JP2003528840A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2003528840A5 JP2003528840A5 JP2001570593A JP2001570593A JP2003528840A5 JP 2003528840 A5 JP2003528840 A5 JP 2003528840A5 JP 2001570593 A JP2001570593 A JP 2001570593A JP 2001570593 A JP2001570593 A JP 2001570593A JP 2003528840 A5 JP2003528840 A5 JP 2003528840A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- crystallization
- phenol
- bisphenol
- crystallizer
- crystallization tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 31
- 230000005712 crystallization Effects 0.000 description 30
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000007792 addition Methods 0.000 description 1
- 230000001174 ascending Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000012452 mother liquor Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 230000003134 recirculating Effects 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】 a)ビスフェノールおよびフェノールを含有する溶液の調製、および
b)結晶化タンク、循環ポンプおよび冷却器を有する1つまたはそれ以上の結晶化装置内での連続結晶化
を含むビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶の製造方法であって、
結晶化タンク内で結晶化される液体の滞留時間が、2〜12時間であり、
結晶化を、それぞれ上記結晶化装置からなる1〜5段階で行い、
最終結晶化段階における結晶化タンク内の温度が、40〜70℃であり、
第1の結晶化段階への流入物中のビスフェノール濃度が、15〜40質量%であり、最終結晶化段階からの流出物中において、母液中に溶解した形態のビスフェノール濃度が10〜20質量%であり、ビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶中の結晶化固体の割合が20〜30質量%である方法。
【請求項2】 ビスフェノールが、ビスフェノールAであり、フェノールが、未置換フェノールである請求項1に記載の方法。
【請求項3】 請求項1または2に記載の方法により得ることができるビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶。
【請求項4】 請求項1または2の記載に従いビスフェノールおよびフェノールの付加物を製造し、ビスフェノールおよびフェノールの付加物からビスフェノールを回収することを含むビスフェノールの製造方法。
【請求項1】 a)ビスフェノールおよびフェノールを含有する溶液の調製、および
b)結晶化タンク、循環ポンプおよび冷却器を有する1つまたはそれ以上の結晶化装置内での連続結晶化
を含むビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶の製造方法であって、
結晶化タンク内で結晶化される液体の滞留時間が、2〜12時間であり、
結晶化を、それぞれ上記結晶化装置からなる1〜5段階で行い、
最終結晶化段階における結晶化タンク内の温度が、40〜70℃であり、
第1の結晶化段階への流入物中のビスフェノール濃度が、15〜40質量%であり、最終結晶化段階からの流出物中において、母液中に溶解した形態のビスフェノール濃度が10〜20質量%であり、ビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶中の結晶化固体の割合が20〜30質量%である方法。
【請求項2】 ビスフェノールが、ビスフェノールAであり、フェノールが、未置換フェノールである請求項1に記載の方法。
【請求項3】 請求項1または2に記載の方法により得ることができるビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶。
【請求項4】 請求項1または2の記載に従いビスフェノールおよびフェノールの付加物を製造し、ビスフェノールおよびフェノールの付加物からビスフェノールを回収することを含むビスフェノールの製造方法。
本発明のビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶の製造方法において、好ましくは、循環結晶化法を行う。各結晶器段階を、処理量に対して好ましくは20〜40倍、特に好ましくは25〜35倍、特に30倍の循環速度で運転する。本発明にとって結晶器段階とは、結晶化タンク、循環ポンプおよび冷却器を有する結晶化装置であることを意味する。循環速度は、時間単位あたりの循環ポンプを通じて運ばれる量を、時間単位あたりの結晶化のために供給される全量により割った値として定められる。
本発明のビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶の製造方法において好ましくは、結晶器内の循環流を、結晶器の底部で接線方向に供給し、結晶器の頭部で中央から取り出すように実施する。
本発明のビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶の製造方法において、反応混合物が、結晶化前に好ましくは80℃未満の温度、特に好ましくは75℃、特に70℃未満の温度に冷却されるように実施する。
本発明のビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶の製造方法において、反応混合物が、結晶化前に好ましくは80℃未満の温度、特に好ましくは75℃、特に70℃未満の温度に冷却されるように実施する。
本発明のビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶の製造方法において、それから付加物が結晶化される反応混合物を、好ましくは結晶器の直接上流の循環流に混合する。
本発明のビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶の製造方法において、結晶器タンクでの上昇流速が、0.5〜4m/分、特に好ましくは2〜3m/分、まさに好ましくは約3m/分であるように進行させる。上昇流速は、底部から頂部へ移動する結晶化タンク内の液体の平均速度である。
