具及び機材の殺菌に使用される、過酢酸含有殺菌剤を０．１％〜１．０％の過酢酸濃度に成るよう炭酸濃度が３００ｐｐｍ〜６０００ｐｐｍの炭酸水で希釈して、殺菌と同時に、洗浄がおこなえるよう、更に備えたことを特徴とする請求項１乃至２のいずれか一つ記載の洗浄方法。
11. 機械に付属する管路の一部に高い圧力水流と空気又は炭酸ガスを混合して、管路内に吸引及び送水効果を、作りだす機構を有するものにおいて、気液混合流の通過によって管路内及び機械内部を洗浄することを、特徴とする請求項１，２，５，８，９のいずれか一つ記載の洗浄方法
12. 食材や電子基盤及び機材、医療機械器具の洗浄において、炭酸濃度を３００ｐｐｍ以上６０００ｐｐｍ以下の炭酸水溶液に調整する機構と前記炭酸水溶液を洗浄水として使用する高圧噴射水流及び又はシャワー状の噴射により、被洗浄物の少なくても上側方向及び又は下側方向から噴射する機構、及び又は機械の内部を前記炭酸水溶液の循環によって洗浄する機構を備えた、洗浄をおこなう装置において、食材や電子機材、医療機械器具の汚染部分の洗浄をおこなうようにしたことを特徴とする、食材や電子基盤及び機材、医療機械器具の洗浄装置。
13. タンク内に炭酸ガスを加圧供給する機構と、水を炭酸ガスの圧力に抗して、噴射ノズルより炭酸ガス空間に噴射する機構を有する、炭酸水生成装置において、タンク内を大気圧以上の炭酸ガス圧力状態に保つようにし、タンク内に水を加圧供給し、タンク内空間に、噴射ノズルを介してシャワー状に噴射する機構により、生成した炭酸水溶液であることを、特徴とする請求項１２記載の洗浄装置。
14. 炭酸洗浄水中で被洗浄物を搬送する機構と被洗浄物にシャワー状に、炭酸ガスを溶解させた洗浄水を、噴射して行われる洗浄工程が、被洗浄物を洗浄水中において、水面近傍の位置にあるようにして行われる機構とを、備えたことを特徴とする請求項１２乃至１３のいずれか一つ記載の洗浄装置。
15. 被洗浄物が炭酸洗浄水中において、水面近傍を搬送して、洗浄を行なう機構を有する洗浄装置において、洗浄工程のある水面を覆う空間を、炭酸ガスで充満させられるよう空気排出機構があり、被洗浄物を搬送過程で洗浄する機構においては、炭酸洗浄水の水面以下に沈めて移動及び又は、ウォータカーテンにより外側空間と遮断する搬送機構が、少なくても洗浄工程のある、炭酸ガスで充満した空間の搬入側と搬出側にあることを、更に特徴とする請求項１２乃至１４のいずれか一つ記載の洗浄装置。
16. 洗浄水中の被洗浄物に下側方向及び又は被洗浄物の内部に注入するよう、一つ以上の噴射機構から、洗浄により炭酸水から発生する炭酸ガス及び又は炭酸ガス供給装置から新しく供給して噴射する機構を備えたことを特徴とする請求項１２乃至１５のいずれか一つ記載の洗浄装置。
17. シャワー状に噴射する機構が上下できる機構や噴射角度を固定及び又は可変にする機構、円運動及び又は、所定の軌跡を有する繰り返し運動を、おこなう機構を更に備えたことを特徴とする請求項１２乃至１６いずれか一つ記載の洗浄装置。
18. 被洗浄物を、炭酸含有水中の水面近傍において洗浄を行なう、浸漬槽の被洗浄物近傍から吹き上げる水流及び又は、空気又は、炭酸ガス噴出流を作る機構を備え、排水口部へ泡及び異物が排出できるように、対流を起させて、上部において泡などに吸着した軽い異物を捕捉除去する機構及び又は、下部において重い異物などを補足する機構を、更に備えたことを特徴とする請求項１２乃至１７のいずれか一つ記載の洗浄装置。
19. 一定の洗浄槽に被洗浄物を収納して医療機械器具の外側及び内側を洗浄する機構において、洗浄水を内部に送水するポンプ機構と装置内部の被洗浄部の間にある、管路の一部に高い圧力水流に空気又は炭酸ガスを混合して管路内に噴射する機構か又は、炭酸ガス或いは、空気を気泡として挿入する機構を備えたことを特徴とする、請求項１２，１３及び１６のいずれか一つ記載の洗浄装置。
20. 機械内部や付属管路の洗浄を行なう、洗浄水の流速の増減及び又は、一時的に、負圧を作り出すよう、送水ポンプと被洗浄部間の洗浄空間体積が増減できるよう、ベローズ及び又はシリンダー機構を備えたことを、特徴とする請求項１２，１３，１６及び１８のいずれか一つ記載の洗浄装置。
21. 手術や皮膚治療前及び後の洗浄、蓐瘡や歯科治療時の患部洗浄を、炭酸濃度が３００ｐｐｍ〜６０００ｐｐｍである炭酸水で、２５℃〜４６℃の温水噴射及び又は温水噴霧をおこなえるように、なっていることを特徴とする治療用患部洗浄装置。
22. 使用される炭酸水が生理食塩水と同程度の塩分濃度であり、次亜塩素酸濃度が３０ｐｐｍ〜５００ｐｐｍの水溶液を混合して、殺菌と洗浄を、同時におこなえるよう、更にそなえたことを特徴とする請求項２１記載の治療用患部洗浄装置。
23. 米や大豆等の磨り潰しや外形状の砥ぎ機構を有する食材を加工する装置において炭酸濃度３００ｐｐｍ以上６０００ｐｐｍ以下の炭酸水溶液を、加工工程における洗浄作用として使用することを、特徴とする食材の加工機能を有する洗浄装置。
24. 洗浄により炭酸水から発生する炭酸ガス及び又は炭酸ガス供給装置から新しく供給して装置内に噴射する機構を備えたことを更に特徴とする請求項２３記載の食材の加工機能を有する洗浄装置。

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