本発明のビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶の製造方法において、結晶器タンクでの上昇流速が、0.5〜4m/分、特に好ましくは2〜3m/分、まさに好ましくは約3m/分であるように進行させる。上昇流速は、底部から頂部へ移動する結晶化タンク内の液体の平均速度である。
上記のような反応溶液の懸濁液結晶化および固/液分離の完了後に得られるBPA/フェノール付加物結晶を、必要な場合、次いでさらなる精製工程に付し、その中で、ほとんどのフェノールが除去される。
付加物結晶を、例えばフェノール、有機溶媒、水または懸濁液結晶化手順で記載した化合物混合物から、懸濁液結晶化手順に従い再結晶することができる。付加物結晶中に存在するフェノールも、適当な溶媒を選択することにより完全または部分的に除去することができる。場合により再結晶後にBPA中に残るフェノールを、次いで適当な蒸留、脱着または抽出手順により完全に除去することができる。
付加物結晶を、例えばフェノール、有機溶媒、水または懸濁液結晶化手順で記載した化合物混合物から、懸濁液結晶化手順に従い再結晶することができる。付加物結晶中に存在するフェノールも、適当な溶媒を選択することにより完全または部分的に除去することができる。場合により再結晶後にBPA中に残るフェノールを、次いで適当な蒸留、脱着または抽出手順により完全に除去することができる。
別法では、フェノールを、付加物結晶から最初に除去することもできる。このために好ましい方法は、熱不活性ガスを使用する溶融物の脱着、減圧蒸留または記載した方法の組合せである。このようにして、100ppm未満の残留フェノール濃度しか有さないBPAを付加物結晶から得ることができる。適当な反応管理および任意に安定剤を添加することにより、蒸留または脱着によるフェノールの除去中に受ける熱応力下で、BPAが著しい程度で分解しないように確保することができる。
以下で本発明の好ましい実施態様を、流れ図(図1)を使用して説明する。本発明は、この好ましい実施態様に制限されない。
図1は、ビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶を製造する2段階装置を示す。ビスフェノールおよびフェノールを含有する反応混合物の該装置への供給は、管1を介して行われる。これは管2に通じており、この管2が、熱交換器3から第1の結晶化タンク4に循環流を供給する。こうしてこの懸濁液を、結晶化タンクの底部で接線方向に供給する。反応混合物とビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶との懸濁液を、結晶化タンクの頭部で側方に引き出し、管5を通り、循環ポンプ6を介して熱交換器3に供給する。この懸濁液を、第1の結晶化タンクから管7を介して取り出し、第2の結晶化タンク8、第2の熱交換器9および第2の循環ポンプ10からなる第2の結晶化段階に供給する。最後にこの懸濁液を、さらなる処理のために、第2の結晶化タンク8から管11を介して取り出す。
図1は、ビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶を製造する2段階装置を示す。ビスフェノールおよびフェノールを含有する反応混合物の該装置への供給は、管1を介して行われる。これは管2に通じており、この管2が、熱交換器3から第1の結晶化タンク4に循環流を供給する。こうしてこの懸濁液を、結晶化タンクの底部で接線方向に供給する。反応混合物とビスフェノールおよびフェノールの付加物結晶との懸濁液を、結晶化タンクの頭部で側方に引き出し、管5を通り、循環ポンプ6を介して熱交換器3に供給する。この懸濁液を、第1の結晶化タンクから管7を介して取り出し、第2の結晶化タンク8、第2の熱交換器9および第2の循環ポンプ10からなる第2の結晶化段階に供給する。最後にこの懸濁液を、さらなる処理のために、第2の結晶化タンク8から管11を介して取り出す。
循環結晶化を、1結晶器段階につき(処理量に対し)30倍の循環速度で運転し、循環流を、結晶化タンクの底部で接線方向に供給し、結晶化タンクの頭部で中央から取り出した。
循環冷却器に、頂部から底部へ3m/秒の速度で電解研磨管(利点:冷却用表面上に付着物が少量でのみ存在することによる、結晶器/循環冷却器の長い運転時間)(表面粗さ:1μm)を通して供給した。冷却器を、定温の温水で運転した。生成物側との最大温度差は、3〜4Kであった。
循環冷却器に、頂部から底部へ3m/秒の速度で電解研磨管(利点:冷却用表面上に付着物が少量でのみ存在することによる、結晶器/循環冷却器の長い運転時間)(表面粗さ:1μm)を通して供給した。冷却器を、定温の温水で運転した。生成物側との最大温度差は、3〜4Kであった。
循環結晶化を、1結晶器段階につき(処理量に対し)5倍の循環速度で運転し、循環流を、結晶化タンクの底部で接線方向に供給し、結晶化タンクの頭部で中央から取り出した。
循環冷却器に、頂部から底部へ0.5m/秒の速度で非電解研磨管を通して供給した。冷却器を、定温の温水で運転した。生成物側との最大温度差は、3〜4Kであった。
循環冷却器に、頂部から底部へ0.5m/秒の速度で非電解研磨管を通して供給した。冷却器を、定温の温水で運転した。生成物側との最大温度差は、3〜4Kであった。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10015014.4 | 2000-03-27 | ||
DE10015014A DE10015014A1 (de) | 2000-03-27 | 2000-03-27 | Verfahren zur Herstellung von Bisphenolen |
PCT/EP2001/002845 WO2001072677A1 (de) | 2000-03-27 | 2001-03-14 | Verfahren zur herstellung von bisphenolen |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013165930A Division JP2013249306A (ja) | 2000-03-27 | 2013-08-09 | ビスフェノールの製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003528840A JP2003528840A (ja) | 2003-09-30 |
JP2003528840A5 true JP2003528840A5 (ja) | 2008-05-08 |
JP5419314B2 JP5419314B2 (ja) | 2014-02-19 |
Family
ID=7636449
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001570593A Expired - Fee Related JP5419314B2 (ja) | 2000-03-27 | 2001-03-14 | ビスフェノールの製造方法 |
JP2013165930A Pending JP2013249306A (ja) | 2000-03-27 | 2013-08-09 | ビスフェノールの製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013165930A Pending JP2013249306A (ja) | 2000-03-27 | 2013-08-09 | ビスフェノールの製造方法 |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6828465B2 (ja) |
EP (1) | EP1268379B9 (ja) |
JP (2) | JP5419314B2 (ja) |
KR (1) | KR100781863B1 (ja) |
CN (1) | CN1179931C (ja) |
AU (1) | AU2001248347A1 (ja) |
BR (1) | BR0109539A (ja) |
DE (2) | DE10015014A1 (ja) |
ES (1) | ES2217134T5 (ja) |
HK (1) | HK1053106A1 (ja) |
MX (1) | MXPA02009453A (ja) |
TW (1) | TWI252224B (ja) |
WO (1) | WO2001072677A1 (ja) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10015014A1 (de) * | 2000-03-27 | 2001-10-04 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Bisphenolen |
JP4652229B2 (ja) * | 2003-03-27 | 2011-03-16 | 三井化学株式会社 | ビスフェノールaの製造方法 |
JP4517656B2 (ja) * | 2004-02-05 | 2010-08-04 | 三菱化学株式会社 | ビスフェノールaの製造方法 |
DE102004005723A1 (de) * | 2004-02-05 | 2005-08-25 | Bayer Materialscience Ag | Herstellung von Bisphenol A mit verringertem Schwefelgehalt |
EP2089357B1 (de) * | 2006-12-11 | 2016-09-21 | Basf Se | Verfahren zur herstellung von isocyanaten |
DE102007001427A1 (de) * | 2007-01-09 | 2008-07-10 | Bayer Materialscience Ag | Kristallisationsverfahren zur Herstellung von Bisphenol A |
CN101626998B (zh) * | 2007-03-30 | 2013-05-01 | 三菱化学株式会社 | 双酚a的制备方法 |
DE102007021935A1 (de) * | 2007-05-10 | 2008-11-20 | Bayer Materialscience Ag | Verfahren und Herstellung von Bisphenol A mit verlängerter Standzeit in der Kristallisation |
JP5655397B2 (ja) * | 2010-07-01 | 2015-01-21 | 三菱化学株式会社 | ビスフェノールaの製造方法 |
KR101932818B1 (ko) * | 2015-11-19 | 2019-03-20 | 주식회사 엘지화학 | 비스페놀a 제조 장치 및 제조 방법 |
EP3487832B1 (en) | 2016-07-22 | 2020-06-03 | SABIC Global Technologies B.V. | A method for the continuous manufacture of bisphenol a |
CN114269713A (zh) | 2019-08-27 | 2022-04-01 | 科思创知识产权两合公司 | 在羟基丙酮存在下制备双酚a(bpa)的方法 |
JP2024507888A (ja) | 2021-02-23 | 2024-02-21 | コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフト | α-メチルスチレンの存在下でビスフェノールA(BPA)を作製するプロセス |
CN116867760A (zh) | 2021-02-23 | 2023-10-10 | 科思创德国股份有限公司 | 在异丙苯存在下制备双酚a(bpa)的方法 |
WO2022179902A1 (en) | 2021-02-23 | 2022-09-01 | Covestro Deutschland Ag | Process for preparing bisphenol a (bpa) in the presence of acetophenone |
KR20230149817A (ko) | 2021-02-23 | 2023-10-27 | 코베스트로 도이칠란트 아게 | 벤젠의 존재 하에 비스페놀 a (bpa)를 제조하는 방법 |
JP2024507889A (ja) | 2021-02-23 | 2024-02-21 | コベストロ、ドイチュラント、アクチエンゲゼルシャフト | 2-メチルベンゾフランの存在下でビスフェノールa(bpa)を作製するプロセス |
CN116917260A (zh) | 2021-02-23 | 2023-10-20 | 科思创德国股份有限公司 | 在至少两种杂质存在下制备双酚a(bpa)的方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2775620A (en) | 1954-07-12 | 1956-12-25 | Shell Dev | Production of bis (hydroxyaryl) substituted compounds |
JPS6236346A (ja) * | 1985-04-24 | 1987-02-17 | Mitsui Toatsu Chem Inc | アクリルアミド結晶の製造方法 |
US4859803A (en) | 1988-05-16 | 1989-08-22 | Shell Oil Company | Preparation of bisphenols |
JP3171465B2 (ja) * | 1991-10-25 | 2001-05-28 | 千代田化工建設株式会社 | 色相の良好なビスフェノールa・フェノール結晶アダクトの製造方法 |
EP0718268B1 (en) | 1991-07-10 | 1998-12-09 | Chiyoda Corporation | Process for the production of crystalline adduct of bisphenol A and phenol |
JP3413497B2 (ja) * | 1991-10-30 | 2003-06-03 | 三菱化学株式会社 | ビスフェノールaの製造方法 |
DE4408008A1 (de) * | 1994-03-10 | 1995-09-14 | Bayer Ag | Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von hochreinem Bisphenol-A |
EP0720976B2 (en) * | 1994-12-09 | 2005-05-18 | The Dow Chemical Company | Process for preparing an adduct of a bisphenol with a phenolic compound |
DE10015014A1 (de) * | 2000-03-27 | 2001-10-04 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Bisphenolen |
-
2000
- 2000-03-27 DE DE10015014A patent/DE10015014A1/de not_active Withdrawn
-
2001
- 2001-03-14 AU AU2001248347A patent/AU2001248347A1/en not_active Abandoned
- 2001-03-14 DE DE50101607T patent/DE50101607D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-14 WO PCT/EP2001/002845 patent/WO2001072677A1/de active IP Right Grant
- 2001-03-14 US US10/239,544 patent/US6828465B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-14 MX MXPA02009453A patent/MXPA02009453A/es active IP Right Grant
- 2001-03-14 EP EP01921334A patent/EP1268379B9/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-14 BR BR0109539-0A patent/BR0109539A/pt not_active Application Discontinuation
- 2001-03-14 CN CNB018071686A patent/CN1179931C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-14 KR KR1020027012693A patent/KR100781863B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2001-03-14 JP JP2001570593A patent/JP5419314B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-03-14 ES ES01921334T patent/ES2217134T5/es not_active Expired - Lifetime
- 2001-03-20 TW TW090106395A patent/TWI252224B/zh not_active IP Right Cessation
-
2003
- 2003-07-28 HK HK03105416A patent/HK1053106A1/xx not_active IP Right Cessation
-
2013
- 2013-08-09 JP JP2013165930A patent/JP2013249306A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2003528840A5 (ja) | ||
JP2949163B2 (ja) | ビスフェノール−aの精製法 | |
JP3957298B2 (ja) | アクリル酸の製造方法 | |
JP2013249306A (ja) | ビスフェノールの製造方法 | |
EP0105524B1 (en) | Countercurrent, cooling crystallization and purification method for multi-component molten mixture | |
JP7082763B2 (ja) | ジメチルスルホキシドを蒸留する方法、および、多段式蒸留塔 | |
JP2001199931A (ja) | アクリル酸の製造方法 | |
JP2005015478A (ja) | アクリル酸の製造方法 | |
JPH0480908B2 (ja) | ||
EP3820841A1 (en) | Process for producing 4,4'-dichlorodiphenyl sulfone | |
EP1173417A1 (en) | Process and apparatus for making ultra-pure dmso | |
JP2009242316A (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
JP2003523950A (ja) | ビスフェノールaの製造方法 | |
JP2824798B2 (ja) | ビスフエノールの連続精製方法 | |
JPS63185402A (ja) | 液状混合物から純粋な物質を結晶化によつて回収する方法および装置 | |
JPH0725798A (ja) | 高純度ビスフェノールaの製造方法 | |
JP2001316313A (ja) | 高品位ビスフェノールa製造のためのビスフェノールaとフェノールとの結晶アダクトの製造方法 | |
JPH0134214B2 (ja) | ||
JPH0940617A (ja) | ジアリールカーボネートの連続製造法 | |
WO1994019303A1 (en) | A dephenolization process for obtaining ultrapure polycarbonate grade bisphenol a | |
JP2007197391A (ja) | ビスフェノールaプリルの製造方法 | |
JP4658104B2 (ja) | アクリル酸の製造方法 | |
JPH0515701A (ja) | 連続晶析方法および装置 | |
JP4539012B2 (ja) | フェノールを含むビスフェノールaの精製方法 | |
JPH1045680A (ja) | ジアリールカーボネート−含有反応溶液からの懸濁結晶化法による触媒系の回収 |